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    • 1. 发明专利
    • 苯乙酸衍生物、其製備及供其製備之中間物、及含彼等之組合物
    • 苯乙酸衍生物、其制备及供其制备之中间物、及含彼等之组合物
    • TW304938B
    • 1997-05-11
    • TW084101077
    • 1995-02-09
    • 巴地斯顏料化工廠
    • 休伯特.索特艾伯瑞特.哈瑞斯法蘭茲洛爾哈伯特.拜爾華西里歐.格拉門諾路斯.慕勒雷哈德.克斯丹根
    • C07DA01NC07C
    • C07D207/333A01N37/50A01N37/52A01N43/06A01N43/36A01N43/40A01N43/54A01N43/80A01N43/82C07C251/58C07C255/11C07C327/48C07C327/58C07D213/53C07D213/64C07D239/34C07D261/08C07D263/32C07D271/06C07D277/24C07D307/42
    • 一種下式Ⅰ之苯乙酸衍生物及其農業可接受鹽類
      CC
      Ⅰ其中取代基及參數具有下列之意義: X 係O或S; R 係H或C1-C4-烷基; R1 係H或C1-C4-烷基; R2 係鹵素,C1-C4-烷基或C1-C4-烷氧基; m 係0或1; R3 係胺基,鹵素,C1-C4-烷基,C1-C4-烷氧基,
      C1-C4-烷硫基,C1-C4-烷胺基,二-C1-C4-烷胺基
      ; R4 係氰基,鹵素,C1-C6-烷基,C1-C6-烷氧基,
      C1-C6-烯氧基,這些基團之烴基有可能為部份或完
      全鹵化或帶有一至三個下列基團:苯基;苯基、五
      員雜芳基、啶基、苯并唑基,環狀基團有可能
      為部份或完全鹵化或帶有一至三個下列基團:
      C1-C6-烷基,C1-C6-烷氧基,二-C1-C6-烷胺基,
      苯基; R5 係氫,C1-C10-烷基,C2-C10-烯基,C2-C10-炔基
      ,這些基團有可能部份鹵化或帶有一至三個下列基
      團;氰基,硝基,羥基,胺羰基,C1-C6-烷氧基,
      C1-C6-烷氧羰基,C1-C6-烷胺羰基,二-C1-C6-烷
      胺羰基,苯基、基、苯氧基、五員雜芳基、啶
      基,環狀基團有可能依次部份鹵化或帶有一至三個
      下列基團:羥基,C1-C6-烷基,C1-C6-鹵烷基,
      C3-C6-環烷基,C1-C6-烷氧基,苯基,啶基,這
      些基團有可能部份鹵化或帶有一至三個下列基團
      :C1-C6-鹵烷基,其製備的方法及中間物,以及其用途。
    • 一种下式Ⅰ之苯乙酸衍生物及其农业可接受盐类 CC Ⅰ其中取代基及参数具有下列之意义: X 系O或S; R 系H或C1-C4-烷基; R1 系H或C1-C4-烷基; R2 系卤素,C1-C4-烷基或C1-C4-烷氧基; m 系0或1; R3 系胺基,卤素,C1-C4-烷基,C1-C4-烷氧基, C1-C4-烷硫基,C1-C4-烷胺基,二-C1-C4-烷胺基 ; R4 系氰基,卤素,C1-C6-烷基,C1-C6-烷氧基, C1-C6-烯氧基,这些基团之烃基有可能为部份或完 全卤化或带有一至三个下列基团:苯基;苯基、五 员杂芳基、啶基、苯并唑基,环状基团有可能 为部份或完全卤化或带有一至三个下列基团: C1-C6-烷基,C1-C6-烷氧基,二-C1-C6-烷胺基, 苯基; R5 系氢,C1-C10-烷基,C2-C10-烯基,C2-C10-炔基 ,这些基团有可能部份卤化或带有一至三个下列基 团;氰基,硝基,羟基,胺羰基,C1-C6-烷氧基, C1-C6-烷氧羰基,C1-C6-烷胺羰基,二-C1-C6-烷 胺羰基,苯基、基、苯氧基、五员杂芳基、啶 基,环状基团有可能依次部份卤化或带有一至三个 下列基团:羟基,C1-C6-烷基,C1-C6-卤烷基, C3-C6-环烷基,C1-C6-烷氧基,苯基,啶基,这 些基团有可能部份卤化或带有一至三个下列基团 :C1-C6-卤烷基,其制备的方法及中间物,以及其用途。
