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1. 发明专利

TWI471398B 偏光板及使用其之層合光學構件有权
简体标题：偏光板及使用其之层合光学构件
公开(公告)号：TWI471398B
公开(公告)日：2015-02-01
申请号：TW099120663
申请日：2010-06-24
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED , ADEKA股份有限公司 , ADEKA CORPORATION
发明人：久米悅夫 , KUME, ETSUO , 竹內智康 , TAKEUCHI, TOMOYASU , 中川弘也 , NAKAGAWA, HIROYA
IPC分类号： C09J4/00 , C09J11/06 , G02B5/30 , B32B7/12

2. 发明专利

TW201732331A 附樹脂膜之光學構件的製造方法审中-公开
简体标题：附树脂膜之光学构件的制造方法
公开(公告)号：TW201732331A
公开(公告)日：2017-09-16
申请号：TW105141807
申请日：2016-12-16
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：中川弘也 , NAKAGAWA, HIROYA
IPC分类号： G02B5/30 , B32B27/00 , B32B37/14 , B32B37/12
CPC分类号： B05D3/12 , B32B7/02 , C09J7/20 , C09J201/00 , G02B5/30
摘要：本發明之課題係提供一種附樹脂膜之光學構件的製造方法，該附樹脂膜之光學構件係隔著黏著劑層而在光學構件貼合樹脂膜所成者，並且其中的黏著劑層與光學構件的密接性良好。本發明解決上述課題之手段為一種附樹脂膜之光學構件的製造方法，係包含下述步驟：塗佈步驟，係在長條狀的樹脂膜上塗佈黏著劑組成物而形成塗佈層；乾燥步驟，係藉由將塗佈步驟後之膜一邊連續運送一邊導入乾燥手段使塗佈層乾燥，而得到具有黏著劑層之樹脂膜；凹條溝形成步驟，係將具有黏著劑層之樹脂膜一邊連續運送，一邊將凹凸鑄模於其按壓黏著劑層的外表面；以及貼合步驟，係將凹條溝形成步驟後之膜一邊繼續連續運送，一邊在該黏著劑層的外表面積層長條的光學構件，並且從上下按壓此積層體。
简体摘要：本发明之课题系提供一种附树脂膜之光学构件的制造方法，该附树脂膜之光学构件系隔着黏着剂层而在光学构件贴合树脂膜所成者，并且其中的黏着剂层与光学构件的密接性良好。本发明解决上述课题之手段为一种附树脂膜之光学构件的制造方法，系包含下述步骤：涂布步骤，系在长条状的树脂膜上涂布黏着剂组成物而形成涂布层；干燥步骤，系借由将涂布步骤后之膜一边连续运送一边导入干燥手段使涂布层干燥，而得到具有黏着剂层之树脂膜；凹条沟形成步骤，系将具有黏着剂层之树脂膜一边连续运送，一边将凹凸铸模于其按压黏着剂层的外表面；以及贴合步骤，系将凹条沟形成步骤后之膜一边继续连续运送，一边在该黏着剂层的外表面积层长条的光学构件，并且从上下按压此积层体。

3. 发明专利

TW201723127A 硬化性接著劑組成物及使用該組成物的偏光板审中-公开
简体标题：硬化性接着剂组成物及使用该组成物的偏光板
公开(公告)号：TW201723127A
公开(公告)日：2017-07-01
申请号：TW106106815
申请日：2016-01-25
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：阪上智恵 , SAKAUE, CHIE , 中川弘也 , NAKAGAWA, HIROYA
IPC分类号： C09J133/00 , C09J11/06 , C08K5/101 , C08K5/17 , C08K5/20 , G02B5/30 , B32B7/12
摘要：本發明提供一種硬化性接著劑組成物，其含有：自由基聚合性(甲基)丙烯酸系化合物、以及規定之降莰烯系化合物。並且係提供一種偏光板，其包含：偏光膜、以及在該偏光膜之至少一面隔著接著劑層而積層之熱塑性樹脂膜；其中，該接著劑層為上述硬化性接著劑組成物之硬化物層。
简体摘要：本发明提供一种硬化性接着剂组成物，其含有：自由基聚合性(甲基)丙烯酸系化合物、以及规定之降莰烯系化合物。并且系提供一种偏光板，其包含：偏光膜、以及在该偏光膜之至少一面隔着接着剂层而积层之热塑性树脂膜；其中，该接着剂层为上述硬化性接着剂组成物之硬化物层。

