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1. 发明专利

TWI587083B 光阻組成物有权
简体标题：光阻组成物
公开(公告)号：TWI587083B
公开(公告)日：2017-06-11
申请号：TW102120077
申请日：2013-06-06
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：河村麻貴 , KAWAMURA, MAKI , 中西潤次 , NAKANISHI, JUNJI
IPC分类号： G03F7/004 , C08F12/24 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0392 , G03F7/0045 , G03F7/20 , Y10S430/113

2. 发明专利

TWI570123B 化學放大光阻組成物有权
简体标题：化学放大光阻组成物
公开(公告)号：TWI570123B
公开(公告)日：2017-02-11
申请号：TW101137888
申请日：2012-10-15
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：河村麻貴 , KAWAMURA, MAKI , 中西潤次 , NAKANISHI, JUNJI
IPC分类号： C07D471/04 , C07D221/06 , C07D495/04 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/004 , G03F7/0045 , G03F7/0392

3. 发明专利

TW201411278A 光阻組成物审中-公开
简体标题：光阻组成物
公开(公告)号：TW201411278A
公开(公告)日：2014-03-16
申请号：TW102120077
申请日：2013-06-06
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：河村麻貴 , KAWAMURA, MAKI , 中西潤次 , NAKANISHI, JUNJI
IPC分类号： G03F7/004 , C08F12/24 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0392 , G03F7/0045 , G03F7/20 , Y10S430/113
摘要：一種光阻組成物，其包含：可藉由酸之作用提高其在鹼性水溶液中的溶解度之樹脂；酸產生劑；塑化劑；與溶劑，其含量佔光阻組成物總量之40至75%質量比。
简体摘要：一种光阻组成物，其包含：可借由酸之作用提高其在碱性水溶液中的溶解度之树脂；酸产生剂；塑化剂；与溶剂，其含量占光阻组成物总量之40至75%质量比。

4. 发明专利

TW201329075A 化學放大光阻組成物审中-公开
简体标题：化学放大光阻组成物
公开(公告)号：TW201329075A
公开(公告)日：2013-07-16
申请号：TW101137888
申请日：2012-10-15
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：河村麻貴 , KAWAMURA, MAKI , 中西潤次 , NAKANISHI, JUNJI
IPC分类号： C07D471/04 , C07D221/06 , C07D495/04 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/004 , G03F7/0045 , G03F7/0392
摘要：一種化學放大光阻組成物，包括樹脂、酸產生劑、以及式(X)之化合物：其中，R1a、R2a、R3a、R6a、R7a及R8a各自獨立表示氫原子、羥基、羧基、-SO3、-NH2、鹵素原子、巰基、視需要具有取代基之C1-C12烷基、視需要具有取代基之C6-C30芳基、視需要具有取代基之C3-C12環烷基，以及R4a及R5a各自獨立表示氫原子、羥基、羧基、-SO3、-NH2、鹵素原子、巰基、視需要具有取代基之C1-C12烷基、視需要具有取代基之C6-C30芳基、或視需要具有取代基之C3-C12環烷基，或者R4a及R5a彼此鍵結以與該R4a及R5a鍵結之碳原子，及形成吡啶環之間的鍵結的碳原子共同形成環。
简体摘要：一种化学放大光阻组成物，包括树脂、酸产生剂、以及式(X)之化合物：其中，R1a、R2a、R3a、R6a、R7a及R8a各自独立表示氢原子、羟基、羧基、-SO3、-NH2、卤素原子、巯基、视需要具有取代基之C1-C12烷基、视需要具有取代基之C6-C30芳基、视需要具有取代基之C3-C12环烷基，以及R4a及R5a各自独立表示氢原子、羟基、羧基、-SO3、-NH2、卤素原子、巯基、视需要具有取代基之C1-C12烷基、视需要具有取代基之C6-C30芳基、或视需要具有取代基之C3-C12环烷基，或者R4a及R5a彼此键结以与该R4a及R5a键结之碳原子，及形成吡啶环之间的键结的碳原子共同形成环。

