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1. 发明专利

JP2017072189A 低温液化ガスの整流装置审中-公开
公开(公告)号：JP2017072189A
公开(公告)日：2017-04-13
申请号：JP2015199253
申请日：2015-10-07
申请人：大陽日酸株式会社
发明人：米倉正浩 , 森公哉 , 大野裕貴
IPC分类号： F17C9/00
摘要：【課題】樋状流路を流れる低温液化ガスを整流する低温液化ガスの整流装置を提供する。【解決手段】本発明に係る低温液化ガスの整流装置100は、樋状流路1を流れる低温液化ガスCに被凍結物Aを投入して凍結させる凍結装置に用いるものであって、低温液化ガスCを貯留する液貯留槽21と、液貯留槽21から揚液管23を介して低温液化ガスCを汲み上げる液ポンプ25と、液ポンプ25により汲み上げられた低温液化ガスCを樋状流路1の上流側に供給する供給管27とを備え、樋状流路1は、上流側から下流側に向かって流路幅が広がる扇部3と、扇部3の下流側の端部3aから連続して流路幅が一定の定幅部5を有し、扇部3に、扇部3の上流側の端部を塞ぐ上流側壁面7と、扇部3の上面を塞ぐ蓋部9と、端部3aにおける流路幅方向の断面の上部を塞ぐ整流用緩衝板11を設けたことを特徴とするものである。【選択図】図1

2. 发明专利

JP2017023935A 液滴製造装置审中-公开
标题翻译：液滴制造设备
公开(公告)号：JP2017023935A
公开(公告)日：2017-02-02
申请号：JP2015144645
申请日：2015-07-22
申请人：大陽日酸株式会社
发明人：米倉正浩 , 森公哉 , 大野祐貴
IPC分类号： B01J4/02
摘要：【課題】ノズルから原料液を滴下して液滴を製造するにあたり、加振器等を用いずに安定して液滴を製造でき、さらに、液滴の製造が不安定になっても液滴製造に適した状態にリセットすることができる液滴製造装置を提供する。【解決手段】本発明に係る液滴製造装置1は、先端部から原料液Lが排出されるノズル3を有するものであって、原料液Lを貯留する原料タンク5と、原料液Lが流通して原料タンク5からノズル3に供給される供給配管7と、原料タンク5からノズル3へ供給される原料液Lを一定流量に調整する一定流量調整部10を有し、一定流量調整部10は、原料液Lが流通する供給配管7を所定の流路断面積に縮小させる流路縮小部11と、流路縮小部11の上流側における原料液Lの圧力p 1 を調整する圧力調整部13とで構成されていることを特徴とするものである。【選択図】図1
摘要翻译：甲在从喷嘴逐滴原液，以产生液滴，振动等能够稳定且液滴来制造而不需要使用进一步，还生产液滴变得不稳定的液滴提供的微滴的制造装置可以被重置到适于生产的状态。根据本发明的液滴制造装置1包括，是具有一个喷嘴3材料液体L从前端排出，原料罐5用于存储原料液体L中，原料液体L流并且具有从原料罐5供给到喷嘴3的供给管7，恒定流量调节单元10，用于调整以恒定的流率，以恒定的流速调节器从原料罐5供给到喷嘴3上的原料液体L 10 它是供给管7向原料液体L与规定的流路槽减速单元11流向减小到横截面面积，用于调整原料液体L的压力p1上的流路缩小单元11的上游侧的压力调整单元13 并且它的特征在于，它是由一个。点域1

