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1. 发明专利

TW201306938A 一種貴重金屬吸附劑的製作方法审中-公开
简体标题：一种贵重金属吸附剂的制作方法
公开(公告)号：TW201306938A
公开(公告)日：2013-02-16
申请号：TW100128285
申请日：2011-08-09
申请人：國防部軍備局中山科學研究院 , CHUNG SHAN INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY, ARMAMENTS BUREAU, M. N. D
发明人：陳彥仲 , CHEN, YEN CHUNG , 張智凱 , CHANG, CHIH KAI , 施修正 , SHY, HSIOU JENG , 左清宇 , TSO, CHING YU , 翁仁斌 , WON, JEN BIN , 葛明德 , GER, MING DER
IPC分类号： B01J20/26 , C08J3/12 , C08F2/46 , C08F20/02
摘要：本發明為提供一種貴重金屬吸附劑的製作方法，其特點在於提供單體1之組成係包含單體1與溶劑及單體2之組成係包含單體2、起始劑與陽離子分散劑(MTC)，再將單體2之組成依一定比例加入單體1之組成並均勻攪拌，使該溶液混合成均勻相，接著進行微波反應後得出一種貴重金屬吸附劑粒子。藉此，用以製備出一種貴重金屬吸附劑。
简体摘要：本发明为提供一种贵重金属吸附剂的制作方法，其特点在于提供单体1之组成系包含单体1与溶剂及单体2之组成系包含单体2、起始剂与阳离子分散剂(MTC)，再将单体2之组成依一定比例加入单体1之组成并均匀搅拌，使该溶液混合成均匀相，接着进行微波反应后得出一种贵重金属吸附剂粒子。借此，用以制备出一种贵重金属吸附剂。

2. 发明专利

TWI385217B 高溫抗氧化塗層之製作方法有权
简体标题：高温抗氧化涂层之制作方法
公开(公告)号：TWI385217B
公开(公告)日：2013-02-11
申请号：TW097142763
申请日：2008-11-05
申请人：國防部軍備局中山科學研究院 , CHUNG-SHAN INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY, ARMAMENTS BUREAU, MINISTRY OF NATIONAL DEFENSE.
发明人：左清宇 , TSO, CHING YU , 傅昌明 , FU, CHANG MING , 陳麗娟 , CHEN, LI JIUAN , 施修正 , SHY, HSIOU JENG
IPC分类号： C09D1/00 , B05D7/24

3. 发明专利

TW201425231A 一種利用離心及酸洗提高金屬鎵純度的方法审中-公开
简体标题：一种利用离心及酸洗提高金属镓纯度的方法
公开(公告)号：TW201425231A
公开(公告)日：2014-07-01
申请号：TW101148033
申请日：2012-12-18
申请人：國防部軍備局中山科學研究院 , CHUNG-SHAN INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY, ARMAMENTS, BUREAU, MINISTRY OF NATIONAL DEFENSE
发明人：陳麗娟 , CHEN, LI JIUAN , 葉盛旺 , YEH, SHANG WANQ , 左清宇 , TSO, CHING YU , 施修正 , SHY, HSIOU JENG , 楊先仁 , YANG, SHIEN JEN
IPC分类号： C01G15/00 , B01D21/26
摘要：本發明係利用離心及酸洗提高金屬鎵純度的方法，在離心過程比重較小之雜質會上浮且比重較大之雜質會下沉，因此，依位置將離心管中之粗鎵分為上面層、中間層、下層，便可從中間層會有較高純度的鎵。
简体摘要：本发明系利用离心及酸洗提高金属镓纯度的方法，在离心过程比重较小之杂质会上浮且比重较大之杂质会下沉，因此，依位置将离心管中之粗镓分为上面层、中间层、下层，便可从中间层会有较高纯度的镓。