4. 发明专利

TW201816043A 偏光板及其製造方法审中-公开
简体标题：偏光板及其制造方法
公开(公告)号：TW201816043A
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：TW106129972
申请日：2017-09-01
申请人：日商住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：阪上智恵 , SAKAUE, CHIE , 古川達也 , FURUKAWA, TATSUYA , 中川弘也 , NAKAGAWA, HIROYA
IPC分类号： C09J11/06 , C09J133/00 , C09J175/04 , B32B7/12 , B32B27/00 , B32B37/12 , B32B38/00 , G02B5/30
摘要：本發明之課題係提供一種即便在高溫高濕等的環境下亦顯示優異的耐久性之偏光板及其製造方法。本發明之解決手段係提供一種偏光板，係包含偏光件、及在前述偏光件的至少一面經由接著劑層而層積的保護膜；其中，前述接著劑層係含有陽離子聚合性化合物、第1產酸劑及第2產酸劑之接著劑的硬化物；前述第1產酸劑係硬化溫度未達120℃的離子性化合物，而且，構成前述離子性化合物之相對陰離子係下述式(1)或(2)表示的陰離子；前述第2產酸劑係硬化溫度為120℃以上且藉由活性能量線而產生酸之離子性化合物。
简体摘要：本发明之课题系提供一种即便在高温高湿等的环境下亦显示优异的耐久性之偏光板及其制造方法。本发明之解决手段系提供一种偏光板，系包含偏光件、及在前述偏光件的至少一面经由接着剂层而层积的保护膜；其中，前述接着剂层系含有阳离子聚合性化合物、第1产酸剂及第2产酸剂之接着剂的硬化物；前述第1产酸剂系硬化温度未达120℃的离子性化合物，而且，构成前述离子性化合物之相对阴离子系下述式(1)或(2)表示的阴离子；前述第2产酸剂系硬化温度为120℃以上且借由活性能量线而产生酸之离子性化合物。

5. 发明专利

TW201811568A 附有剝離膜之光學組件之製造方法审中-公开
简体标题：附有剥离膜之光学组件之制造方法
公开(公告)号：TW201811568A
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW106113270
申请日：2017-04-20
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：中川弘也 , NAKAGAWA, HIROYA
IPC分类号： B32B37/12 , B32B7/12 , B32B38/00 , G02B5/30
摘要：本發明提供一種用以製造附有剝離膜之光學組件之製造方法，該附有剝離膜之光學組件，即使對可撓式顯示器的彎折，亦可在黏著劑層與於此相鄰的組件之間維持良好的密接性。本發明的附有剝離膜之光學組件的製造方法，係包含下述步驟，塗佈步驟：將活性能量射線硬化型黏著劑組成物塗佈在長條狀之剝離膜上而形成塗佈層之步驟；曝光步驟：一面連續地運送具有塗佈層之剝離膜，一面經由活性能量射線之照射將塗佈層進行圖案曝光，得到具有包含已曝光之第1區域、與曝光量小於該第1區域之第2區域的黏著劑層之剝離膜的步驟；貼合步驟：接著一面連續地運送曝光步驟後之膜，一面將長條的光學組件積層在該黏著劑層之外表面，再將該積層體從上下方進行擠壓之步驟。
简体摘要：本发明提供一种用以制造附有剥离膜之光学组件之制造方法，该附有剥离膜之光学组件，即使对可挠式显示器的弯折，亦可在黏着剂层与于此相邻的组件之间维持良好的密接性。本发明的附有剥离膜之光学组件的制造方法，系包含下述步骤，涂布步骤：将活性能量射线硬化型黏着剂组成物涂布在长条状之剥离膜上而形成涂布层之步骤；曝光步骤：一面连续地运送具有涂布层之剥离膜，一面经由活性能量射线之照射将涂布层进行图案曝光，得到具有包含已曝光之第1区域、与曝光量小于该第1区域之第2区域的黏着剂层之剥离膜的步骤；贴合步骤：接着一面连续地运送曝光步骤后之膜，一面将长条的光学组件积层在该黏着剂层之外表面，再将该积层体从上下方进行挤压之步骤。

6. 发明专利

TW201629550A 偏光板审中-公开
公开(公告)号：TW201629550A
公开(公告)日：2016-08-16
申请号：TW104143772
申请日：2015-12-25
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：阪上智恵 , SAKAUE, CHIE , 岩田智 , IWATA, TOMO , 中川弘也 , NAKAGAWA, HIROYA
IPC分类号： G02B5/30 , B32B7/12
摘要：本發明係提供一種偏光板，其係依序包含第1保護膜、第1接著劑層、偏光膜、第2接著劑層及第2保護膜，其第1接著劑層於80℃之貯存彈性率為0.1MPa以上、未達800MPa，第2接著劑層於80℃之貯存彈性率為800MPa以上、未達10000MPa。
简体摘要：本发明系提供一种偏光板，其系依序包含第1保护膜、第1接着剂层、偏光膜、第2接着剂层及第2保护膜，其第1接着剂层于80℃之贮存弹性率为0.1MPa以上、未达800MPa，第2接着剂层于80℃之贮存弹性率为800MPa以上、未达10000MPa。