    • 5. 发明专利
    • 2–(O[嘧啶–4–基]伸甲氧基)苯基乙酸衍生物及其控制有害真菌及動物害蟲之用途
    • 2–(O[嘧啶–4–基]伸甲氧基)苯基乙酸衍生物及其控制有害真菌及动物害虫之用途
    • TW338708B
    • 1998-08-21
    • TW086106898
    • 1997-05-22
    • 巴地斯顏料化工廠
    • 休伯特索特艾伯哈德艾默曼佛克哈瑞斯伯德穆勒法蘭茲洛爾麥克拉克湯瑪士葛洛提
    • A01NC07D
    • 一種通式I之2-(O-[嘧啶-4-基]亞甲氧基)苯乙酸衍生物
      CC (Ⅰ)及其鹽與N-氧化物,其中R1至R3基與Q具下列定義: R1 係鹵素、C1-C2-烷基或C1-C2-鹵烷基; R2 係氫、胺基、羥基、頸基、鹵素、未經取代或經苯基
      取代烷基、鹵烷基、烷氧烷基、烷氧基、單烷胺基、
      二烷胺基、烷硫基、烷亞基、烷基、環烷基、三
      烷矽烷氧基、或:苯基、苯氧基、苯氧甲基、氧基
      或雜芳基、未經取代或取代於芳環中; R3 係氫、氰基、鹵素、C1-C4-烷基、C1-C4-鹵烷基或C1-
      C4-烷氧基; Q 係 C(=CHCH3)-COOCH3或
      C(=CHOCH3)-COOCH3,及其控制有害真菌與動物害蟲之用途。
    • 一种通式I之2-(O-[嘧啶-4-基]亚甲氧基)苯乙酸衍生物 CC (Ⅰ)及其盐与N-氧化物,其中R1至R3基与Q具下列定义: R1 系卤素、C1-C2-烷基或C1-C2-卤烷基; R2 系氢、胺基、羟基、颈基、卤素、未经取代或经苯基 取代烷基、卤烷基、烷氧烷基、烷氧基、单烷胺基、 二烷胺基、烷硫基、烷亚基、烷基、环烷基、三 烷硅烷氧基、或:苯基、苯氧基、苯氧甲基、氧基 或杂芳基、未经取代或取代于芳环中; R3 系氢、氰基、卤素、C1-C4-烷基、C1-C4-卤烷基或C1- C4-烷氧基; Q 系 C(=CHCH3)-COOCH3或 C(=CHOCH3)-COOCH3,及其控制有害真菌与动物害虫之用途。
    • 7. 发明专利
    • 亞胺氧苯基乙酸衍生物,其製備之方法與中間物及其用途
    • 亚胺氧苯基乙酸衍生物,其制备之方法与中间物及其用途
    • TW332142B
    • 1998-05-21
    • TW085116047
    • 1996-12-26
    • 巴地斯顏料化工廠
    • 伯德 穆勒休伯特索特休伯特拜爾湯瑪士葛洛提雷哈德克斯根克勞斯歐伯朵夫法蘭茲洛爾
    • A01NC07C
    • C07C251/60C07C2601/10C07C2601/14
    • 2-亞胺氧苯基乙酸衍生物
      (l)其中取代基及參數具有下列定義: R1 係C(CO2CH3)=NOCH3;(Ia),C(CONHCH3)=NOCH3(Ib),
      C(CONH2)=NOCH3(Ic),C(Co2CH3)=CHOCH3(Id)或
      C(CO2CH3)=CHCH3(Ie); R2 係氰基、硝基、鹵素、烷基、鹵烷基或烷氧基; m 係0,1或2; R3 係氫、氰基、羥基、鹵素,
      烷基、鹵烷基、烷氧烷基、烷氧基、鹵烷氧基、烷硫
      基、環丙基、烯基,
      未經取代或經取代芳氧烷基、基或氧基, R4係氫,氰基,
      未經取代或經取代烷基、烯基、炔基、環烷基、雜環
      基、芳基及雜芳基,
      未經取代或經取代烷氧基、烯氧基、炔氧基、環烷氧
      基、雜環氧基、芳氧基及雜芳氧基;
      未經取代或經取代芳硫基及雜芳硫基;
      -Q-C(R5)=N-Y1-R6或-Q-O-N-CR7R8, R3,與R4和彼等鍵結之碳原子係未經取代或經取代4至8員
      環,其除碳原子外可含1或2個氧及/或硫原子及/或NH