4. 发明专利

TW201311413A 具有硬質薄膜之固定磨粒電鍍切割線审中-公开
简体标题：具有硬质薄膜之固定磨粒电镀切割线
公开(公告)号：TW201311413A
公开(公告)日：2013-03-16
申请号：TW100132488
申请日：2011-09-08
申请人：國防部軍備局中山科學研究院 , CHUNG-SHAN INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY
发明人：龔建智 , KUNG, CHIEN CHIH , 左清宇 , TSO, CHING YU , 葉盛旺 , YEH, SHANG WANG , 施修正 , SHY, HSIOU JENG
IPC分类号： B26D1/547 , H01L21/304
摘要：一種具有硬質薄膜之固定磨粒電鍍切割線，係以電鍍方式於切割線基材上固定鑲嵌有多數磨粒，而各磨粒係分別包含有磨粒粒子、及一鍍於磨粒粒子外側面之硬質薄膜，而該磨粒粒子平均粒徑為1~60μm，可選自Ti金屬或Ti合金粒子，該硬質薄膜材質為膜厚為1~40μm之鑽石薄膜，且該硬質薄膜鍍在磨粒粒子的面積為30~90%。藉此，不但可降低製作成本，且製作上較容易控制磨粒粒子之形狀與大小，同時可達到減少磨粒堆疊、增加製程速度以及提高磨粒與線基材的結合強度。
简体摘要：一种具有硬质薄膜之固定磨粒电镀切割线，系以电镀方式于切割线基材上固定镶嵌有多数磨粒，而各磨粒系分别包含有磨粒粒子、及一镀于磨粒粒子外侧面之硬质薄膜，而该磨粒粒子平均粒径为1~60μm，可选自Ti金属或Ti合金粒子，该硬质薄膜材质为膜厚为1~40μm之钻石薄膜，且该硬质薄膜镀在磨粒粒子的面积为30~90%。借此，不但可降低制作成本，且制作上较容易控制磨粒粒子之形状与大小，同时可达到减少磨粒堆栈、增加制程速度以及提高磨粒与线基材的结合强度。

5. 发明专利

TWI476158B 一種利用離心及酸洗提高金屬鎵純度的方法有权
简体标题：一种利用离心及酸洗提高金属镓纯度的方法
公开(公告)号：TWI476158B
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：TW101148033
申请日：2012-12-18
申请人：國家中山科學研究院 , NATIONAL CHUNG-SHAN INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY
发明人：陳麗娟 , CHEN, LI JIUAN , 葉盛旺 , YEH, SHANG WANQ , 左清宇 , TSO, CHING YU , 施修正 , SHY, HSIOU JENG , 楊先仁 , YANG, SHIEN JEN
IPC分类号： C01G15/00 , B01D21/26

6. 发明专利

TWI628258B 從廢螢光粉中產製紅光螢光粉之方法有权
简体标题：从废萤光粉中产制红光萤光粉之方法
公开(公告)号：TWI628258B
公开(公告)日：2018-07-01
申请号：TW104112310
申请日：2015-04-17
申请人：國家中山科學研究院 , NATIONAL CHUNG-SHAN INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY
发明人：鄭名津 , CHENG, MING CHIN , 陳渝叡 , CHEN, YU JUEI , 施修正 , SHY, HSIOU JENG , 左清宇 , TSO, CHING YU , 李清華 , LEE, CHING HWA , 潘姿妤 , PAN, ZI YU , 陳俊臣 , CHEN, JUN CHEN
IPC分类号： C09K11/01 , C09K11/08 , C09K11/77 , B09B3/00

7. 发明专利

TW201638295A 從廢螢光粉中產製紅光螢光粉之方法审中-公开
简体标题：从废萤光粉中产制红光萤光粉之方法
公开(公告)号：TW201638295A
公开(公告)日：2016-11-01
申请号：TW104112310
申请日：2015-04-17
申请人：國家中山科學研究院 , NATIONAL CHUNG-SHAN INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY
发明人：鄭名津 , CHENG, MING CHIN , 陳渝叡 , CHEN, YU JUEI , 施修正 , SHY, HSIOU JENG , 左清宇 , TSO, CHING YU , 李清華 , LEE, CHING HWA , 潘姿妤 , PAN, ZI YU , 陳俊臣 , CHEN, JUN CHEN
IPC分类号： C09K11/01 , C09K11/08 , C09K11/77 , B09B3/00
CPC分类号： Y02W30/72
摘要：本發明係提供一種從廢螢光粉中產製紅光螢光粉之方法，其係包含有下列步驟：將廢螢光粉加入第一浸漬劑形成第一浸漬液，使該第一浸漬液於第一預定溫度下浸漬第一預定時間後，過濾該第一浸漬液，得到第一濾渣及第一含銪、釔、鋁濾液；在該第一含銪、釔、鋁濾液加入第一鹼液，得到第一含鈉之銪、釔沉澱化合物；以熱水淋洗該第一含鈉之銪、釔沉澱化合物，去除其表面之鈉，得到第一銪、釔沉澱化合物；將該第一銪、釔沉澱化合物於第二預定溫度及第二預定時間下進行烘乾；將該第一銪、釔沉澱化合物於第三預定溫度及第三預定時間下進行高溫氧化，即可獲得含銪、釔之紅光螢光粉。藉此，可由廢螢光粉中產製出紅光螢光粉，進而達到廢螢光粉中有價銪、釔金屬資源回收再利用之目的。
简体摘要：本发明系提供一种从废萤光粉中产制红光萤光粉之方法，其系包含有下列步骤：将废萤光粉加入第一浸渍剂形成第一浸渍液，使该第一浸渍液于第一预定温度下浸渍第一预定时间后，过滤该第一浸渍液，得到第一滤渣及第一含铕、钇、铝滤液；在该第一含铕、钇、铝滤液加入第一碱液，得到第一含钠之铕、钇沉淀化合物；以热水淋洗该第一含钠之铕、钇沉淀化合物，去除其表面之钠，得到第一铕、钇沉淀化合物；将该第一铕、钇沉淀化合物于第二预定温度及第二预定时间下进行烘干；将该第一铕、钇沉淀化合物于第三预定温度及第三预定时间下进行高温氧化，即可获得含铕、钇之红光萤光粉。借此，可由废萤光粉中产制出红光萤光粉，进而达到废萤光粉中有价铕、钇金属资源回收再利用之目的。