3. 发明专利

JP2015169220A 冷却装置の気密構造有权
标题翻译：冷却装置的空气结构
公开(公告)号：JP2015169220A
公开(公告)日：2015-09-28
申请号：JP2014042414
申请日：2014-03-05
申请人：大陽日酸株式会社
发明人：森公哉 , 米倉正浩
IPC分类号： F25D3/10 , F16J15/10 , F16J15/46
摘要：【課題】低温条件下でも十分な気密性を得ることができ、メンテナンスも容易に行うことができる冷却装置の気密構造を提供する。【解決手段】冷却槽11と冷却槽の開口部11cを塞ぐ蓋体12とを備え、蓋体の下面に蓋体周縁部に沿って冷却槽側に突出する蓋体側凸条縁31を設け、冷却槽の側壁11bの上端面32に開口部周縁部に沿って蓋体側に突出する冷却槽側凸条縁33を設け、蓋体側凸条縁31と冷却槽側凸条縁33とが係合することにより、開口部を密封する冷却装置の気密構造において、蓋体側凸条縁の先端面31aと側壁11bの上端面32との間に介設されたチューブ固定部材35を有し、チューブ固定部材35は、蓋体側凸条縁の先端面31aと対向する部分にアリ溝35cを形成し、アリ溝に、内部に加温されたガスが供給可能なチューブ34が嵌合され、閉蓋時に、先端面31aとチューブ34とが当接し、チューブが弾性変形することによって密封する。【選択図】図5
摘要翻译：要解决的问题：提供即使在低温条件下也能够获得足够的气密性并且也容易进行维护工作的冷却装置的气密结构。冷却装置的气密结构技术领域本发明涉及一种冷却装置的气密结构，包括冷却槽11 以及用于封闭冷却箱的开口部11c的盖构件12，其中盖构件的下表面设置有沿着盖构件周向边缘朝向冷却箱突出的盖侧突出边缘31，上端表面冷却箱的侧壁11b的32,32设置有沿着开口部的周缘突出到盖构件侧的冷却槽侧突出边缘33，在冷却时的盖构件侧突出边缘31和突出边缘33 罐彼此接合以紧密地关闭开口部分。设置有设置在盖构件侧突出边缘的末端表面31a和侧壁11b的上端表面32之间的管固定构件35。管固定构件35在盖构件侧突出边缘处的与端部末端表面31a相对的部分处形成燕尾槽35c。能够在其中供应加热气体的管34装配到燕尾槽。当盖构件关闭时，末端面31a和管34彼此抵接，并且管被弹性变形而被密封。

4. 发明专利

JP2017163913A 粒状凍結装置有权
公开(公告)号：JP2017163913A
公开(公告)日：2017-09-21
申请号：JP2016053146
申请日：2016-03-16
申请人：大陽日酸株式会社
发明人：山住成正 , 竹口東士夫 , 森公哉 , 大野裕貴 , 米倉正浩
IPC分类号： A23B4/06 , B01J4/00 , F25D3/10 , A61K9/14 , A23L3/36
摘要：【課題】液滴を樋に流れる冷媒内に通す際に、各液滴が互いに付着することなく、かつ樋に付着することがないようにする。【解決手段】樋4の長手方向の途中において、側面視で、くの字に屈曲させる。その相対的角度をθとしている。これにより、装置の設置面との関係では、樋4の上流部では傾斜が比較的急となる一方、屈曲後の下流部では傾斜が比較的緩やかとなる。かかる構成により、樋4の上流部では低温液化ガスの流れを速くして液滴同士の付着を防止し、一方、下流部では、短い長さで所定時間以上の冷却作用を確保すべく、低温液化ガスの流れを遅くしている。また、樋4の下流部において、流路幅を徐々に狭めていく。それにより樋4から低温液化ガスを流出しにくくして樋4内全体の低温液化ガスの液面を上昇させ、滴下ノズルによる滴下位置における低温液化ガスの深度を所望値以上にする。【選択図】図2

5. 发明专利

JP2015129328A サブゼロ処理方法及び装置有权
标题翻译：零处理方法和装置
公开(公告)号：JP2015129328A
公开(公告)日：2015-07-16
申请号：JP2014001359
申请日：2014-01-08
申请人：大陽日酸株式会社
发明人：堀野太希 , 和田智宏 , 森公哉
IPC分类号： C21D1/58 , C21D1/18
摘要：【課題】温度ムラを防止して均一に冷却できるとともに、焼入れ油の除去も同時に行うことができるサブゼロ処理方法及び装置を提供する。【解決手段】金属材料を0℃以下に冷却してサブゼロ処理を行うサブゼロ処理方法において、サブゼロ処理を行う金属材料を投入したサブゼロ処理槽11内に、温度制御した油性の液状熱媒体を導入、導出して循環させながらサブゼロ処理を行うとともに、前記油性の液状熱媒体によって前記金属材料の洗浄を行う。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够防止温度不均匀性，从而均匀地进行冷却的次级处理方法及其装置，并且进一步同时进行淬火油的除去。解决方案：在将金属材料冷却至 0℃以下，进行亚零处理，将温度控制的油性液体热介质输送到负载有待进行稀释处理的金属材料的低压处理槽11内，进行循环，进行次级处理并且用油性液体热介质清洗金属材料。

