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1. 发明专利

TW201540633A 薄膜卷及其製造方法、薄膜片的製造方法审中-公开
简体标题：薄膜卷及其制造方法、薄膜片的制造方法
公开(公告)号：TW201540633A
公开(公告)日：2015-11-01
申请号：TW104106336
申请日：2015-02-26
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：坂下寬幸 , SAKASHITA, HIROYUKI , 繼枝愛 , TSUGUEDA, AI , 池山昭弘 , IKEYAMA, AKIHIRO
IPC分类号： B65H18/26
摘要：本發明提供一種在捲取成卷狀時重疊之薄膜的貼附得以減少之薄膜卷及其製造方法、以及從薄膜卷切出之薄膜片及其製造方法。本發明的薄膜卷由在周面捲取有長形物之卷芯、及以卷狀捲取於卷芯的周面之長形的薄膜構成。若將薄膜捲取成卷狀，則接觸面壓施加於薄膜的薄膜面。施加於薄膜的薄膜面之接觸面壓在0.05MPa以上0.10MPa以下的範圍內的部份的靜摩擦係數為1.2以下。在薄膜面上形成有包含微粒之高度為30nm以上的突起，藉此，即使在上述接觸面壓下，靜摩擦係數亦保持得較低，為1.2以下。
简体摘要：本发明提供一种在卷取成卷状时重叠之薄膜的贴附得以减少之薄膜卷及其制造方法、以及从薄膜卷切出之薄膜片及其制造方法。本发明的薄膜卷由在周面卷取有长形物之卷芯、及以卷状卷取于卷芯的周面之长形的薄膜构成。若将薄膜卷取成卷状，则接触面压施加于薄膜的薄膜面。施加于薄膜的薄膜面之接触面压在0.05MPa以上0.10MPa以下的范围内的部份的静摩擦系数为1.2以下。在薄膜面上形成有包含微粒之高度为30nm以上的突起，借此，即使在上述接触面压下，静摩擦系数亦保持得较低，为1.2以下。

2. 发明专利

TWI653188B 薄膜卷及其製造方法、薄膜片的製造方法有权
简体标题：薄膜卷及其制造方法、薄膜片的制造方法
公开(公告)号：TWI653188B
公开(公告)日：2019-03-11
申请号：TW104106336
申请日：2015-02-26
申请人：日商富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：坂下寬幸 , SAKASHITA, HIROYUKI , 繼枝愛 , TSUGUEDA, AI , 池山昭弘 , IKEYAMA, AKIHIRO
IPC分类号： B65H18/26

3. 发明专利

TW201437004A 溶液製膜方法审中-公开
简体标题：溶液制膜方法
公开(公告)号：TW201437004A
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：TW103106372
申请日：2014-02-26
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：継枝愛 , TSUGUEDA, AI , 鷲谷公人 , WASHIYA, KIMITO , 池山昭弘 , IKEYAMA, AKIHIRO
IPC分类号： B29D11/00 , G02B5/30
摘要：本發明提供一種防止向薄膜的長邊方向拉伸之條紋的產生之溶液製膜方法。本發明製作一種由第1濃液和第2濃液構成之3層結構的薄膜。第2濃液中包含微粒。微粒藉由疏水基亦即三甲基矽烷基被進行表面包覆處理。微粒的表面包覆率至少為0.012。從流延模共流延而從傳送帶剝離第1濃液和第2濃液，並藉由拉幅機和輥乾燥裝置進行乾燥以作為薄膜。
简体摘要：本发明提供一种防止向薄膜的长边方向拉伸之条纹的产生之溶液制膜方法。本发明制作一种由第1浓液和第2浓液构成之3层结构的薄膜。第2浓液中包含微粒。微粒借由疏水基亦即三甲基硅烷基被进行表面包覆处理。微粒的表面包覆率至少为0.012。从流延模共流延而从发送带剥离第1浓液和第2浓液，并借由拉幅机和辊干燥设备进行干燥以作为薄膜。

4. 发明专利

TWI597156B 溶液製膜方法有权
简体标题：溶液制膜方法
公开(公告)号：TWI597156B
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：TW103106372
申请日：2014-02-26
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：継枝愛 , TSUGUEDA, AI , 鷲谷公人 , WASHIYA, KIMITO , 池山昭弘 , IKEYAMA, AKIHIRO
IPC分类号： B29D11/00 , G02B5/30

5. 发明专利

TW201534641A 薄膜、濃液組成物及其製造方法、以及溶液製膜方法审中-公开
简体标题：薄膜、浓液组成物及其制造方法、以及溶液制膜方法
公开(公告)号：TW201534641A
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：TW104106321
申请日：2015-02-26
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：継枝愛 , TSUGUEDA, AI , 池山昭弘 , IKEYAMA, AKIHIRO , 鷲谷公人 , WASHIYA, KIMITO
IPC分类号： C08J5/18 , C08J7/00 , C08L1/10 , C08K3/36 , G02B5/30 , B01F3/14 , B01F11/02
摘要：本發明提供一種重疊時的貼附得以減少之薄膜、用於製造該薄膜之濃液組成物及其製造方法、以及製造薄膜之溶液製膜方法。本發明的薄膜在由聚合物形成之薄膜面上形成有包含微粒之高度為30nm以上的突起。該高度為30nm以上的突起的密度在104個/mm2以上106個/mm2以下的範圍內。該些突起妨礙在重疊之薄膜中相對向之兩個薄膜面的局部相互直接接觸。藉此，可以減少薄膜重疊時的貼附。
简体摘要：本发明提供一种重叠时的贴附得以减少之薄膜、用于制造该薄膜之浓液组成物及其制造方法、以及制造薄膜之溶液制膜方法。本发明的薄膜在由聚合物形成之薄膜面上形成有包含微粒之高度为30nm以上的突起。该高度为30nm以上的突起的密度在104个/mm2以上106个/mm2以下的范围内。该些突起妨碍在重叠之薄膜中相对向之两个薄膜面的局部相互直接接触。借此，可以减少薄膜重叠时的贴附。

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