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    • 2. 发明申请
    • 発光素子の製造方法及び発光素子
    • 制造发光装置和发光装置的方法
    • WO2004015785A1
    • 2004-02-19
    • PCT/JP2003/009979
    • 2003-08-06
    • 信越半導体株式会社株式会社ナノテコ能登 宣彦山田 雅人野崎 眞次内田 和男森崎 弘
    • 能登 宣彦山田 雅人野崎 眞次内田 和男森崎 弘
    • H01L33/00
    • H01L33/42H01L33/30
    •  発光素子100は、発光層部24に発光駆動電圧を印加するためのITO透明電極層8,10を有し、発光層部24からの光が、該ITO透明電極層8,10を透過させる形で取り出される。また、発光層部24とITO透明電極層8,10との間に、Inを含有したGaAsよりなるコンタクト層が、該ITO透明電極層と接する形にて形成される。該コンタクト層7,9は、発光層部上にGaAs層7',9'を形成し、そのGaAs層7',9'と接するようにITO透明電極層8,10を形成した積層体13を熱処理することにより、ITO透明電極層8,10からGaAs層7',9'にInを拡散させて形成する。これにより、発光駆動用の電極としてITO透明電極層をコンタクト層を介して接合し、該電極の接触抵抗を低減するとともに、コンタクト層形成に際して発光層部との格子定数差の影響も受けにくい発光素子の製造方法を提供する。
    • 发光装置(100)具有用于向发光层部分(24)施加发光驱动电压的透明ITO电极层(8,10)。 通过透明ITO电极层(8,10)取出来自发光层部分(24)的光。 以含有接触层与ITO透明电极层接触的方式,在发光层部分(24)和透明ITO电极层(8,10)之间形成由含In GaAs构成的接触层。 接触层(7,9)通过热处理通过在发光层部分上设置GaAs层(7',9')而形成的多层体(13)而形成,然后在其上设置透明ITO电极层 将GaAs层(7',9')从透明ITO电极层(8,10)扩散到GaAs层(7',9')中。 因此,公开了一种发光装置的制造方法,其中透明ITO电极层通过接触层连接到发光层部分作为发射驱动电极; 电极的接触电阻降低; 并且接触层的形成几乎不受与发光层部分的晶格常数差的影响。
    • 3. 发明申请
    • 発光素子
    • 发光装置
    • WO2004068661A1
    • 2004-08-12
    • PCT/JP2003/015579
    • 2003-12-05
    • 信越半導体株式会社石崎 順也野崎 眞次内田 和男森崎 弘
    • 石崎 順也野崎 眞次内田 和男森崎 弘
    • H01S5/323
    • H01L33/42
    • 発光素子100は、Alを含有した化合物半導体層4,5,6からなる発光層部24と、該発光層部24に発光駆動電圧を印加するための酸化物透明電極層8,10とを有し、発光層部24からの光を、酸化物透明電極層8,10を透過させる形で取り出す。そして、発光層部24と酸化物透明電極層8,10との間に、発光層部24のAl酸化を抑制するための酸化物保護層7,9が介挿形成されてなる。これにより、発光駆動用の電極として酸化物透明電極層を用いるとともに、発光層部側のAl酸化に伴う発光効率あるいは光取出効率の低下を効果的に防止できる発光素子を提供する。
    • 发光装置(100)包括由含Al化合物半导体层(4,5,6)构成的发光层部分(24)和用于施加发光驱动电压的氧化物透明电极层(8,10) 发光层部分(24)。 来自发光层部分(24)的光从氧化物透明电极层(8,10)中取出。 在发光层部分(24)和氧化物透明电极层(8,10)之间分别插入氧化物保护层(7,9),用于抑制发光层部分(24)中的Al的氧化。 因此,可以获得发光装置,其中氧化物透明电极层用作发光驱动的电极,发光效率的劣化或由于发光层中的Al的氧化引起的取光效率 可以有效地防止部分。