6. 发明专利

JP6761302B2 粒状凍結物製造装置及び粒状凍結物製造方法有权
公开(公告)号：JP6761302B2
公开(公告)日：2020-09-23
申请号：JP2016164463
申请日：2016-08-25
申请人：大陽日酸株式会社
发明人：米倉正浩 , 森公哉
IPC分类号： F25D3/10 , A23L3/36 , F26B5/10

7. 发明专利

JP6192417B2 低温反応装置有权
公开(公告)号：JP6192417B2
公开(公告)日：2017-09-06
申请号：JP2013162881
申请日：2013-08-06
申请人：大陽日酸株式会社
发明人：米倉正浩 , 武内雅弘 , 森公哉
IPC分类号： B01J19/00

8. 发明专利

JP2017023934A 液滴製造装置审中-公开
标题翻译：液滴制造设备
公开(公告)号：JP2017023934A
公开(公告)日：2017-02-02
申请号：JP2015144596
申请日：2015-07-22
申请人：大陽日酸株式会社
发明人：米倉正浩 , 森公哉 , 大野祐貴
IPC分类号： B01J4/02 , A23P10/20 , B01J2/04
摘要：【課題】原料液がノズルの先端部で凍結や再固体化せずに液滴を継続して製造可能な液滴製造装置を提供する。【解決手段】本発明に係る液滴製造装置1は、原料液Lの液滴を凍結させるか又は冷却して固体化することで固体粒子を作製するに際し、原料液Lを滴下させて液滴を製造するものであって、原料液Lが流通し、先端部から鉛直下方に原料液Lを液滴として自然落下させるノズル3と、ノズル3に接触してノズル3内を流通する原料液Lを加熱する加熱部4とを備え、ノズル3の先端部と加熱部4の最下部との距離Cが、ノズル3の内径A若しくは液滴の長径Bのいずれか大きい方の値の0.5倍以上に設定されていることを特徴とするものである。【選択図】図1
摘要翻译：的起始材料的液体，以不结冰或在喷嘴的前端再固化提供连续制造的液滴制造装置的液滴。根据本发明的液滴制造装置1包括：在通过用固化或冷却以冻结原料液体L的液滴产生的固体颗粒，通过丢弃原料液体L的液滴它是那些生产原料液体L中流动，以及用于自然地从前端部垂直向下落下的材料液体L作为液滴，流过喷嘴3与喷嘴3升接触的材料液体的喷嘴3 用于加热的加热单元4，该加热部4的底部和喷嘴3的前端之间的距离C，大于0.5倍的喷嘴3的内径的或液滴的长轴B的值中较大的一个并且它的特征在于，它被设置为。点域1

9. 发明专利

JP5988905B2 サブゼロ処理装置有权
标题翻译：深冷处理设备
公开(公告)号：JP5988905B2
公开(公告)日：2016-09-07
申请号：JP2013060698
申请日：2013-03-22
申请人：大陽日酸株式会社
发明人：森公哉 , 米倉正浩 , 太田英俊
IPC分类号： C21D1/18 , F25D3/10
CPC分类号： C21D1/62 , C21D1/18 , C21D1/613 , F25D3/10 , C21D1/64

10. 发明专利

JP6596250B2 液滴製造装置有权
公开(公告)号：JP6596250B2
公开(公告)日：2019-10-23
申请号：JP2015144596
申请日：2015-07-22
申请人：大陽日酸株式会社
发明人：米倉正浩 , 森公哉 , 大野祐貴
IPC分类号： B01J4/02 , A23P10/20 , B01J2/04

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