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1. 发明专利

TWI667055B 土壤等之除污方法及土壤等之除污系統有权
简体标题：土壤等之除污方法及土壤等之除污系统
公开(公告)号：TWI667055B
公开(公告)日：2019-08-01
申请号：TW104141719
申请日：2015-12-11
申请人：吉田英夫 , YOSHIDA, HIDEO , 日商森田宮田工業股份有限公司 , MORITA MIYATA CORPORATION
发明人：吉田英夫 , YOSHIDA, HIDEO , 須山泰敬 , SUYAMA, YASUHIRO
IPC分类号： B01D11/02 , C02F1/46 , B09C1/00 , G21F9/28

2. 发明专利

TW201630646A 土壤等之除污方法及土壤等之除污系統审中-公开
简体标题：土壤等之除污方法及土壤等之除污系统
公开(公告)号：TW201630646A
公开(公告)日：2016-09-01
申请号：TW104141719
申请日：2015-12-11
申请人：吉田英夫 , YOSHIDA, HIDEO , 森田宮田工業股份有限公司 , MORITA MIYATA CORPORATION
发明人：吉田英夫 , YOSHIDA, HIDEO , 須山泰敬 , SUYAMA, YASUHIRO
IPC分类号： B01D11/02 , C02F1/46 , B09C1/00 , G21F9/28
CPC分类号： G21F9/002 , B09C1/08 , C02F1/28 , C02F1/46104 , C02F2101/006 , C02F2201/46105 , G21F9/04 , G21F9/06 , G21F9/12 , G21F9/125 , G21F9/28 , G21F9/30
摘要：本發明提供一種土壤等之除污方法及土壤等之除污系統，其可在現場可靠且迅速地對例如被放射性物質污染的田地等的土壤或水進行精密的除污並提高除污效率，同時在除污後的土壤中添加土壤活性劑而改良土壤，將其迅速地送回至原來的田地而促進農耕的恢復；另一方面，將附著或沉積在土壤中的放射性物質從土壤中精密地分離、濃縮，由此，實現減少污染土壤的體積與對放射性物質的安全處理，並且實現對放射性銫、氚的除污，消除由氚的內部放射所引起的不安，並且實現對除污裝置合理且安全的廢棄處理。該土壤等之除污方法中，將被放射性物質污染的除污對象物導入於洗提溶劑而溶出，從該洗提溶劑中分離放射性物質。除污對象物包含污染土壤和污染水，採集此等中的一者或兩者並導入至洗提溶劑中。將溶出於洗提溶劑的放射性物質與除污對象物進行固液分離。回收已去除放射性物質的固液分離後的土壤，同時將固液分離後的包含洗提溶劑與污染水的分離液導入至電解槽並電解。使放射性物質等的金屬離子析出於陰極。在電解槽內部捕集因電解而產生的包含氚的氫。將氫移動到電解槽的外部並捕獲。
简体摘要：本发明提供一种土壤等之除污方法及土壤等之除污系统，其可在现场可靠且迅速地对例如被放射性物质污染的田地等的土壤或水进行精密的除污并提高除污效率，同时在除污后的土壤中添加土壤活性剂而改良土壤，将其迅速地送回至原来的田地而促进农耕的恢复；另一方面，将附着或沉积在土壤中的放射性物质从土壤中精密地分离、浓缩，由此，实现减少污染土壤的体积与对放射性物质的安全处理，并且实现对放射性铯、氚的除污，消除由氚的内部放射所引起的不安，并且实现对除污设备合理且安全的废弃处理。该土壤等之除污方法中，将被放射性物质污染的除污对象物导入于洗提溶剂而溶出，从该洗提溶剂中分离放射性物质。除污对象物包含污染土壤和污染水，采集此等中的一者或两者并导入至洗提溶剂中。将溶出于洗提溶剂的放射性物质与除污对象物进行固液分离。回收已去除放射性物质的固液分离后的土壤，同时将固液分离后的包含洗提溶剂与污染水的分离液导入至电解槽并电解。使放射性物质等的金属离子析出于阴极。在电解槽内部捕集因电解而产生的包含氚的氢。将氢移动到电解槽的外部并捕获。

3. 发明专利

TWI564094B 土壤等之除污方法及土壤等之除污系統有权
简体标题：土壤等之除污方法及土壤等之除污系统
公开(公告)号：TWI564094B
公开(公告)日：2017-01-01
申请号：TW102127947
申请日：2013-08-05
申请人：吉田英夫 , YOSHIDA, HIDEO , 森田宮田工業股份有限公司 , MORITA MIYATA CORPORATION
发明人：吉田英夫 , YOSHIDA, HIDEO , 須山泰敬 , SUYAMA, YASUHIRO
IPC分类号： B09C1/02
CPC分类号： B09C1/08 , B01D11/02 , B01D11/0284 , B01D11/0288 , G21F9/001 , G21F9/06 , G21F9/08 , G21F9/28 , G21F9/30

4. 发明专利

TWI647108B 工件之皮膜形成構造及工件之皮膜形成方法有权
简体标题：工件之皮膜形成构造及工件之皮膜形成方法
公开(公告)号：TWI647108B
公开(公告)日：2019-01-11
申请号：TW104122727
申请日：2015-07-14
申请人：吉田英夫 , YOSHIDA, HIDEO
发明人：吉田英夫 , YOSHIDA, HIDEO , 須山泰敬 , SUYAMA, YASUHIRO
IPC分类号： B32B3/00 , B32B7/04 , B32B9/00 , C25D9/00 , C23C18/16