      及/或N(C1-C4-烷基); R3 與R4不能經由雜原子同時鏈結至碳原子;其鹽,其製法與中間物及其用途。
    • 2-亚胺氧苯基乙酸衍生物 (l)其中取代基及参数具有下列定义: R1 系C(CO2CH3)=NOCH3;(Ia),C(CONHCH3)=NOCH3(Ib), C(CONH2)=NOCH3(Ic),C(Co2CH3)=CHOCH3(Id)或 C(CO2CH3)=CHCH3(Ie); R2 系氰基、硝基、卤素、烷基、卤烷基或烷氧基; m 系0,1或2; R3 系氢、氰基、羟基、卤素, 烷基、卤烷基、烷氧烷基、烷氧基、卤烷氧基、烷硫 基、环丙基、烯基, 未经取代或经取代芳氧烷基、基或氧基, R4系氢,氰基, 未经取代或经取代烷基、烯基、炔基、环烷基、杂环 基、芳基及杂芳基, 未经取代或经取代烷氧基、烯氧基、炔氧基、环烷氧 基、杂环氧基、芳氧基及杂芳氧基; 未经取代或经取代芳硫基及杂芳硫基; -Q-C(R5)=N-Y1-R6或-Q-O-N-CR7R8, R3,与R4和彼等键结之碳原子系未经取代或经取代4至8员 环,其除碳原子外可含1或2个氧及/或硫原子及/或NH 及/或N(C1-C4-烷基); R3 与R4不能经由杂原子同时链结至碳原子;其盐,其制法与中间物及其用途。
    • 8. 发明专利
    • ╳咯氧基 基烷氧丙烯酯、彼等之製備及彼等之用途
    • ╳咯氧基 基烷氧丙烯酯、彼等之制备及彼等之用途
    • TW336227B
    • 1998-07-11
    • TW085105484
    • 1996-05-09
    • 巴地斯顏料化工廠
    • 伯德.姆勒克勞斯.歐伯得夫法蘭茲洛爾哈德曼.柯尼根修伯特.索特麥克.拉克雷納德.克史提根
    • C07DA01N
    • C07D401/04A01N43/56A01N43/653C07D231/20C07D249/12
    • 本發明係關一種通式I之化合物
      CC Ⅰ其中參數及取代基具有下列定義: n 係0或1; R 係鹵素或烷氧基; R1、R2係C1-C4烷基; R3 係式A.1至A.3之唑基或三唑基
      CC CC CC
      A.1 A.2 A.3
      標有‧鍵係結合至氧鍵且參數及取代基有下列定義: Ra 係C1-C4烷基,
      經C1-C4鹵烷基或苯基取代; m 係0、1或2,若m大於1,則取代基Rb可能相異; Rb 係氰基、鹵素、C1-C4烷基或C1-C4鹵烷基; o 係0或1; Rc 係鹵素或未經取代或經取代烷基; P 係選自由下列所組成之群、苯基、基、苯甲基、
      啶基、唑基,係經1至3個選自下列之取代基取
      代:鹵素、C1-C4鹵烷基、C1-C4烷基、氰基、C1-C4烷
      羰基、C1-C4烷氧基亞胺基-C1-C4烷基,以及,當為苯
      基或唑基時,係經C1-C4烷基及/或C1-C4烷胺基所取
      代; Rd 係氫或未經取代或經取代烷基,
      彼等之製備,及其用途。
    • 本发明系关一种通式I之化合物 CC Ⅰ其中参数及取代基具有下列定义: n 系0或1; R 系卤素或烷氧基; R1、R2系C1-C4烷基; R3 系式A.1至A.3之唑基或三唑基 CC CC CC A.1 A.2 A.3 标有‧键系结合至氧键且参数及取代基有下列定义: Ra 系C1-C4烷基, 经C1-C4卤烷基或苯基取代; m 系0、1或2,若m大于1,则取代基Rb可能相异; Rb 系氰基、卤素、C1-C4烷基或C1-C4卤烷基; o 系0或1; Rc 系卤素或未经取代或经取代烷基; P 系选自由下列所组成之群、苯基、基、苯甲基、 啶基、唑基,系经1至3个选自下列之取代基取 代:卤素、C1-C4卤烷基、C1-C4烷基、氰基、C1-C4烷 羰基、C1-C4烷氧基亚胺基-C1-C4烷基,以及,当为苯 基或唑基时,系经C1-C4烷基及/或C1-C4烷胺基所取 代; Rd 系氢或未经取代或经取代烷基, 彼等之制备,及其用途。
    • 9. 发明专利