8. 发明专利

TW201638342A 釔的純化方法审中-公开
简体标题：钇的纯化方法
公开(公告)号：TW201638342A
公开(公告)日：2016-11-01
申请号：TW104112311
申请日：2015-04-17
申请人：國家中山科學研究院 , NATIONAL CHUNG-SHAN INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY
发明人：鄭名津 , CHENG, MING CHIN , 吳東駿 , WU, TUNG CHUN , 左清宇 , TSO, CHING YU , 施修正 , SHY, HSIOU JENG , 楊先仁 , YANG, SHIEN JEN
IPC分类号： C22B7/00 , B09B3/00 , C22B59/00 , C22B9/00
CPC分类号： Y02P10/212
摘要：本發明係提供一種釔的純化方法，係利用高溫飽和溶解、低溫再結晶、高溫還原與汽化去雜質等步驟，進行元素釔的提純。本發明具有簡單、低成本的優勢，且不易產生製程原料污染釔元素的問題。
简体摘要：本发明系提供一种钇的纯化方法，系利用高温饱和溶解、低温再结晶、高温还原与汽化去杂质等步骤，进行元素钇的提纯。本发明具有简单、低成本的优势，且不易产生制程原料污染钇元素的问题。

9. 发明专利

TWI446960B 一種貴重金屬吸附劑的製作方法有权
简体标题：一种贵重金属吸附剂的制作方法
公开(公告)号：TWI446960B
公开(公告)日：2014-08-01
申请号：TW100128285
申请日：2011-08-09
申请人：國家中山科學研究院 , NATIONAL CHUNG-SHAN INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY
发明人：陳彥仲 , CHEN, YEN CHUNG , 張智凱 , CHANG, CHIH KAI , 施修正 , SHY, HSIOU JENG , 左清宇 , TSO, CHING YU , 翁仁斌 , WON, JEN BIN , 葛明德 , GER, MING DER
IPC分类号： B01J20/26 , C08J3/12 , C08F2/46 , C08F20/02

10. 发明专利

TW201815679A 一種含釔氧化銪去除釔的純化方法审中-公开
简体标题：一种含钇氧化铕去除钇的纯化方法
公开(公告)号：TW201815679A
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：TW105133956
申请日：2016-10-21
申请人：國家中山科學研究院 , NATIONAL CHUNG-SHAN INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY
发明人：吳東駿 , WU, TUNG CHUN , 施修正 , SHY, HSIOU JENG , 左清宇 , TSO, CHING YU , 楊先仁 , YANG, SHIEN JEN
IPC分类号： C01F17/00
摘要：一種含釔氧化銪去除釔的純化方法，步驟包括：(A)提供一含釔氧化銪溶於一溶劑中，以獲得一飽和含釔之銪化合物溶液；(B)將該飽和含釔之銪化合物溶液進行一低溫再結晶處理，以獲得一含銪之沉澱物；(C)將該含銪之沉澱物進行一鍛燒處理後溶於一無機酸中，以獲得一含銪金屬之電解液；(D)將該含銪金屬之電解液進行一電化學還原處理後加入一沈澱劑而得一銪化合物。藉此，可從螢光粉中將含釔氧化銪中的釔去除，使氧化銪進行純化，達到銪有價金屬的回收純化再利用，以降低環境污染之危害。
简体摘要：一种含钇氧化铕去除钇的纯化方法，步骤包括：(A)提供一含钇氧化铕溶于一溶剂中，以获得一饱和含钇之铕化合物溶液；(B)将该饱和含钇之铕化合物溶液进行一低温再结晶处理，以获得一含铕之沉淀物；(C)将该含铕之沉淀物进行一锻烧处理后溶于一无机酸中，以获得一含铕金属之电解液；(D)将该含铕金属之电解液进行一电化学还原处理后加入一沈淀剂而得一铕化合物。借此，可从萤光粉中将含钇氧化铕中的钇去除，使氧化铕进行纯化，达到铕有价金属的回收纯化再利用，以降低环境污染之危害。

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