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    • 1. 发明专利
    • 用於極紫外線光源之光束定位控制技術
    • 用于极紫外线光源之光束定位控制技术
    • TW201444418A
    • 2014-11-16
    • TW103109580
    • 2014-03-14
    • 希瑪有限責任公司CYMER, LLC
    • 弗魯羅夫 弗拉迪米爾BFLEUROV, VLADIMIR B.佛蒙柯維 伊格爾VFOMENKOV, IGOR V.
    • H05G2/00
    • H05G2/008
    • 一種用於極紫外線光源的系統包括一或更多個光學元件經定位用以接收一反射放大光束,並用以引導該反射放大光束進入第一、第二及第三通道,該反射放大光束包括與一標靶材料相互作用的一照射放大光束的至少一部分之反射;一感測源自於該第一通道之光線的第一感應器;一感測源自於該第二通道及該第三通道之光線的第二感應器,該第二感應器具有一較該第一感應器為低的採集率;以及一與一電腦可讀取儲存媒體耦合的電子處理器,該媒體儲存指令,當執行時,致使該處理器:自該第一感應器及該第二感應器接收數據,並根據該接收的數據,確定該照射放大光束相對於該標靶材料於一個以上的維度中的一處所。
    • 一种用于极紫外线光源的系统包括一或更多个光学组件经定位用以接收一反射放大光束,并用以引导该反射放大光束进入第一、第二及第三信道,该反射放大光束包括与一标靶材料相互作用的一照射放大光束的至少一部分之反射;一传感源自于该第一信道之光线的第一感应器;一传感源自于该第二信道及该第三信道之光线的第二感应器,该第二感应器具有一较该第一感应器为低的采集率;以及一与一电脑可读取存储媒体耦合的电子处理器,该媒体存储指令,当运行时,致使该处理器:自该第一感应器及该第二感应器接收数据,并根据该接收的数据,确定该照射放大光束相对于该标靶材料于一个以上的维度中的一处所。