    • 亞胺氧基亞甲基醯苯胺,其製備及其衍生物,及含彼等之組合物
    • 亚胺氧基亚甲基酰苯胺,其制备及其衍生物,及含彼等之组合物
    • TW330198B
    • 1998-04-21
    • TW084112444
    • 1995-11-22
    • 巴地斯顏料化工廠
    • 休伯.索特吉西拉.洛倫茲艾伯哈德艾默曼伯德.姆勒法蘭茲洛爾路瑟.姆勒諾伯特.高茲
    • C07C
    • C07C259/06A01N47/24A01N47/30C07C271/28C07C275/64C07C2601/02C07C2601/08C07C2601/14
    • 本發明係關於一種式I之亞胺氧基亞甲基醯苯胺或其鹽類
      CC Ⅰ其中取代基及參數具有下列意義:R 係C1-C4烷基;R1 係C1-C4烷基;X 係O或NH;n 係0或1;R3 係鹵素,C1-C4-烷基,C1-C4-烷氧基,C1-C4-烷硫基
      或C1-C4-鹵烷基;R4 係CO(NH2);CN;鹵素;C1-C4-烷氧基-C1-C4-
      烷基;C1-C4-鹵烷基;C1-C4-烷基-C1-C4-鹵烷基;
      C1-C4-烷氧基;C1-C4-烯氧基,其視情況可為C1-
      C4-烷基或鹵素取代;C1-C4-炔基-C1-C4-烷氧基;
      C1-C4-烷硫基;C3-C6-環烷氧基;C3-C6-環烷基,
      其為C1-C4-烷基所取代;C3-C6-環烯基;苯基,其
      未經取代或經NO2、鹵素、C1-C4-烷基、C1-C4-鹵
      烷基,C1-C4-烷氧基或二-C1-C6-烷胺基取代;
      基,其視情況為C1-C4-烷氧基取代;C1-C4烷基,其
      未經取代或經苯基取代,而苯基取代基又視情況為鹵
      素取代;異唑基,其經C1-C4-烷基取代;唑基,
      其經苯基取代,苯基又經C1-C4烷氧基或C1-C4-烷基
      取代;喃基;唑基,其經苯基取代,苯基又經鹵
      素取代;或苯并唑基,其經C1-C4烷基取代;以及R5 係C1-C4-烷基或C2-C6-炔基,及其鹽類,其製備的方法及中間物及含彼等之組合物。
    • 本发明系关于一种式I之亚胺氧基亚甲基酰苯胺或其盐类 CC Ⅰ其中取代基及参数具有下列意义:R 系C1-C4烷基;R1 系C1-C4烷基;X 系O或NH;n 系0或1;R3 系卤素,C1-C4-烷基,C1-C4-烷氧基,C1-C4-烷硫基 或C1-C4-卤烷基;R4 系CO(NH2);CN;卤素;C1-C4-烷氧基-C1-C4- 烷基;C1-C4-卤烷基;C1-C4-烷基-C1-C4-卤烷基; C1-C4-烷氧基;C1-C4-烯氧基,其视情况可为C1- C4-烷基或卤素取代;C1-C4-炔基-C1-C4-烷氧基; C1-C4-烷硫基;C3-C6-环烷氧基;C3-C6-环烷基, 其为C1-C4-烷基所取代;C3-C6-环烯基;苯基,其 未经取代或经NO2、卤素、C1-C4-烷基、C1-C4-卤 烷基,C1-C4-烷氧基或二-C1-C6-烷胺基取代; 基,其视情况为C1-C4-烷氧基取代;C1-C4烷基,其 未经取代或经苯基取代,而苯基取代基又视情况为卤 素取代;异唑基,其经C1-C4-烷基取代;唑基, 其经苯基取代,苯基又经C1-C4烷氧基或C1-C4-烷基 取代;喃基;唑基,其经苯基取代,苯基又经卤 素取代;或苯并唑基,其经C1-C4烷基取代;以及R5 系C1-C4-烷基或C2-C6-炔基,及其盐类,其制备的方法及中间物及含彼等之组合物。
    • 10. 发明专利
    • 苯乙酸衍生物,其製備方法及中間產物,以含其之組合物
    • 苯乙酸衍生物,其制备方法及中间产物,以含其之组合物
    • TW306908B
    • 1997-06-01
    • TW084100978
    • 1995-02-07
    • 巴地斯顏料化工廠
    • 休伯特.索特艾伯瑞特.哈瑞斯法蘭茲洛爾哈伯特.拜爾華西里歐.格拉門諾路斯.慕勒雷哈德.克斯丹根
