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热词
    • 1. 发明专利
    • 真空排氣系用閥
    • 真空排气系用阀
    • TWI243881B
    • 2005-11-21
    • TW093102547
    • 2004-02-04
    • 富士金股份有限公司 FUJIKIN INCORPORATED大見忠弘
    • 大見忠弘池田信一山路道雄北野真史森本明弘
    • H01LF16K
    • F16K7/14F16K27/003F16K51/02
    • 本發明之技術課題在於提供因應真空排氣系設備的小型化和因此達成的成本降低以及供縮短真空排氣時間的真空排氣系配管的小口徑化,可防止因氣體分解而產生的解離生成物堆積所造成的內部腐蝕或堵塞、逸漏等的閥。
      本發明用來解決此技術課題的手段為藉由將鋁鈍態使用於真空排氣系用閥等配管零件,可抑制烘烤之際溫度上昇所造成的氣體分解,適於真空排氣系的小口徑化的零件,特別製作成不會因氣體分解所產生生成物堆積而發生腐蝕或堵塞、逸漏等。
    • 本发明之技术课题在于提供因应真空排气系设备的小型化和因此达成的成本降低以及供缩短真空排气时间的真空排气系配管的小口径化,可防止因气体分解而产生的解离生成物堆积所造成的内部腐蚀或堵塞、逸漏等的阀。 本发明用来解决此技术课题的手段为借由将铝钝态使用于真空排气系用阀等配管零件,可抑制烘烤之际温度上升所造成的气体分解,适于真空排气系的小口径化的零件,特别制作成不会因气体分解所产生生成物堆积而发生腐蚀或堵塞、逸漏等。
    • 5. 发明专利
    • 流體聯結器
    • 流体连接器
    • TW538206B
    • 2003-06-21
    • TW091105286
    • 2002-03-20
    • 大見忠弘富士金股份有限公司
    • 大見忠弘山路道雄野島新也勝見雪人篠原努
    • F16L
    • 在各聯結器構件1,2之對接端面,設有圍住流體通路1a,2a且在底面作有環狀突起5,6之環狀凹處3,4。密合墊片(gasket)10係具有較環狀凹處3,4之直徑更小之外徑且位於兩聯結器構件1,2之環狀突起5,6間之密封部11,且具可嵌合於環狀凹處3,4之外徑,且由位於密封部11外側之導引部12所構成。適當地栓緊時兩聯結器構件1,2之對接端面將互相抵接。在密封部11外周設有環狀溝14,密封部11與導引部12為嵌合於此環狀溝14由扣環13連結。
    • 在各连接器构件1,2之对接端面,设有围住流体通路1a,2a且在底面作有环状突起5,6之环状凹处3,4。密合垫片(gasket)10系具有较环状凹处3,4之直径更小之外径且位于两连接器构件1,2之环状突起5,6间之密封部11,且具可嵌合于环状凹处3,4之外径,且由位于密封部11外侧之导引部12所构成。适当地栓紧时两连接器构件1,2之对接端面将互相抵接。在密封部11外周设有环状沟14,密封部11与导引部12为嵌合于此环状沟14由扣环13链接。
    • 6. 实用新型
    • 管接頭
    • 管接头
    • TW506503U
    • 2002-10-11
    • TW091202042
    • 1998-06-15
    • 大見忠弘富士金股份有限公司
    • 大見忠弘山路道雄池田信一篠原努小島徹哉
    • F16L
    • F16L19/025F16L19/0218Y10S285/917
    • 本創作係提供一種管接頭,其特徵為;各密封,突起(7)、(8)位於比接頭構件(1)(2)的對合端面內周(1a)、(2a)更靠半徑方向外側的位置,各密封突起(7)、(8)截而的輪廓形狀係由;從對合端面向半徑方向外側延伸的圓弧部(7b)、(8b),和與此圓弧部(7b)、(8b)相連的直線部(7a)、(8a)所形成,圓弧部(7b)(8b)的中心即位於比圓弧部(7b)(8b)和直線部(7a)(8a)之交差點更為半徑方向內側的位置,直線部(7a)(8a)並對軸向傾斜45℃。(選擇圖:第4圖)
    • 本创作系提供一种管接头,其特征为;各密封,突起(7)、(8)位于比接头构件(1)(2)的对合端面内周(1a)、(2a)更靠半径方向外侧的位置,各密封突起(7)、(8)截而的轮廓形状系由;从对合端面向半径方向外侧延伸的圆弧部(7b)、(8b),和与此圆弧部(7b)、(8b)相连的直线部(7a)、(8a)所形成,圆弧部(7b)(8b)的中心即位于比圆弧部(7b)(8b)和直线部(7a)(8a)之交差点更为半径方向内侧的位置,直线部(7a)(8a)并对轴向倾斜45℃。(选择图:第4图)
    • 7. 发明专利
    • 平行分流式流體供應裝置與使用該裝置之流體可變型壓力式流量控制方法及流體可變型壓力式流量控制裝置
    • 平行分流式流体供应设备与使用该设备之流体可变型压力式流量控制方法及流体可变型压力式流量控制设备
    • TW445401B
    • 2001-07-11
    • TW089107095
    • 2000-04-15
