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1. 发明专利

TWI649862B 光感測器及其之訊號讀出方法以及固體攝像裝置及其之訊號讀出方法有权
简体标题：光传感器及其之信号读出方法以及固体摄像设备及其之信号读出方法
公开(公告)号：TWI649862B
公开(公告)日：2019-02-01
申请号：TW104137743
申请日：2015-11-16
申请人：國立大學法人東北大學 , TOHOKU UNIVERSITY
发明人：須川成利 , SUGAWA, SHIGETOSHI , 黒田理人 , KURODA, RIHITO , 若嶋駿一 , WAKASHIMA, SHUNICHI
IPC分类号： H01L27/146 , H04N5/369 , H04N5/374

2. 发明专利

TWI444040B 固態攝影元件有权
简体标题：固态摄影组件
公开(公告)号：TWI444040B
公开(公告)日：2014-07-01
申请号：TW098119309
申请日：2009-06-10
申请人：國立大學法人東北大學 , TOHOKU UNIVERSITY , 島津製作所股份有限公司 , SHIMADZU CORPORATION
发明人：須川成利 , SUGAWA, SHIGETOSHI , 近藤泰志 , KONDO, YASUSHI , 富永秀樹 , TOMINAGA, HIDEKI
IPC分类号： H04N5/335 , G01J1/44 , H01L27/146
CPC分类号： H04N5/335 , H01L27/14643 , H04N5/355 , H04N5/378

3. 发明专利

TW201513202A 蝕刻方法审中-公开
简体标题：蚀刻方法
公开(公告)号：TW201513202A
公开(公告)日：2015-04-01
申请号：TW102135316
申请日：2013-09-30
申请人：國立大學法人東北大學 , TOHOKU UNIVERSITY
发明人：酒井健 , SAKAI, TAKESHI , 吉田達朗 , YOSHIDA, TATSURO , 吉川和博 , YOSHIKAWA, KAZUHIRO , 須川成利 , SUGAWA, SHIGETOSHI
IPC分类号： H01L21/306
摘要：本發明之課題，係在於提供一種能夠以高生產性來生產具有優良平滑性和平面性之表面的Si基體之蝕刻方法。在於Si基體之表面上伴隨有發熱反應之蝕刻處理中，對於前述表面之複數的特定位置之溫度作計測，並因應於該計測值，而對於前述表面進行加熱或冷卻。
简体摘要：本发明之课题，系在于提供一种能够以高生产性来生产具有优良平滑性和平面性之表面的Si基体之蚀刻方法。在于Si基体之表面上伴随有发热反应之蚀刻处理中，对于前述表面之复数的特定位置之温度作计测，并因应于该计测值，而对于前述表面进行加热或冷却。

4. 发明专利

TWI466541B 光感測器及固態攝影裝置有权
简体标题：光传感器及固态摄影设备
公开(公告)号：TWI466541B
公开(公告)日：2014-12-21
申请号：TW095129174
申请日：2006-08-09
申请人：國立大學法人東北大學 , TOHOKU UNIVERSITY
发明人：須川成利 , SUGAWA, SHIGETOSHI , 赤羽奈奈 , AKAHANE, NANA , 足立理 , ADACHI, SATORU
IPC分类号： H04N5/335 , H04N1/028 , H04N5/235 , H01L27/146 , H01L27/148

5. 发明专利

TWI458346B 固態攝影元件及其驅動方法有权
简体标题：固态摄影组件及其驱动方法
公开(公告)号：TWI458346B
公开(公告)日：2014-10-21
申请号：TW098119310
申请日：2009-06-10
申请人：國立大學法人東北大學 , TOHOKU UNIVERSITY , 島津製作所股份有限公司 , SHIMADZU CORPORATION
发明人：須川成利 , SUGAWA, SHIGETOSHI , 近藤泰志 , KONDO, YASUSHI , 富永秀樹 , TOMINAGA, HIDEKI
IPC分类号： H04N5/335
CPC分类号： H04N5/378 , H01L27/14843 , H04N5/3575 , H04N5/37452

6. 发明专利

TWI392880B 元件識別方法、元件製造方法以及電子元件失效
简体标题：组件识别方法、组件制造方法以及电子组件
公开(公告)号：TWI392880B
公开(公告)日：2013-04-11
申请号：TW095130233
申请日：2006-08-17
申请人：愛德萬測試股份有限公司 , ADVANTEST CORPORATION , 國立大學法人東北大學 , NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION TOHOKU UNIVERSITY
发明人：岡安俊幸 , OKAYASU, TOSHIYUKI , 須川成利 , SUGAWA, SHIGETOSHI , 寺本章伸 , TERAMOTO, AKINOBU
IPC分类号： G01R31/26
CPC分类号： H01L23/544 , G01R31/31718 , G11C2029/4402 , H01L21/76254 , H01L22/14 , H01L2223/5444 , H01L2924/0002 , Y10T29/49004 , H01L2924/00

