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1. 发明专利

TW202018253A 曝光光角量測設備审中-公开
简体标题：曝光光角量测设备
公开(公告)号：TW202018253A
公开(公告)日：2020-05-16
申请号：TW107139872
申请日：2018-11-09
申请人：志聖工業股份有限公司 , C SUN MFG. LTD.
发明人：張永裕 , CHANG, YUNG YU , 陳明宗 , CHEN, MING TSUNG
IPC分类号： G01B11/26
摘要：本發明公開一種曝光光角量測，包含光學頭與位於光學頭一側的偵測模組。光學頭包含不透光薄膜及設置於不透光薄膜的透光基層，並且不透光薄膜形成有由貫穿狀的多個次波長環孔。光學頭能供一基準入射光穿過透光基層及多個次波長環孔，以通過貝索聚焦方式於偵測模組上形成有多個基準聚焦點。當一曝光設備所發出的一入射光穿過光學頭，以通過貝索聚焦方式於偵測模組上形成有多個聚焦點時，偵測模組能夠依據多個聚焦點分別相對於多個基準聚焦點之間的位移距離，量測出入射光相對於基準入射光的一光角。
简体摘要：本发明公开一种曝光光角量测，包含光学头与位于光学头一侧的侦测模块。光学头包含不透光薄膜及设置于不透光薄膜的透光基层，并且不透光薄膜形成有由贯穿状的多个次波长环孔。光学头能供一基准入射光穿过透光基层及多个次波长环孔，以通过贝索聚焦方式于侦测模块上形成有多个基准聚焦点。当一曝光设备所发出的一入射光穿过光学头，以通过贝索聚焦方式于侦测模块上形成有多个聚焦点时，侦测模块能够依据多个聚焦点分别相对于多个基准聚焦点之间的位移距离，量测出入射光相对于基准入射光的一光角。

2. 发明专利

TWI697740B 曝光組件及曝光裝置有权
简体标题：曝光组件及曝光设备
公开(公告)号：TWI697740B
公开(公告)日：2020-07-01
申请号：TW107100203
申请日：2018-01-03
申请人：志聖工業股份有限公司 , C SUN MFG. LTD.
发明人：張永裕 , CHANG, YUNG YU , 林振弘 , LIN, CHEN HUNG , 陳致瑋 , CHEN, JHIH WEI
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/54

3. 发明专利

TW201741774A 工件曝光方法、曝光設備及其置件機構审中-公开
简体标题：工件曝光方法、曝光设备及其置件机构
公开(公告)号：TW201741774A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：TW105116869
申请日：2016-05-30
申请人：志聖工業股份有限公司 , C SUN MFG. LTD.
发明人：張永裕 , CHANG, YUNG YU
IPC分类号： G03F7/20
摘要：一種曝光設備，包括工作腔室、位於工作腔室外側的置件區域、設置於工作腔室內的位置對準裝置與曝光裝置、分別設置於工作腔室與置件區域的兩個第一台框、及分別設置於工作腔室與置件區域的兩個第二台框。任一個第一台框可移動地與另一個第一台框進行位置交換，並且任一個第二台框可移動地與另一個第二台框進行位置交換。位於工作腔室內的所述第一台框及第二台框能通過位置對準裝置，而進行與曝光裝置間的對位。藉此，提供一種具備較佳作業效率的曝光設備。此外，本發明另提供一種工件曝光方法及曝光設備的置件機構。
简体摘要：一种曝光设备，包括工作腔室、位于工作腔室外侧的置件区域、设置于工作腔室内的位置对准设备与曝光设备、分别设置于工作腔室与置件区域的两个第一台框、及分别设置于工作腔室与置件区域的两个第二台框。任一个第一台框可移动地与另一个第一台框进行位置交换，并且任一个第二台框可移动地与另一个第二台框进行位置交换。位于工作腔室内的所述第一台框及第二台框能通过位置对准设备，而进行与曝光设备间的对位。借此，提供一种具备较佳作业效率的曝光设备。此外，本发明另提供一种工件曝光方法及曝光设备的置件机构。

4. 发明专利

TWI633356B 全內反射鏡與套筒結合應用於曝光機光源模組有权
简体标题：全内反射镜与套筒结合应用于曝光机光源模块
公开(公告)号：TWI633356B
公开(公告)日：2018-08-21
申请号：TW106123350
申请日：2017-07-12
申请人：志聖工業股份有限公司 , C SUN MFG. LTD.
发明人：張永裕 , CHANG, YUNG YU , 霍正邦 , HUO, CHENG BANG , 魏君祐 , WEI, CHUN YOU
IPC分类号： G02B7/10 , G02B26/08

5. 发明专利

TWI596449B 工件曝光方法、曝光設備及其置件機構有权
简体标题：工件曝光方法、曝光设备及其置件机构
公开(公告)号：TWI596449B
公开(公告)日：2017-08-21
申请号：TW105116869
申请日：2016-05-30
申请人：志聖工業股份有限公司 , C SUN MFG. LTD.
发明人：張永裕 , CHANG, YUNG YU
IPC分类号： G03F7/20

6. 发明专利

TWI683087B 曝光光角量測設備有权
简体标题：曝光光角量测设备
公开(公告)号：TWI683087B
公开(公告)日：2020-01-21
申请号：TW107139872
申请日：2018-11-09
申请人：志聖工業股份有限公司 , C SUN MFG. LTD.
发明人：張永裕 , CHANG, YUNG YU , 陳明宗 , CHEN, MING TSUNG
IPC分类号： G01B11/26

7. 发明专利

TWI650617B 全內反射鏡與光學透鏡組結合應用於曝光機光源模組有权
简体标题：全内反射镜与光学透镜组结合应用于曝光机光源模块
公开(公告)号：TWI650617B
公开(公告)日：2019-02-11
申请号：TW106123348
申请日：2017-07-12
申请人：志聖工業股份有限公司 , C SUN MFG. LTD.
发明人：張永裕 , CHANG, YUNG YU , 霍正邦 , HUO, CHENG BANG , 魏君祐 , WEI, CHUN YOU
IPC分类号： G03F7/207

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