    • C07C
    • C07D207/333A01N37/36A01N37/50A01N43/08A01N43/36A01N43/40A01N43/54A01N43/76A01N43/78A01N43/80A01N43/88C07C249/08C07C251/38C07C251/48C07C251/60C07C327/58C07C2601/02C07C2601/04C07C2601/08C07C2601/14C07D213/53C07D213/64C07D239/34C07D239/36C07D261/08C07D261/10C07D263/32C07D271/06C07D277/24C07D307/12
    • 本發明係關於下式I之苯乙酸衍生物或其鹽類□其中取代基及參數具有下列之意義:X 係NOCH3,CHOCH3或CHCH3; R1 係氫或C1-C4-烷基; R2 係鹵素,C1-C4-烷基或C1-C4-烷氧基;m 係0或1; R3 係氫,羥基,胺基,鹵素,C1-C4-烷基,C1-C4-烷
      氧基,C1-C4-烷硫基,C1-C4-烷胺基或二-C1-C4-
      烷胺基; R4 係氰基,鹵素,C1-C6-烷基,C1-C6-烷氧基,
      C2-C6-烯氧基,有可能這些基團之烴基係部份或完
      全鹵化或帶有1至3個下列基;苯基;
      苯基,異噁唑基,啶基,唑基,唑基,嗯
      基,噁唑基或喃基,有可能環狀基係部份鹵化或
      帶有1至3個下列基:硝基,C1-C6-烷基,
      C1-C6-烷氧基,二-C1-C6-烷胺基,苯基; R5 係氫,
      C1-C10-烷基,C2-C1-烯基,C2-C10-炔基,有可
      能這些基團部份鹵化或帶有1至3個下列基:氰基
      ,羥基,胺羰基,C1-C6-烷氧基,C1-C6-烷氧羰基
      ,C1-C6-烷胺羰基,苯基或基,苯氧基,嘧啶基
      ,喃基,咯基,噁唑基,異噁唑基,1,2,4-噁
      二唑基,嗯基或唑基,有可能環狀基係部份鹵
      化或帶有1至3個下列基:羥基,C1-C6- 烷基,
      C1-C6-鹵烷基,,C3-C6-環烷基,C1-C6-烷氧基,苯
      基;
      苯基,啶基,有可能這些基團部份鹵化或帶有1
      至3個下列基:硝基,C1-C6-鹵烷基;
      但若R5為C1-C4-烷基且X為CHOCH3,R3則不為氫;其製備的方法及中間物及其用途。
    • 本发明系关于下式I之苯乙酸衍生物或其盐类□其中取代基及参数具有下列之意义:X 系NOCH3,CHOCH3或CHCH3; R1 系氢或C1-C4-烷基; R2 系卤素,C1-C4-烷基或C1-C4-烷氧基;m 系0或1; R3 系氢,羟基,胺基,卤素,C1-C4-烷基,C1-C4-烷 氧基,C1-C4-烷硫基,C1-C4-烷胺基或二-C1-C4- 烷胺基; R4 系氰基,卤素,C1-C6-烷基,C1-C6-烷氧基, C2-C6-烯氧基,有可能这些基团之烃基系部份或完 全卤化或带有1至3个下列基;苯基; 苯基,异恶唑基,啶基,唑基,唑基,嗯 基,恶唑基或喃基,有可能环状基系部份卤化或 带有1至3个下列基:硝基,C1-C6-烷基, C1-C6-烷氧基,二-C1-C6-烷胺基,苯基; R5 系氢, C1-C10-烷基,C2-C1-烯基,C2-C10-炔基,有可 能这些基团部份卤化或带有1至3个下列基:氰基 ,羟基,胺羰基,C1-C6-烷氧基,C1-C6-烷氧羰基 ,C1-C6-烷胺羰基,苯基或基,苯氧基,嘧啶基 ,喃基,咯基,恶唑基,异恶唑基,1,2,4-恶 二唑基,嗯基或唑基,有可能环状基系部份卤 化或带有1至3个下列基:羟基,C1-C6- 烷基, C1-C6-卤烷基,,C3-C6-环烷基,C1-C6-烷氧基,苯 基; 苯基,啶基,有可能这些基团部份卤化或带有1 至3个下列基:硝基,C1-C6-卤烷基; 但若R5为C1-C4-烷基且X为CHOCH3,R3则不为氢;其制备的方法及中间物及其用途。