会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 1. 发明专利
    • 高介電性有機聚合物以及帶有此聚合物之分散型電致發光裝置
    • 高介电性有机聚合物以及带有此聚合物之分散型电致发光设备
    • TW249235B
    • 1995-06-11
    • TW082110860
    • 1993-12-21
    • 信越化學工業股份有限公司
    • 名倉茂福井育生
    • C08B
    • 此發表是為可抗濕氣吸收的高介電性聚合物,其為一多元有機聚合物如直鏈澱粉(pullulan),纖維素酯及聚乙烯醇經氰乙化及酯化的產物,其中這多元聚合物中60至95%的羥基是加以氰乙化且這多元聚合物中5至40以酯化。這聚合物用做為這分散型電致發光裝置中反射絕緣層和發光層之間的黏合劑,而這是相關於具低濕氣吸收,甚至在高濕氣周圍中也不致於造成電致發光發射之高度的衰減。
    • 此发表是为可抗湿气吸收的高介电性聚合物,其为一多元有机聚合物如直链淀粉(pullulan),纤维素酯及聚乙烯醇经氰乙化及酯化的产物,其中这多元聚合物中60至95%的羟基是加以氰乙化且这多元聚合物中5至40以酯化。这聚合物用做为这分散型电致发光设备中反射绝缘层和发光层之间的黏合剂,而这是相关于具低湿气吸收,甚至在高湿气周围中也不致于造成电致发光发射之高度的衰减。
    • 2. 发明专利
    • 光阻材料
    • TW526390B
    • 2003-04-01
    • TW087110416
    • 1998-06-25
    • 信越化學工業股份有限公司
    • 山潤西寬永田岳志名倉茂
    • G03F
    • G03F7/0045Y10S430/106
    • 本發明提供一種光阻材料,其係含有1種或2種以上選自下式(1)或(2)(式中,R1、R2、R3、R7、 R8為C1~C20伸烷基,R4、R5、R6、R9、R10為 H、C1~C20烷基或胺基,R4與R5、R5與R6、R4與R6、R4與R5與R6、R9與R10可鍵結形成環;k、 m、n為0~20之整數;但k、m、n=0時,R4、 R5、R6、R9、R10不含有氫;)之鹼性化合物。
      〔R4-(O-R1)k-O-(CH2)2〕2-N- CH2-CH2-O-(R2-O)m-R5………(1)
      〔(R9-(O-R1)k-O-(CH2)2〕2-N- CH2-CH2-O-(R8-O)m-R10………(2)
      添加上述鹼性化合物之光阻材料,具高度膜衰減之防止效果,且對獨立圖型之焦點擴大效果亦具有顯著功效。
    • 本发明提供一种光阻材料,其系含有1种或2种以上选自下式(1)或(2)(式中,R1、R2、R3、R7、 R8为C1~C20伸烷基,R4、R5、R6、R9、R10为 H、C1~C20烷基或胺基,R4与R5、R5与R6、R4与R6、R4与R5与R6、R9与R10可键结形成环;k、 m、n为0~20之整数;但k、m、n=0时,R4、 R5、R6、R9、R10不含有氢;)之碱性化合物。 〔R4-(O-R1)k-O-(CH2)2〕2-N- CH2-CH2-O-(R2-O)m-R5………(1) 〔(R9-(O-R1)k-O-(CH2)2〕2-N- CH2-CH2-O-(R8-O)m-R10………(2) 添加上述碱性化合物之光阻材料,具高度膜衰减之防止效果,且对独立图型之焦点扩大效果亦具有显着功效。
    • 3. 发明专利
    • 防止反射膜材料
    • TW337591B
    • 1998-08-01
    • TW085116035
    • 1996-12-23
    • 信越化學工業股份有限公司
    • 石原俊信名倉茂渡邊聰
    • H01L
    • C08K5/09C08L39/06
    • ﹝課題﹞ 提供成膜性佳,微細下之標度精度及配合精度高,簡便下之生產性高,再現性佳且可形成抵抗樣版之防止反射膜,更且,由於不引起化學增幅型抵抗表面之酸失活,故不會引起上述PED之問題,因此其不使用故化學增幅型抵抗之情形中亦具作為保護膜機能之抵抗上層材料氟利昂。
      ﹝解決手段﹞ 由含有a)聚(N一乙烯基咯烷酮)單聚合體及N一乙烯基咯烷酮與其他乙烯基系單體之水溶性共聚物所組成之群中選出至少一種水溶性聚合物,與b)至少一種含氟有機酸,與c)至少一種胺基酸衍生物之水溶液所構成之形成抵抗層上層之水溶性膜材料。
      ﹝選擇圖﹞無
    • ﹝课题﹞ 提供成膜性佳,微细下之标度精度及配合精度高,简便下之生产性高,再现性佳且可形成抵抗样版之防止反射膜,更且,由于不引起化学增幅型抵抗表面之酸失活,故不会引起上述PED之问题,因此其不使用故化学增幅型抵抗之情形中亦具作为保护膜机能之抵抗上层材料氟利昂。 ﹝解决手段﹞ 由含有a)聚(N一乙烯基咯烷酮)单聚合体及N一乙烯基咯烷酮与其他乙烯基系单体之水溶性共聚物所组成之群中选出至少一种水溶性聚合物,与b)至少一种含氟有机酸,与c)至少一种氨基酸衍生物之水溶液所构成之形成抵抗层上层之水溶性膜材料。 ﹝选择图﹞无