5. 发明专利

TW201412418A 土壤等之除污方法及土壤等之除污系統审中-公开
简体标题：土壤等之除污方法及土壤等之除污系统
公开(公告)号：TW201412418A
公开(公告)日：2014-04-01
申请号：TW102127947
申请日：2013-08-05
申请人：吉田英夫 , YOSHIDA, HIDEO , 森田防災科技股份有限公司 , MORITA BOHSAI TECH CORPORATION
发明人：吉田英夫 , YOSHIDA, HIDEO , 須山泰敬 , SUYAMA, YASUHIRO
IPC分类号： B09C1/02
CPC分类号： B09C1/08 , B01D11/02 , B01D11/0284 , B01D11/0288 , G21F9/001 , G21F9/06 , G21F9/08 , G21F9/28 , G21F9/30
摘要：本發明提供一種土壤等之除污方法及土壤等之除污系統，其等於現場確實且迅速地對例如被放射性物質污染之田地等之土壤或水進行除污，實現精密之除污與除污之效率提高，並且於除污後之土壤中添加土壤活性劑而改良土壤，並將其迅速地送回至原來之田地而促進農耕之恢復，另一方面，自土壤中精密地分離、濃縮附著或沈積於土壤之放射性物質，而實現污染土壤之減容化與放射性物質之安全處理。本發明之土壤等之除污方法係將被放射性物質污染之除污對象物導入至酸性之洗提溶劑56中而溶出。自上述洗提溶劑56濃縮並分離放射性物質。上述除污對象物包含污染土壤17與污染液體4。採集除污對象物之污染土壤17或污染液體4之一者或兩者並導入至洗提溶劑56。使於洗提溶劑56中溶出之放射性物質與上述除污對象物2、17固液分離。回收自洗提溶劑56分離並經除污之土壤17a。濃縮自上述土壤17a分離且溶出有放射性物質之洗提溶劑56。
简体摘要：本发明提供一种土壤等之除污方法及土壤等之除污系统，其等于现场确实且迅速地对例如被放射性物质污染之田地等之土壤或水进行除污，实现精密之除污与除污之效率提高，并且于除污后之土壤中添加土壤活性剂而改良土壤，并将其迅速地送回至原来之田地而促进农耕之恢复，另一方面，自土壤中精密地分离、浓缩附着或沉积于土壤之放射性物质，而实现污染土壤之减容化与放射性物质之安全处理。本发明之土壤等之除污方法系将被放射性物质污染之除污对象物导入至酸性之洗提溶剂56中而溶出。自上述洗提溶剂56浓缩并分离放射性物质。上述除污对象物包含污染土壤17与污染液体4。采集除污对象物之污染土壤17或污染液体4之一者或两者并导入至洗提溶剂56。使于洗提溶剂56中溶出之放射性物质与上述除污对象物2、17固液分离。回收自洗提溶剂56分离并经除污之土壤17a。浓缩自上述土壤17a分离且溶出有放射性物质之洗提溶剂56。

6. 发明专利

TW201643036A 工件之皮膜形成構造及工件之皮膜形成方法审中-公开
简体标题：工件之皮膜形成构造及工件之皮膜形成方法
公开(公告)号：TW201643036A
公开(公告)日：2016-12-16
申请号：TW104122727
申请日：2015-07-14
申请人：吉田英夫 , YOSHIDA, HIDEO
发明人：吉田英夫 , YOSHIDA, HIDEO , 須山泰敬 , SUYAMA, YASUHIRO
IPC分类号： B32B3/00 , B32B7/04 , B32B9/00 , C25D9/00 , C23C18/16
CPC分类号： C23C18/168 , B32B9/005 , B32B15/04 , B32B15/20 , B32B21/04 , B32B27/06 , B32B2457/00 , C23C18/1648 , C23C18/1662 , C23C18/1692 , C23C18/36 , C25D9/08 , C25D9/10 , C25D9/12
摘要：本發明提供一種工件之皮膜形成構造及工件之皮膜形成方法，係於工件緊密地析出柔軟且具有絕緣性與耐蝕性之次氧化物或氧化物之薄膜之一次皮膜，將工件與一次皮膜一體化而防止一次皮膜之剝離，提高其加工性，並且使塗膜等二次皮膜呈薄膜且緊密地密接於一次皮膜，謀求塗料等之使用量之降低，並且將一次皮膜與二次皮膜一體化而防止二次皮膜之剝離，提高二次皮膜形成後之加工性，另一方面可合理地形成一次及二次皮膜。本發明係於工件3之表面形成有皮膜之工件之皮膜形成構造。本發明於上述工件3之表面析出有包括包含金屬之次氧化物或氧化物之薄膜之一次皮膜23。本發明將上述一次皮膜23形成為多孔質皮膜。
简体摘要：本发明提供一种工件之皮膜形成构造及工件之皮膜形成方法，系于工件紧密地析出柔软且具有绝缘性与耐蚀性之次氧化物或氧化物之薄膜之一次皮膜，将工件与一次皮膜一体化而防止一次皮膜之剥离，提高其加工性，并且使涂膜等二次皮膜呈薄膜且紧密地密接于一次皮膜，谋求涂料等之使用量之降低，并且将一次皮膜与二次皮膜一体化而防止二次皮膜之剥离，提高二次皮膜形成后之加工性，另一方面可合理地形成一次及二次皮膜。本发明系于工件3之表面形成有皮膜之工件之皮膜形成构造。本发明于上述工件3之表面析出有包括包含金属之次氧化物或氧化物之薄膜之一次皮膜23。本发明将上述一次皮膜23形成为多孔质皮膜。

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