5. 发明专利

TWI591429B 光阻組成物有权
简体标题：光阻组成物
公开(公告)号：TWI591429B
公开(公告)日：2017-07-11
申请号：TW102118914
申请日：2013-05-29
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：杉原昌子 , SUGIHARA, MASAKO , 河村麻貴 , KAWAMURA, MAKI
IPC分类号： G03F7/004 , C08K5/34 , C08F20/18 , C08F12/24 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0041 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/20 , G03F7/38

6. 发明专利

TWI550340B 光阻組成物有权
简体标题：光阻组成物
公开(公告)号：TWI550340B
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：TW101147390
申请日：2012-12-14
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：河村麻貴 , KAWAMURA, MAKI , 增山達郎 , MASUYAMA, TATSURO
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/038 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/027 , G03F7/0397

7. 发明专利

TW201400980A 光阻組成物审中-公开
简体标题：光阻组成物
公开(公告)号：TW201400980A
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：TW102118914
申请日：2013-05-29
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：杉原昌子 , SUGIHARA, MASAKO , 河村麻貴 , KAWAMURA, MAKI
IPC分类号： G03F7/004 , C08K5/34 , C08F20/18 , C08F12/24 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0041 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/20 , G03F7/38
摘要：一種光阻組成物其包括：顯示經由酸之作用而於鹼性水溶液中增加溶解度的樹脂；酸產生劑；式(I)表示之化合物；以及其量為光阻組成物總量之40至75質量%之溶劑：其中，環W1為含氮雜環或具有經取代或未經取代之胺基的苯環，A1表示苯基或萘基，及n表示2或3之整數。
简体摘要：一种光阻组成物其包括：显示经由酸之作用而于碱性水溶液中增加溶解度的树脂；酸产生剂；式(I)表示之化合物；以及其量为光阻组成物总量之40至75质量%之溶剂：其中，环W1为含氮杂环或具有经取代或未经取代之胺基的苯环，A1表示苯基或萘基，及n表示2或3之整数。

8. 发明专利

TWI667275B 光阻組成物有权
简体标题：光阻组成物
公开(公告)号：TWI667275B
公开(公告)日：2019-08-01
申请号：TW103132596
申请日：2014-09-22
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：杉原昌子 , SUGIHARA, MASAKO , 河村麻貴 , KAWAMURA, MAKI , 合田真衣子 , GODA, MAIKO
IPC分类号： C08K5/45 , G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027

9. 发明专利

TW201522449A 光阻組成物审中-公开
简体标题：光阻组成物
公开(公告)号：TW201522449A
公开(公告)日：2015-06-16
申请号：TW103132596
申请日：2014-09-22
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：杉原昌子 , SUGIHARA, MASAKO , 河村麻貴 , KAWAMURA, MAKI , 合田真衣子 , GODA, MAIKO
IPC分类号： C08K5/45 , G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0388
摘要：一種光阻組成物，其包含：具有酸不穩定基之樹脂；酸產生劑；具有硫鍵及巰基之化合物；以及溶劑。
简体摘要：一种光阻组成物，其包含：具有酸不稳定基之树脂；酸产生剂；具有硫键及巯基之化合物；以及溶剂。

10. 发明专利

TW201333627A 光阻組成物审中-公开
简体标题：光阻组成物
公开(公告)号：TW201333627A
公开(公告)日：2013-08-16
申请号：TW101147390
申请日：2012-12-14
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：河村麻貴 , KAWAMURA, MAKI , 增山達郎 , MASUYAMA, TATSURO
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/038 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/027 , G03F7/0397
摘要：一種光阻組成物，包括樹脂，其係選自於由(甲基)丙烯酸系樹脂及聚(羥基苯乙烯)樹脂所組成的群組，酚醛清漆樹脂，酸產生劑，及式(X1)表示之化合物：及溶劑。
简体摘要：一种光阻组成物，包括树脂，其系选自于由(甲基)丙烯酸系树脂及聚(羟基苯乙烯)树脂所组成的群组，酚醛清漆树脂，酸产生剂，及式(X1)表示之化合物：及溶剂。

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