    • 富士金股份有限公司東京威力科創股份有限公司大見忠弘
    • 大見忠弘加賀爪哲廣瀨潤杉山一彥深澤和夫小泉浩長岡秀樹皆見幸男西野功二土肥亮介米華克典池田信一山路道雄森本明弘宇野富雄出田英二松本篤志上野山豊已
    • G05D
    • G05D7/0658G05D7/0664Y10S438/935Y10T137/0396Y10T137/7759Y10T137/7761Y10T137/86389Y10T137/87877Y10T137/87917
    • 一種平行分流式流體供應裝置與使用該裝置之流體的可變型壓力式流量控制方法及流體可變型壓力式流量控制裝置,從壓力調整用的l個調整器平行配設複數條流路之流體供應裝置中,使各流路之流體供應的開關操作不致對其他流路之穩態供應造成過大的變動。因此,在各流路上配設流量控制用質量流控制器MFC或壓力式流量控制裝置FCS,某流路之流體供給自關閉而開啟時,構成從其流路之質量流控制器MFC動作開始僅延遲預定的延遲時間△t到達設定流量Qs。
      又,利用l台壓力式流量控制裝置可高精度流量控制複數氣體種類及實現其裝置。因此,以臨界壓力比以下的條件理論性導出通過孔口的氣體流量,根據該式定義流動係數,利用該流動係數形成可對應多數之氣體種類者。
      亦即,將孔口8的上游側壓力P1保持在下游壓力P2約2倍以上的狀態下,通過孔口的氣體運算流量Qc以 Qc=KP1(K為常數)運算之流量控制方法中,各種類氣體係以FF=(k/γs){2/(κ+l)}](x.1)〔κ/{(κ十l)R}〕1/2計算流動係數FF,氣體種類A的運算流量為QA時,在同一孔口、同一上游側壓力及同一上游側溫度的條件下使氣體種類B流通時,以其運算流量QvB作為QvB(EFvB/EFvA)QvA算出。其中,γS為氣體的標準狀態密度,κ為氣體的比熱比,R為氣體常數,k為未依據氣體種類之比例常數,FFvA.FFvB為氣體種類A.B的流動係數。
    • 一种平行分流式流体供应设备与使用该设备之流体的可变型压力式流量控制方法及流体可变型压力式流量控制设备,从压力调整用的l个调整器平行配设复数条流路之流体供应设备中,使各流路之流体供应的开关操作不致对其他流路之稳态供应造成过大的变动。因此,在各流路上配设流量控制用质量流控制器MFC或压力式流量控制设备FCS,某流路之流体供给自关闭而打开时,构成从其流路之质量流控制器MFC动作开始仅延迟预定的延迟时间△t到达设置流量Qs。 又,利用l台压力式流量控制设备可高精度流量控制复数气体种类及实现其设备。因此,以临界压力比以下的条件理论性导出通过孔口的气体流量,根据该式定义流动系数,利用该流动系数形成可对应多数之气体种类者。 亦即,将孔口8的上游侧压力P1保持在下游压力P2约2倍以上的状态下,通过孔口的气体运算流量Qc以 Qc=KP1(K为常数)运算之流量控制方法中,各种类气体系以FF=(k/γs){2/(κ+l)}](x.1)〔κ/{(κ十l)R}〕1/2计算流动系数FF,气体种类A的运算流量为QA时,在同一孔口、同一上游侧压力及同一上游侧温度的条件下使气体种类B流通时,以其运算流量QvB作为QvB(EFvB/EFvA)QvA算出。其中,γS为气体的标准状态密度,κ为气体的比热比,R为气体常数,k为未依据气体种类之比例常数,FFvA.FFvB为气体种类A.B的流动系数。
    • 8. 发明专利
    • 流體控制系統及其所使用之閥
    • 流体控制系统及其所使用之阀
    • TW342429B
    • 1998-10-11
    • TW085101845
    • 1996-02-14
    • 大見忠弘富士金股份有限公司
    • 大見忠弘山路道雄池田信一唐土裕司
    • F16K
    • C23C16/45561B01J4/008C30B25/14C30B31/16F16K31/1226F16K31/42Y10T137/87684
    • 本發明係關於使用在製造半導體和磁性薄膜及生物關聯製品等之流體控制系統及其所使用之閥,其目的為:能夠迅速且正確地作動閥,進而促使可以正確地供給流體。
      本發明之構成要素,簡單地說係由:
      將數種類的流體G1,G2……供給至處理裝置C內之主控制管路L與分歧控制管路L1,L2;及
      由組裝於分歧控制管路L1,L2,而來進行供給至處理裝置C內之各種流體G1,G2……的切換動作之複數個閥而構成之流體控制系統,上述閥V為具備有流體壓引動器1之流體驅動型閥V′;及安裝於流體驅動型閥V′,而來將作動流體A供給至流體壓引動器1之電磁閥V〞而構成者。
    • 本发明系关于使用在制造半导体和磁性薄膜及生物关联制品等之流体控制系统及其所使用之阀,其目的为:能够迅速且正确地作动阀,进而促使可以正确地供给流体。 本发明之构成要素,简单地说系由: 将数种类的流体G1,G2……供给至处理设备C内之主控制管路L与分歧控制管路L1,L2;及 由组装于分歧控制管路L1,L2,而来进行供给至处理设备C内之各种流体G1,G2……的切换动作之复数个阀而构成之流体控制系统,上述阀V为具备有流体压引动器1之流体驱动型阀V′;及安装于流体驱动型阀V′,而来将作动流体A供给至流体压引动器1之电磁阀V〞而构成者。