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    • 8. 发明专利
    • 附黏著劑之光學構件之製造方法
    • 附黏着剂之光学构件之制造方法
    • TW201346355A
    • 2013-11-16
    • TW102110983
    • 2013-03-27
    • 住友化學股份有限公司SUMITOMO CHEMICAL CO., LTD.
    • 張柱烈JANG, JU YEUL李真求LEE, JINKOO
    • G02B5/30G02F1/1335
    • G02B5/305
    • 本發明之附黏著劑之光學構件之製造方法係自第一剝離膜2/黏著劑層1/第二剝離膜3之積層物即黏著劑片5剝離第一剝離膜2,從而將所露出之黏著劑層1貼合至光學構件20而製造附黏著劑之光學構件25。使用各剝離膜與黏著劑層1之間之剝離力均超過0.02N/25mm且未達0.15N/25mm,且差未達0.01N/25mm者,於剝離點P,第一剝離膜2以不會撓曲之方式直線前進,第二剝離膜3與黏著劑層1以不自黏著劑層之相反側施加推壓力之方式,向與第一剝離膜2之直線前進方向不同之方向搬送,從而剝離第一剝離膜2。
    • 本发明之附黏着剂之光学构件之制造方法系自第一剥离膜2/黏着剂层1/第二剥离膜3之积层物即黏着剂片5剥离第一剥离膜2,从而将所露出之黏着剂层1贴合至光学构件20而制造附黏着剂之光学构件25。使用各剥离膜与黏着剂层1之间之剥离力均超过0.02N/25mm且未达0.15N/25mm,且差未达0.01N/25mm者,于剥离点P,第一剥离膜2以不会挠曲之方式直线前进,第二剥离膜3与黏着剂层1以不自黏着剂层之相反侧施加推压力之方式,向与第一剥离膜2之直线前进方向不同之方向搬送,从而剥离第一剥离膜2。