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2. 发明专利

TWI340287B 週期性區域反轉結構的製造方法 FABRICATION METHOD OF PERIODIC DOMAIN INVERSION STRUCTURE 有权
简体标题：周期性区域反转结构的制造方法 FABRICATION METHOD OF PERIODIC DOMAIN INVERSION STRUCTURE
公开(公告)号：TWI340287B
公开(公告)日：2011-04-11
申请号：TW095122233
申请日：2006-06-21
申请人：國立中央大學
发明人：陳志臣 , 江昌鴻 , 李有璋 , 簡政尉
IPC分类号： G02F , H01L
CPC分类号： G03F7/70408
摘要：一種週期性區域反轉結構的製造方法。提供非線性光學鐵電晶體基板。於基板的上表面及下表面形成一層光阻層，並以二束雷射光干涉所形成的週期性干涉條紋來對基板上表面的光阻層進行曝光。同時，這兩束雷射光會穿透基板，以利用這些週期性干涉條紋對下表面的光阻層進行曝光。進行顯影製程，以於基板的兩個表面形成週期性的光阻圖案。於基板上形成一層導體層，覆蓋光阻圖案及暴露的基板表面。以剝離法移除光阻圖案及光阻圖案上的部分導體層。經由殘留的導體層對基板施加電壓，以極化部分基板。
简体摘要：一种周期性区域反转结构的制造方法。提供非线性光学铁晶体管基板。于基板的上表面及下表面形成一层光阻层，并以二束激光光干涉所形成的周期性干涉条纹来对基板上表面的光阻层进行曝光。同时，这两束激光光会穿透基板，以利用这些周期性干涉条纹对下表面的光阻层进行曝光。进行显影制程，以于基板的两个表面形成周期性的光阻图案。于基板上形成一层导体层，覆盖光阻图案及暴露的基板表面。以剥离法移除光阻图案及光阻图案上的部分导体层。经由残留的导体层对基板施加电压，以极化部分基板。

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