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    • 2. 发明专利
    • 畫素結構及其製造方法 PIXEL STRUCTURE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
    • 像素结构及其制造方法 PIXEL STRUCTURE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
    • TWI369554B
    • 2012-08-01
    • TW096150582
    • 2007-12-27
    • 友達光電股份有限公司
    • 林祥麟曹俊杰
    • G02FH01L
    • G02F1/133555G02F1/136227H01L27/124H01L27/1248
    • 一種畫素結構包括依序配置於一基板上之一閘極、一閘極介電層、一具有一位於閘極上方之通道區的圖案化半導體層、一包括一位於閘極上方之蝕刻終止層及多個凸塊的圖案化介電層、一包括一反射畫素電極及分別覆蓋通道區部份區域的一源極與一汲極的圖案化金屬層、一平坦化介電層及一透明畫素電極。反射畫素電極連接汲極並覆蓋這些凸塊,以形成一凹凸表面。平坦化介電層配置於閘極、閘極介電層、圖案化半導體層、源極與汲極所構成之一電晶體上,並具有一接觸窗,以暴露出反射畫素電極的部分區域。透明畫素電極藉由接觸窗與反射畫素電極電性連接。
    • 一种像素结构包括依序配置于一基板上之一闸极、一闸极介电层、一具有一位于闸极上方之信道区的图案化半导体层、一包括一位于闸极上方之蚀刻终止层及多个凸块的图案化介电层、一包括一反射像素电极及分别覆盖信道区部份区域的一源极与一汲极的图案化金属层、一平坦化介电层及一透明像素电极。反射像素电极连接汲极并覆盖这些凸块,以形成一凹凸表面。平坦化介电层配置于闸极、闸极介电层、图案化半导体层、源极与汲极所构成之一晶体管上,并具有一接触窗,以暴露出反射像素电极的部分区域。透明像素电极借由接触窗与反射像素电极电性连接。
    • 7. 发明专利
    • 彩色濾光片及其製作方法 COLOR FILTER AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
    • 彩色滤光片及其制作方法 COLOR FILTER AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
    • TWI349117B
    • 2011-09-21
    • TW096100209
    • 2007-01-03
    • 友達光電股份有限公司
    • 曹俊杰李淑琴林祥麟
    • G02B
    • G02B5/201G02B5/223G02F1/133516
    • 一種彩色濾光片的製作方法,其步驟如下。首先,提供透光基板,並且形成黑色矩陣於透光基板上以在透光基板上圍出多個畫素區域。接著,於黑色矩陣上塗布感光材料並將其圖案化以形成隔離層。然後,分別在這些畫素區域中以噴墨方式填入彩色顏料後,乾燥彩色顏料,以形成多個彩色濾光單元。隨之,可再次圖案化隔離層做為柱狀間隙物結構。隔離層可作為屏障之用,因此製作彩色濾光片時,彩色顏料不易於噴墨製程中因溢出黑色矩陣而造成混色。另外,以此製程特徵之彩色濾光單元具有較佳的膜厚均勻性。
    • 一种彩色滤光片的制作方法,其步骤如下。首先,提供透光基板,并且形成黑色矩阵于透光基板上以在透光基板上围出多个像素区域。接着,于黑色矩阵上涂布感光材料并将其图案化以形成隔离层。然后,分别在这些像素区域中以喷墨方式填入彩色颜料后,干燥彩色颜料,以形成多个彩色滤光单元。随之,可再次图案化隔离层做为柱状间隙物结构。隔离层可作为屏障之用,因此制作彩色滤光片时,彩色颜料不易于喷墨制程中因溢出黑色矩阵而造成混色。另外,以此制程特征之彩色滤光单元具有较佳的膜厚均匀性。