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1. 发明专利

TWI640086B 撓性顯示裝置及其邊框元件有权
简体标题：挠性显示设备及其边框组件
公开(公告)号：TWI640086B
公开(公告)日：2018-11-01
申请号：TW106127655
申请日：2017-08-15
申请人：元太科技工業股份有限公司 , E INK HOLDINGS INC.
发明人：溫一龍 , WEN, YI LUNG , 陳家弘 , CHEN, JIA HUNG , 梁廣恆 , LIANG, KUANG HENG , 吳淇銘 , WU, CHI MING
IPC分类号： H01L27/12 , H01L27/32

2. 发明专利

TW201636715A 顯示面板及其製作方法审中-公开
简体标题：显示皮肤及其制作方法
公开(公告)号：TW201636715A
公开(公告)日：2016-10-16
申请号：TW104112059
申请日：2015-04-15
申请人：元太科技工業股份有限公司 , E INK HOLDINGS INC.
发明人：陳家弘 , CHEN, JIA HUNG , 梁廣恆 , LIANG, KUANG HENG , 蔡淑芬 , TSAI, SHU FEN , 曾耀德 , TSENG, YAO TE
IPC分类号： G02F1/1362 , H01B5/14
CPC分类号： H01L27/124 , G02B26/005 , G02F1/136286 , G02F1/167 , H01L27/1262
摘要：一種顯示面板，包括一陣列基板、多個透明導電氧化圖案以及一顯示介質。陣列基板包括一基板以及依序疊於基板上的一第一金屬層、一第一絕緣層、一半導體層、一第二金屬層及一第二絕緣層。基板具有一主動區及一接線區。第一金屬層及第二金屬層由主動區延伸至接線區，而分別定義出多個第一接線及多個第二接線。透明導電氧化圖案配置於第二絕緣層上，位於接線區且分別對應第二接線。每一透明導電氧化圖案於基板上的正投影重疊於對應的第二接線於基板上的正投影。顯示介質配置於陣列基板上。
简体摘要：一种显示皮肤，包括一数组基板、多个透明导电氧化图案以及一显示介质。数组基板包括一基板以及依序叠于基板上的一第一金属层、一第一绝缘层、一半导体层、一第二金属层及一第二绝缘层。基板具有一主动区及一接线区。第一金属层及第二金属层由主动区延伸至接线区，而分别定义出多个第一接线及多个第二接线。透明导电氧化图案配置于第二绝缘层上，位于接线区且分别对应第二接线。每一透明导电氧化图案于基板上的正投影重叠于对应的第二接线于基板上的正投影。显示介质配置于数组基板上。

3. 发明专利

TW201440226A 畫素結構审中-公开
简体标题：像素结构
公开(公告)号：TW201440226A
公开(公告)日：2014-10-16
申请号：TW102113068
申请日：2013-04-12
申请人：元太科技工業股份有限公司 , E INK HOLDINGS INC.
发明人：陳家弘 , CHEN, CHIA HUNG , 林於茂 , LIN, YU MAO , 梁廣恆 , LIANG, KUANG HENG , 邱志建 , CHIOU, CHIH CHIEN
IPC分类号： H01L29/786 , G02F1/1368
CPC分类号： H01L27/1255 , G02F1/133553 , G02F1/1362 , H01L27/1214
摘要：一種畫素結構，包括基板、配置於基板上的主動元件、第二反射圖案以及第三反射圖案。主動元件包括閘極、通道、源極與汲極。源極與汲極連接於通道並彼此分離。通道與閘極在厚度方向上堆疊。第二反射圖案及第三反射圖案電性連接至主動元件的汲極。第二反射圖案具有多個第二貫孔。第三反射圖案堆疊於第二反射圖案上且覆蓋第二反射圖案的多個第二貫孔。第二反射圖案設置於第三反射圖案與基板之間。此外，另數種畫素結構亦被提出。
简体摘要：一种像素结构，包括基板、配置于基板上的主动组件、第二反射图案以及第三反射图案。主动组件包括闸极、信道、源极与汲极。源极与汲极连接于信道并彼此分离。信道与闸极在厚度方向上堆栈。第二反射图案及第三反射图案电性连接至主动组件的汲极。第二反射图案具有多个第二贯孔。第三反射图案堆栈于第二反射图案上且覆盖第二反射图案的多个第二贯孔。第二反射图案设置于第三反射图案与基板之间。此外，另数种像素结构亦被提出。

