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3. 发明专利

TW201301428A 基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TW201301428A
公开(公告)日：2013-01-01
申请号：TW101110190
申请日：2012-03-23
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：菅原榮一 , SUGAWARA, EIICHI
IPC分类号： H01L21/677
CPC分类号： H01L21/67346 , H01L21/67748 , H01L21/681 , H01L21/68728 , H01L21/68742
摘要：本發明的目的在於：縮短進行設置在真空處理室的基板載置台之表面部的狀態確認或該表面部的更換所造成之真空處理的停止時間，並且高精度地管控該表面部之狀態。一種基板處理裝置，其構成為包含：常壓環境氣氛之常壓運送室，用以運送基板；真空處理室，透過真空預備室與常壓運送室連接；基板載置台，設於該真空處理室，並具有本體部以及對於該本體部任意裝卸之表面部；保管部，設於該真空預備室或常壓運送室，用以收納該表面部；以及運送機構，用以將基板從常壓運送室中通過真空預備室運送至真空處理室，或是在該保管部與該真空處理室的本體部之間運送該表面部。因此防止了真空處理室的大氣開放並且較容易確認表面部的狀態，故可高精度地管控該表面部。
简体摘要：本发明的目的在于：缩短进行设置在真空处理室的基板载置台之表面部的状态确认或该表面部的更换所造成之真空处理的停止时间，并且高精度地管控该表面部之状态。一种基板处理设备，其构成为包含：常压环境气氛之常压运送室，用以运送基板；真空处理室，透过真空预备室与常压运送室连接；基板载置台，设于该真空处理室，并具有本体部以及对于该本体部任意装卸之表面部；保管部，设于该真空预备室或常压运送室，用以收纳该表面部；以及运送机构，用以将基板从常压运送室中通过真空预备室运送至真空处理室，或是在该保管部与该真空处理室的本体部之间运送该表面部。因此防止了真空处理室的大气开放并且较容易确认表面部的状态，故可高精度地管控该表面部。

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