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1. 发明专利

JP6345524B2 電気化学プロセスによる化学品の製造方法及び製造装置有权
公开(公告)号：JP6345524B2
公开(公告)日：2018-06-20
申请号：JP2014151704
申请日：2014-07-25
申请人：国立研究開発法人産業技術総合研究所
发明人：佐山和弘 , 三石雄悟 , 福康二郎 , ワンニイニイ
IPC分类号： C25B1/16 , C25B1/22 , B01J35/02 , B01J23/30 , C25B15/02

2. 发明专利

JP2017171554A 過酸化水素の製造方法および製造装置审中-公开
公开(公告)号：JP2017171554A
公开(公告)日：2017-09-28
申请号：JP2016062043
申请日：2016-03-25
申请人：国立研究開発法人産業技術総合研究所
发明人：福康二郎 , 草間仁 , 佐山和弘
IPC分类号： C01B15/027
CPC分类号： Y02P20/135
摘要：【課題】太陽光などの光エネルギーを利用し、可視光応答性n型半導体を導電性基板に備えた半導体光電極を用いて水から過酸化水素水を効率よく製造することのできる過酸化水素の製造方法や製造装置を提供する。【解決手段】炭酸塩を含む電解液と、該電解液中に設けられたアノード電極を用い、アノード電極表面に光を照射して酸化還元方法によって過酸化水素を製造する、水の光電気化学反応による過酸化水素の製造方法であって、前記アノード電極は、表面の可視光応答性n型半導体と、該n型半導体に担持されAg、Al、Co、Cu、Nb、Ni、Ta、Ti、Zr、La、Ce、In、Si、Znから選択される1種又は2種以上の元素の酸化物とを有するものであることを特徴とする。【選択図】図1

3. 发明专利

JP2017039981A 過酸化水素の製造方法および製造装置审中-公开
标题翻译：用于制造过氧化氢的方法和装置
公开(公告)号：JP2017039981A
公开(公告)日：2017-02-23
申请号：JP2015163005
申请日：2015-08-20
申请人：国立研究開発法人産業技術総合研究所
发明人：福康二郎 , 草間仁 , 佐山和弘
IPC分类号： C01B15/027 , C25B9/00 , C25B15/02 , C25B11/06 , C25B1/30
摘要：【課題】太陽光などの光エネルギーを一切用いることなく、水の酸化的な電気化学反応により比較的安価に効率よく過酸化水素を製造することのできる過酸化水素の製造方法や製造装置を提供する。【解決手段】炭酸塩を含む電解液と、該電解液中に設けられ、固体酸化物を表面に有するアノード電極を用い、アノード電極を+1.8V(RHE)よりも正の電位にして水の酸化的な電気化学反応により過酸化水素を製造することを特徴とする。【選択図】図1
摘要翻译：甲不使用任何光能如太阳光，提供一种制造方法和过氧化氢的制造装置可以相对便宜地生产并有效的过氧化氢的氧化的水的电化学反应到。含有碳酸酯的电解液，在电解液中提供，使用在表面上具有固体氧化物的阳极电极，在阳极电极+ 1.8V水比正电位（RHE）通过氧化电化学反应生产过氧化氢的，其特征在于。 1点域

4. 发明专利

JP6554642B2 過酸化水素の製造方法および製造装置有权
公开(公告)号：JP6554642B2
公开(公告)日：2019-08-07
申请号：JP2015163005
申请日：2015-08-20
申请人：国立研究開発法人産業技術総合研究所
发明人：福康二郎 , 草間仁 , 佐山和弘
IPC分类号： C01B15/027 , C25B9/00 , C25B15/02 , C25B11/06 , C25B1/30

5. 发明专利

JP6418906B2 光エネルギーの利用方法および光エネルギーの利用装置审中-公开
公开(公告)号：JP6418906B2
公开(公告)日：2018-11-07
申请号：JP2014227981
申请日：2014-11-10
申请人：国立研究開発法人産業技術総合研究所
发明人：佐山和弘 , 福康二郎 , 三石雄悟
IPC分类号： C25B9/08 , C25B11/06 , C01B3/04 , C01B13/02 , C25B1/30
CPC分类号： Y02E60/364

6. 发明专利

JP2016089250A 光エネルギーの利用方法および光エネルギーの利用装置审中-公开
标题翻译：光能的利用方法和光能的利用装置
公开(公告)号：JP2016089250A
公开(公告)日：2016-05-23
申请号：JP2014227981
申请日：2014-11-10
申请人：国立研究開発法人産業技術総合研究所
发明人：佐山和弘 , 福康二郎 , 三石雄悟
IPC分类号： C25B9/08 , C25B11/06 , C01B3/04 , C01B13/02 , C25B1/30
CPC分类号： Y02E60/364
摘要：【課題】半導体光電極を用いて、有用な酸化生成物を効率よく製造・捕集する。【解決手段】光エネルギーの利用装置10は、半導体光電極に光を照射して被酸化物から酸化生成物を生成する。光エネルギーの利用装置10は、電解槽12と、アノード電極14と、カソード電極16と、アノード電解液18と、カソード電解液20とを備えている。電解槽12は、隔膜22で区分されたアノード室24およびカソード室26を備えている。アノード電極14はアノード室24に設けられ、n型半導体30を表面に備えている。カソード電極16はカソード室26に設けられ、直流電源を介してアノード電極14と電気的に接続されている。アノード電解液18は、炭酸イオン、リン酸イオン、ホウ酸イオン、および過塩素酸イオンの中から選択される1以上のアニオンと、これらのアニオンと異なる被酸化物とを含有している。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：通过使用半导体光电极有效地产生和收集有用的氧化产物。解决方案：光能利用装置10通过在半导体光电极上施加光从被氧化的材料产生氧化产物。光能利用装置10包括电解槽12，阳极14，阴极16，阳极电解质18和阴极电解质20.电解槽12包括阳极室24和阴极室26，阴极室由隔膜22隔开。阳极电极14安装在阳极室24中，并且在其表面上包括n型电极30。阴极电极16安装在阴极室26中，并通过直流电源与阳极电极14电连接。阳极电解质18包含一种或多种选自碳酸根离子，磷酸根离子，硼酸根离子和高氯酸根离子的阴离子，以及与这些阴离子不同的被氧化物质。图1