4. 发明专利

TW201407235A 顯示裝置审中-公开
简体标题：显示设备
公开(公告)号：TW201407235A
公开(公告)日：2014-02-16
申请号：TW101128280
申请日：2012-08-06
申请人：元太科技工業股份有限公司 , E INK HOLDINGS INC.
发明人：梁廣恆 , LIANG, KUANG HENG , 陳家弘 , CHEN, JIA HUNG , 楊旋聖 , YANG, SHUAN SHEN
IPC分类号： G02F1/1335
CPC分类号： G02F1/133512 , G02F2001/133521
摘要：一種顯示裝置，包括主動元件陣列基板、相對於主動元件陣列基板的對向基板、以及配置於主動元件陣列基板與對向基板之間的顯示介質。對向基板包括第一基底以及配置於第一基底上且位於第一基底與主動元件陣列基板之間的遮光結構。遮光結構具有由第一基底向主動元件陣列基板依序堆疊之第一介電層、第二介電層、第三介電層、金屬層、第四介電層、第五介電層、第六介電層。第一介電層、第二介電層、第三介電層的厚度彼此不同。第四介電層、第五介電層、第六介電層的厚度彼此不同。
简体摘要：一种显示设备，包括主动组件数组基板、相对于主动组件数组基板的对向基板、以及配置于主动组件数组基板与对向基板之间的显示介质。对向基板包括第一基底以及配置于第一基底上且位于第一基底与主动组件数组基板之间的遮光结构。遮光结构具有由第一基底向主动组件数组基板依序堆栈之第一介电层、第二介电层、第三介电层、金属层、第四介电层、第五介电层、第六介电层。第一介电层、第二介电层、第三介电层的厚度彼此不同。第四介电层、第五介电层、第六介电层的厚度彼此不同。

5. 发明专利

TWI648720B 顯示裝置有权
简体标题：显示设备
公开(公告)号：TWI648720B
公开(公告)日：2019-01-21
申请号：TW106136763
申请日：2017-10-25
申请人：元太科技工業股份有限公司 , E INK HOLDINGS INC.
发明人：林建閎 , LIN, CHIEN HUNG , 蔡淑芬 , TSAI, SHU FEN , 溫一龍 , WEN, YI LUNG , 伊恩法蘭契 , FRENCH, IAN , 李及元 , LI, JI YUAN , 林勝隆 , LIN, SAN LONG , 梁廣恆 , LIANG, KUANG HENG , 陳家弘 , CHEN, JIA HUNG
IPC分类号： G09G3/20

6. 发明专利

TWI607423B 畫素結構有权
简体标题：像素结构
公开(公告)号：TWI607423B
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：TW105133755
申请日：2016-10-19
申请人：元太科技工業股份有限公司 , E INK HOLDINGS INC.
发明人：李及元 , LI, JI YUAN , 伊恩法蘭契 , IAN FRENCH , 林勝隆 , LIN, SAN LONG , 梁廣恆 , LIANG, KUANG HENG , 蔡淑芬 , TSAI, SHU FEN , 陳家弘 , CHEN, JIA HUNG
IPC分类号： G09F9/00