7. 发明专利

TWI671517B 濃度測定方法有权
简体标题：浓度测定方法
公开(公告)号：TWI671517B
公开(公告)日：2019-09-11
申请号：TW104131476
申请日：2015-09-23
申请人：國立大學法人東北大學 , TOHOKU UNIVERSITY
发明人：須川成利 , SUGAWA, SHIGETOSHI , 黒田理人 , KURODA, RIHITO
IPC分类号： G01N21/17 , G01N21/25

8. 发明专利

TW201605066A 紫外光用固體受光元件审中-公开
简体标题：紫外光用固体受光组件
公开(公告)号：TW201605066A
公开(公告)日：2016-02-01
申请号：TW104107837
申请日：2015-03-12
申请人：國立大學法人東北大學 , TOHOKU UNIVERSITY
发明人：須川成利 , SUGAWA, SHIGETOSHI , 黑田理人 , KURODA, RIHITO
IPC分类号： H01L31/10 , G01J1/02
CPC分类号： G01J1/429 , G01J1/1626 , H01L27/142 , H01L27/1443 , H01L31/09 , Y02E10/50
摘要：本發明旨在提供一種紫外光用固體受光元件，其以簡單構造可精確且適當地測量對人體有害之紫外光照射量，亦容易與周邊電路之感測器一體製作，小型・輕量且低成本並適於攜帶(mobile)或穿戴(wearable)。具備差動電路，該差動電路分別輸入有：根據第一光二極體(1)、第二光二極體(2)、及來自此等光二極體(1)、(2)之輸出之信號，於上述光二極體(1)、(2)內及設於各光二極體上之半導體層區域，分別設置半導體雜質之最大濃度位置。
简体摘要：本发明旨在提供一种紫外光用固体受光组件，其以简单构造可精确且适当地测量对人体有害之紫外光照射量，亦容易与周边电路之传感器一体制作，小型・轻量且低成本并适于携带(mobile)或穿戴(wearable)。具备差动电路，该差动电路分别输入有：根据第一光二极管(1)、第二光二极管(2)、及来自此等光二极管(1)、(2)之输出之信号，于上述光二极管(1)、(2)内及设于各光二极管上之半导体层区域，分别设置半导体杂质之最大浓度位置。

9. 发明专利

TW201448677A 電漿產生裝置、電漿處理裝置、電漿產生方法及電漿處理方法审中-公开
简体标题：等离子产生设备、等离子处理设备、等离子产生方法及等离子处理方法
公开(公告)号：TW201448677A
公开(公告)日：2014-12-16
申请号：TW102121284
申请日：2013-06-14
申请人：國立大學法人東北大學 , TOHOKU UNIVERSITY
发明人：後藤哲也 , GOTO, TETSUYA , 平山昌樹 , HIRAYAMA, MASAKI , 須川成利 , SUGAWA, SHIGETOSHI , 大見忠弘 , OHMI, TADAHIRO
IPC分类号： H05H1/30
摘要：提供一種電漿產生裝置，能夠實質地消弭電漿激發區域的周邊存在之電極等構件材料因受到加速的電子而被濺鍍之情形。具備：電漿形成用的電極(10)，具有主面(10a)及背面(10b)；高頻供給部(100，70，60)，將頻率200MHz以上的高頻電力供給至電極(10)；及磁場形成機構(50)，設於電極(10)的背面側，包含N極與前述背面相向配置之第1固定磁鐵(56)，和S極與前述背面相向配置之第2固定磁鐵(58)，形成迴圈狀的磁場區域(LMR)，用以將被激發之電漿閉鎖於主面(10a)附近；磁場形成機構(50)所形成之迴圈狀的磁場區域(LMR)，在與主面(10a)平行之方向具有3000高斯以上的強磁場。
简体摘要：提供一种等离子产生设备，能够实质地消弭等离子激发区域的周边存在之电极等构件材料因受到加速的电子而被溅镀之情形。具备：等离子形成用的电极(10)，具有主面(10a)及背面(10b)；高频供给部(100，70，60)，将频率200MHz以上的高频电力供给至电极(10)；及磁场形成机构(50)，设于电极(10)的背面侧，包含N极与前述背面相向配置之第1固定磁铁(56)，和S极与前述背面相向配置之第2固定磁铁(58)，形成循环状的磁场区域(LMR)，用以将被激发之等离子闭锁于主面(10a)附近；磁场形成机构(50)所形成之循环状的磁场区域(LMR)，在与主面(10a)平行之方向具有3000高斯以上的强磁场。

10. 发明专利

TWI405462B 固態攝影元件及其驅動方法有权
简体标题：固态摄影组件及其驱动方法
公开(公告)号：TWI405462B
公开(公告)日：2013-08-11
申请号：TW097134048
申请日：2008-09-05
申请人：島津製作所股份有限公司 , SHIMADZU CORPORATION , 國立大學法人東北大學 , TOHOKU UNIVERSITY
发明人：須川成利 , SUGAWA, SHIGETOSHI , 近藤泰志 , KONDO, YASUSHI , 富永秀樹 , TOMINAGA, HIDEKI
IPC分类号： H04N5/335
CPC分类号： H04N5/35572 , H04N5/3559 , H04N5/3575 , H04N5/3742 , H04N5/37452 , H04N5/378

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