7. 发明专利

JP6694646B2 過酸化水素の製造方法および製造装置有权
公开(公告)号：JP6694646B2
公开(公告)日：2020-05-20
申请号：JP2016062043
申请日：2016-03-25
申请人：国立研究開発法人産業技術総合研究所
发明人：福康二郎 , 草間仁 , 佐山和弘
IPC分类号： C01B15/027

8. 发明专利

JP6388820B2 光エネルギーの利用方法および光エネルギーの利用装置有权
公开(公告)号：JP6388820B2
公开(公告)日：2018-09-12
申请号：JP2014227980
申请日：2014-11-10
申请人：国立研究開発法人産業技術総合研究所
发明人：佐山和弘 , 福康二郎 , 三石雄悟
IPC分类号： H01M14/00 , C25B11/06 , C25B1/26 , C25B1/24 , C25B1/30 , C25B9/00

9. 发明专利

JP2016089249A 光エネルギーの利用方法および光エネルギーの利用装置审中-公开
标题翻译：光能的利用方法和光能的利用装置
公开(公告)号：JP2016089249A
公开(公告)日：2016-05-23
申请号：JP2014227980
申请日：2014-11-10
申请人：国立研究開発法人産業技術総合研究所
发明人：佐山和弘 , 福康二郎 , 三石雄悟
IPC分类号： H01M14/00 , C25B11/06 , C25B1/26 , C25B1/24 , C25B1/30 , C25B9/00
摘要：【課題】必要に応じた場所と時間で、純度の高い酸素を製造・捕集する光エネルギーの利用方法を提供する。【解決手段】光エネルギーの利用方法は、電解槽12のアノード室18内に設けられたアノード電極22の表面のn型半導体26に光を照射して、標準酸化還元電位が+1.23V(RHE)より正側である酸化還元反応によって硫酸イオン等の被酸化物から生成する過硫酸イオン等の酸化生成物をアノード室18内に蓄積する蓄積工程と、アノード室18内に蓄積した酸化生成物をアノード室18と異なる容器14に移した後、この酸化生成物を分解して酸素ガスを発生させ、発生した酸素ガスを捕集する反応工程とを有する。カソード室20内では、水から水素ガスが生成する。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供在必要的地点和时间产生和收集高纯度氧的光能的利用方法。解决方案：光能的利用方法包括：累积步骤在阳极室18积聚氧化产物例如通过氧化还原反应从被氧化物质如硫酸根离子产生的过硫酸根离子，其中标准氧化还原电位比+1.23V（RHE）更正，通过在阳极电极22上的n型半导体26上施加光安装在电解槽12的阳极室18中; 以及将积聚在阳极室18中的氧化物转移到与阳极室18不同的容器14中的反应步骤，然后通过分解氧化产物产生氧气，并收集产生的氧气。在阴极室20中，由水产生氢气。图1：

10. 发明专利

JP2016029199A 電気化学プロセスによる化学品の製造方法及び製造装置有权
标题翻译：通过电化学方法生产化学品的方法和装置
公开(公告)号：JP2016029199A
公开(公告)日：2016-03-03
申请号：JP2014151704
申请日：2014-07-25
申请人：国立研究開発法人産業技術総合研究所
发明人：佐山和弘 , 三石雄悟 , 福康二郎 , ワンニイニイ
IPC分类号： C25B1/16 , C25B1/22 , B01J35/02 , B01J23/30 , C25B15/02
摘要：【課題】本発明は、酸化還元媒体(レドックス媒体)の光触媒反応と、イオン交換膜を用いた電気化学プロセスによる酸性および塩基性の化学品合成の低電圧化の方法、並びに当該方法を用いた反応装置を提供する。【解決手段】金属塩の水溶液を原料とし、カチオン交換膜で原料金属のカチオンをカソード電極側に移動させて、アノード電極側及びカソード電極側に、それぞれ塩基性の水溶液及び酸性の水溶液を製造する電気化学プロセスにおいて、光触媒反応で生じたレドックス媒体の還元体を含む溶液をアノード電極側の金属塩の水溶液に含有させることにより電解電圧を低下させる。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种通过氧化还原介质（氧化还原介质）的光催化反应和通过使用离子交换膜的电化学方法来降低酸性和碱性化学品的合成中的电压的方法，以及反应装置采用上述方法。在以金属盐水溶液为原料的电化学方法中，通过阳离子交换膜将原料金属的阳离子移动到阴极侧，从而生成碱性水溶液和在阳极电极侧和阴极侧的酸性水溶液分别通过将含有由光催化反应生成的氧化还原介质的还原剂的溶液并入阳极上的金属盐的水溶液中而降低电解电压电极侧。选择图：图1

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