7. 发明专利

TW201911546A 撓性顯示裝置及其邊框元件审中-公开
简体标题：挠性显示设备及其边框组件
公开(公告)号：TW201911546A
公开(公告)日：2019-03-16
申请号：TW106127655
申请日：2017-08-15
申请人：元太科技工業股份有限公司 , E INK HOLDINGS INC.
发明人：溫一龍 , WEN, YI LUNG , 陳家弘 , CHEN, JIA HUNG , 梁廣恆 , LIANG, KUANG HENG , 吳淇銘 , WU, CHI MING
IPC分类号： H01L27/12 , H01L27/32
摘要：一種撓性顯示裝置包含基板與邊框元件。基板具有顯示區與圍繞顯示區的邊框區。邊框元件位於邊框區中，且包含第一金屬層、絕緣層、第二金屬層、保護層、半導體層、平坦層與第三金屬層。第一金屬層位於基板上。絕緣層覆蓋第一金屬層與基板。第二金屬層位於絕緣層上。保護層覆蓋第二金屬層與絕緣層。半導體層位於絕緣層與保護層之間。平坦層覆蓋保護層。第三金屬層位於平坦層上，且具有第一區段、第二區段與第三區段。第三區段位於第一區段與第二區段之間且實體連接第一區段與第二區段，使得第一區段、第二區段與第三區段定義出缺口。
简体摘要：一种挠性显示设备包含基板与边框组件。基板具有显示区与围绕显示区的边框区。边框组件位于边框区中，且包含第一金属层、绝缘层、第二金属层、保护层、半导体层、平坦层与第三金属层。第一金属层位于基板上。绝缘层覆盖第一金属层与基板。第二金属层位于绝缘层上。保护层覆盖第二金属层与绝缘层。半导体层位于绝缘层与保护层之间。平坦层覆盖保护层。第三金属层位于平坦层上，且具有第一区段、第二区段与第三区段。第三区段位于第一区段与第二区段之间且实体连接第一区段与第二区段，使得第一区段、第二区段与第三区段定义出缺口。

8. 发明专利

TW201816751A 畫素結構审中-公开
简体标题：像素结构
公开(公告)号：TW201816751A
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：TW105133755
申请日：2016-10-19
申请人：元太科技工業股份有限公司 , E INK HOLDINGS INC.
发明人：李及元 , LI, JI YUAN , 伊恩法蘭契 , IAN FRENCH , 林勝隆 , LIN, SAN LONG , 梁廣恆 , LIANG, KUANG HENG , 蔡淑芬 , TSAI, SHU FEN , 陳家弘 , CHEN, JIA HUNG
IPC分类号： G09F9/00
摘要：一種畫素結構包含畫素電極、至少一資料選擇線與至少一隔離線。至少一隔離線沿該畫素電極排列。畫素電極用以儲存畫素電壓。至少一資料選擇線用以傳遞至少一資料訊號。至少一隔離線用以降低該至少一資料訊號之電場對畫素電極之畫素電壓之影響。至少一隔離線之投影區域與畫素電極之投影區域重疊。
简体摘要：一种像素结构包含像素电极、至少一数据选择线与至少一隔脱机。至少一隔脱机沿该像素电极排列。像素电极用以存储像素电压。至少一数据选择线用以传递至少一数据信号。至少一隔脱机用以降低该至少一数据信号之电场对像素电极之像素电压之影响。至少一隔脱机之投影区域与像素电极之投影区域重叠。

9. 发明专利

TWI544265B 顯示面板及其製作方法有权
简体标题：显示皮肤及其制作方法
公开(公告)号：TWI544265B
公开(公告)日：2016-08-01
申请号：TW104112059
申请日：2015-04-15
申请人：元太科技工業股份有限公司 , E INK HOLDINGS INC.
发明人：陳家弘 , CHEN, JIA HUNG , 梁廣恆 , LIANG, KUANG HENG , 蔡淑芬 , TSAI, SHU FEN , 曾耀德 , TSENG, YAO TE
IPC分类号： G02F1/1362 , H01B5/14
CPC分类号： H01L27/124 , G02B26/005 , G02F1/136286 , G02F1/167 , H01L27/1262

10. 发明专利

TWI518917B 畫素結構有权
简体标题：像素结构
公开(公告)号：TWI518917B
公开(公告)日：2016-01-21
申请号：TW102113068
申请日：2013-04-12
申请人：元太科技工業股份有限公司 , E INK HOLDINGS INC.
发明人：陳家弘 , CHEN, CHIA HUNG , 林於茂 , LIN, YU MAO , 梁廣恆 , LIANG, KUANG HENG , 邱志建 , CHIOU, CHIH CHIEN
IPC分类号： H01L29/786 , G02F1/1368
CPC分类号： H01L27/1255 , G02F1/133553 , G02F1/1362 , H01L27/1214

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