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1. 发明专利

TWI462213B 基板處理裝置有权
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TWI462213B
公开(公告)日：2014-11-21
申请号：TW097125936
申请日：2008-07-09
申请人：大日本網屏製造股份有限公司 , DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：光吉一郎 , MITSUYOSHI, ICHIRO
IPC分类号： H01L21/677 , B65G49/07 , B65G49/06 , H01L21/30
CPC分类号： H01L21/67766 , H01L21/67772 , H01L21/67778

2. 发明专利

TWI381474B 基板處理裝置有权
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TWI381474B
公开(公告)日：2013-01-01
申请号：TW098104164
申请日：2009-02-10
申请人：大日本網屏製造股份有限公司 , DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：澁川潤 , SHIBUKAWA, JUN , 清川信治 , KIYOKAWA, SHINJI , 光吉一郎 , MITSUYOSHI, ICHIRO
IPC分类号： H01L21/67 , B08B1/04
CPC分类号： H01L21/67178 , H01L21/67046

3. 发明专利

TWI426044B 基板處理裝置及使用於其之基板搬送裝置有权
简体标题：基板处理设备及使用于其之基板搬送设备
公开(公告)号：TWI426044B
公开(公告)日：2014-02-11
申请号：TW098130024
申请日：2009-09-07
申请人：大日本網屏製造股份有限公司 , DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：光吉一郎 , MITSUYOSHI, ICHIRO , 村元僚 , MURAMOTO, RYO
IPC分类号： B65G49/07 , H01L21/677 , B25J9/04 , B25J15/08

4. 发明专利

TW201336008A 基板處理裝置及基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TW201336008A
公开(公告)日：2013-09-01
申请号：TW101149703
申请日：2012-12-25
申请人：大日本網屏製造股份有限公司 , DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：相原友明 , AIHARA, TOMOAKI , 光吉一郎 , MITSUYOSHI, ICHIRO , 前川直嗣 , MAEGAWA, TADASHI , 土谷慶一 , TSUCHIYA, KEIICHI
IPC分类号： H01L21/67
CPC分类号： H01L21/67057 , H01L21/67086
摘要：基板處理裝置(1)包括處理槽(3)、蓋部(5)、及升降部。貯存有處理液之處理槽具有上部開口(30)。蓋部包括捲繞有片狀之連續構件(50)之兩端部之一對輥(51、52)，作為一對輥間之連續構件之部位之中間部(501)係於上部開口之附近與上部開口之開口面平行地配置，藉由使輥旋轉而使中間部沿開口面移動。於連續構件形成有作為開口之通過口(502)。升降部係使基板(9)於處理槽內之處理位置與處理槽外之撤回位置之間升降。於使基板在處理位置與撤回位置之間升降時，通過口配置於上部開口之正上方。又，於在處理槽內對基板進行處理時，通過口配置於自上部開口之正上方偏移之位置，藉由連續構件而堵住上部開口。藉由節省空間之蓋部而謀求基板處理裝置之小型化。
简体摘要：基板处理设备(1)包括处理槽(3)、盖部(5)、及升降部。贮存有处理液之处理槽具有上部开口(30)。盖部包括卷绕有片状之连续构件(50)之两端部之一对辊(51、52)，作为一对辊间之连续构件之部位之中间部(501)系于上部开口之附近与上部开口之开口面平行地配置，借由使辊旋转而使中间部沿开口面移动。于连续构件形成有作为开口之通过口(502)。升降部系使基板(9)于处理槽内之处理位置与处理槽外之撤回位置之间升降。于使基板在处理位置与撤回位置之间升降时，通过口配置于上部开口之正上方。又，于在处理槽内对基板进行处理时，通过口配置于自上部开口之正上方偏移之位置，借由连续构件而堵住上部开口。借由节省空间之盖部而谋求基板处理设备之小型化。

5. 发明专利

TWI453810B 基板處理裝置有权
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TWI453810B
公开(公告)日：2014-09-21
申请号：TW100138218
申请日：2011-10-21
申请人：大日本網屏製造股份有限公司 , DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：光吉一郎 , MITSUYOSHI, ICHIRO , 柴田英樹 , SHIBATA, HIDEKI , 古田智靖 , FURUTA, TOMOYASU
IPC分类号： H01L21/30 , H01L21/677 , H01L21/687
CPC分类号： H01L21/67769

6. 发明专利

TW201340232A 基板處理裝置及基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TW201340232A
公开(公告)日：2013-10-01
申请号：TW102101315
申请日：2013-01-14
申请人：大日本網屏製造股份有限公司 , DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：相原友明 , AIHARA, TOMOAKI , 光吉一郎 , MITSUYOSHI, ICHIRO , 前川直嗣 , MAEGAWA, TADASHI , 土谷慶一 , TSUCHIYA, KEIICHI
IPC分类号： H01L21/67
摘要：乾燥處理部3係具備有處理槽5與昇降部6。昇降部係使基板在從下方支撐著直立狀態基板9的爪部61位於處理槽底部附近的液處理位置、與爪部位於處理槽上部附近的讓渡位置之間進行昇降。更設有將由一對支撐構件214所夾持的基板，在處理槽上方的搬送位置與讓渡位置之間進行昇降的移載部211。液處理位置的基板上下方向中央位置處之處理槽內側面間距離，較小於二支撐構件寬度合計加上基板直徑的值。將基板從搬送位置搬送至讓渡位置時，因為基板被載置於位在處理液中的爪部上，因而當基板所載置的爪部從處理液外進入處理液內時，可防止基板上發生條紋狀污垢。藉由處理槽的小型化亦可削減處理液的消耗量。
简体摘要：干燥处理部3系具备有处理槽5与升降部6。升降部系使基板在从下方支撑着直立状态基板9的爪部61位于处理槽底部附近的液处理位置、与爪部位于处理槽上部附近的让渡位置之间进行升降。更设有将由一对支撑构件214所夹持的基板，在处理槽上方的搬送位置与让渡位置之间进行升降的移载部211。液处理位置的基板上下方向中央位置处之处理槽内侧面间距离，较小于二支撑构件宽度合计加上基板直径的值。将基板从搬送位置搬送至让渡位置时，因为基板被载置于位在处理液中的爪部上，因而当基板所载置的爪部从处理液外进入处理液内时，可防止基板上发生条纹状污垢。借由处理槽的小型化亦可削减处理液的消耗量。

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