7. 发明专利

TW201727290A 附樹脂膜之光學構件的製造方法审中-公开
简体标题：附树脂膜之光学构件的制造方法
公开(公告)号：TW201727290A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：TW105141812
申请日：2016-12-16
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：中川弘也 , NAKAGAWA, HIROYA
IPC分类号： G02B5/30 , G02B1/14 , B32B27/30
CPC分类号： B32B7/02 , B32B37/10 , C09J7/20 , C09J201/00 , G02B5/30
摘要：本發明之課題係提供一種附樹脂膜之光學構件的製造方法，該附樹脂膜之光學構件係透過黏著劑層而在光學構件貼合樹脂膜所成者，並且其中的黏著劑層與光學構件的密接性良好。本發明解決上述課題之手段為一種附樹脂膜之光學構件的製造方法，係包含下述步驟：塗佈步驟，係在長條狀的樹脂膜上塗佈黏著劑組成物而形成塗佈層；乾燥步驟，係藉由將塗佈步驟後之膜一邊連續運送一邊導入乾燥手段使塗佈層乾燥，而得到具有黏著劑層之樹脂膜；平滑化處理步驟，係將具有黏著劑層之樹脂膜一邊連續運送，一邊在該黏著劑層的外表面按壓鏡面模具；以及貼合步驟，係將平滑化處理步驟後之膜一邊繼續連續運送，一邊在該黏著劑層的外表面積層長條的光學構件，並且從上下按壓此積層體。
简体摘要：本发明之课题系提供一种附树脂膜之光学构件的制造方法，该附树脂膜之光学构件系透过黏着剂层而在光学构件贴合树脂膜所成者，并且其中的黏着剂层与光学构件的密接性良好。本发明解决上述课题之手段为一种附树脂膜之光学构件的制造方法，系包含下述步骤：涂布步骤，系在长条状的树脂膜上涂布黏着剂组成物而形成涂布层；干燥步骤，系借由将涂布步骤后之膜一边连续运送一边导入干燥手段使涂布层干燥，而得到具有黏着剂层之树脂膜；平滑化处理步骤，系将具有黏着剂层之树脂膜一边连续运送，一边在该黏着剂层的外表面按压镜面模具；以及贴合步骤，系将平滑化处理步骤后之膜一边继续连续运送，一边在该黏着剂层的外表面积层长条的光学构件，并且从上下按压此积层体。

8. 发明专利

TWI579352B 硬化性接著劑組成物及使用該組成物的偏光板有权
简体标题：硬化性接着剂组成物及使用该组成物的偏光板
公开(公告)号：TWI579352B
公开(公告)日：2017-04-21
申请号：TW105102173
申请日：2016-01-25
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：阪上智恵 , SAKAUE, CHIE , 中川弘也 , NAKAGAWA, HIROYA
IPC分类号： C09J133/04 , C09J11/06 , C08K5/101 , C08K5/20 , C08K5/17 , G02B5/30 , G02B1/10 , B32B7/12

9. 发明专利

TW201636652A 附樹脂膜之光學構件的製造方法审中-公开
简体标题：附树脂膜之光学构件的制造方法
公开(公告)号：TW201636652A
公开(公告)日：2016-10-16
申请号：TW105103273
申请日：2016-02-02
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：中川弘也 , NAKAGAWA, HIROYA
IPC分类号： G10L15/06 , G10L15/16
摘要：本發明係提供一種附樹脂膜之光學構件的製造方法，包括：於長條狀樹脂膜上塗佈黏著劑組成物，形成塗佈層的塗佈步驟；藉由將前述塗佈步驟後的膜一邊連續傳送一邊導入乾燥手段，使前述塗佈層乾燥，得到具有黏著劑層的樹脂膜之乾燥步驟；將具有黏著劑層的樹脂膜一邊連續傳送一邊對該黏著劑層的外表面進行能量照射的第1表面活性化步驟；以及將第1表面活性化步驟後的膜一邊繼續連續傳送，一邊於該黏著劑層的外表面積層長條的光學構件，並從上下按壓該積層體的貼合步驟。
简体摘要：本发明系提供一种附树脂膜之光学构件的制造方法，包括：于长条状树脂膜上涂布黏着剂组成物，形成涂布层的涂布步骤；借由将前述涂布步骤后的膜一边连续发送一边导入干燥手段，使前述涂布层干燥，得到具有黏着剂层的树脂膜之干燥步骤；将具有黏着剂层的树脂膜一边连续发送一边对该黏着剂层的外表面进行能量照射的第1表面活性化步骤；以及将第1表面活性化步骤后的膜一边继续连续发送，一边于该黏着剂层的外表面积层长条的光学构件，并从上下按压该积层体的贴合步骤。

10. 发明专利

TW201629548A 偏光板审中-公开
公开(公告)号：TW201629548A
公开(公告)日：2016-08-16
申请号：TW104143762
申请日：2015-12-25
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：阪上智恵 , SAKAUE, CHIE , 中川弘也 , NAKAGAWA, HIROYA , 岩田智 , IWATA, TOMO
IPC分类号： G02B5/30
摘要：本發明係提供一種偏光板，其係依序包含第1保護膜、第1接著劑層、偏光膜、第2接著劑層及第2保護膜，其中，第1接著劑層之玻璃轉移溫度為-15℃以上未達60℃，第2接著劑層之玻璃轉移溫度為60℃以上。
简体摘要：本发明系提供一种偏光板，其系依序包含第1保护膜、第1接着剂层、偏光膜、第2接着剂层及第2保护膜，其中，第1接着剂层之玻璃转移温度为-15℃以上未达60℃，第2接着剂层之玻璃转移温度为60℃以上。

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