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1. 发明专利

TW201733687A 曲面基材之保持托盤审中-公开
简体标题：曲面基材之保持托盘
公开(公告)号：TW201733687A
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW105117411
申请日：2016-06-02
申请人：中外爐工業股份有限公司 , CHUGAI RO CO., LTD.
发明人：岩成賢治 , IWANARI, KENJI , 戶內八郎 , TOUCHI, HACHIROU , 神戶壽夫 , KAMBE, TOSHIO
IPC分类号： B05C13/02 , B05B13/02
CPC分类号： B05C13/02
摘要：一種藉由狹縫噴嘴而塗布塗布液之曲面基材之保持托盤，其特徵在於包含：一對之夾持構件，在狹縫噴嘴之噴嘴移動方向之曲面基材之兩端部，將曲面基材夾於其間而保持；1個以上之支持構件，於噴嘴移動方向是配置在一對之夾持構件之間，從下方支持曲面基材。
简体摘要：一种借由狭缝喷嘴而涂布涂布液之曲面基材之保持托盘，其特征在于包含：一对之夹持构件，在狭缝喷嘴之喷嘴移动方向之曲面基材之两端部，将曲面基材夹于其间而保持；1个以上之支持构件，于喷嘴移动方向是配置在一对之夹持构件之间，从下方支持曲面基材。

2. 发明专利

TWI641427B 對曲面基材的塗布液塗布裝置及塗布方法有权
简体标题：对曲面基材的涂布液涂布设备及涂布方法
公开(公告)号：TWI641427B
公开(公告)日：2018-11-21
申请号：TW105117413
申请日：2016-06-02
申请人：日商中外爐工業股份有限公司 , CHUGAI RO CO., LTD.
发明人：岩成賢治 , IWANARI, KENJI , 戶內八郎 , TOUCHI, HACHIROU , 神戶壽夫 , KAMBE, TOSHIO
IPC分类号： B05C11/10 , B05C5/02 , B05D1/26 , B05D7/00

3. 发明专利

TWI653095B 曲面基材之保持托盤有权
简体标题：曲面基材之保持托盘
公开(公告)号：TWI653095B
公开(公告)日：2019-03-11
申请号：TW105117411
申请日：2016-06-02
申请人：日商中外爐工業股份有限公司 , CHUGAI RO CO., LTD.
发明人：岩成賢治 , IWANARI, KENJI , 戶內八郎 , TOUCHI, HACHIROU , 神戶壽夫 , KAMBE, TOSHIO
IPC分类号： B05C13/02 , B05B13/02

4. 发明专利

TW201733686A 對曲面基材的塗布液塗布裝置及塗布方法审中-公开
简体标题：对曲面基材的涂布液涂布设备及涂布方法
公开(公告)号：TW201733686A
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW105117413
申请日：2016-06-02
申请人：中外爐工業股份有限公司 , CHUGAI RO CO., LTD.
发明人：岩成賢治 , IWANARI, KENJI , 戶內八郎 , TOUCHI, HACHIROU , 神戶壽夫 , KAMBE, TOSHIO
IPC分类号： B05C11/10 , B05C5/02 , B05D1/26 , B05D7/00
CPC分类号： B05C5/02 , B05D1/26 , B05D7/00
摘要：一種對曲面基材之塗布液之塗布裝置，其特徵在於包含：貯留槽，貯留塗布液；狹縫噴嘴，將塗布液塗布於曲面基材；供給部，將塗布液從貯留槽往狹縫噴嘴供給；控制部，控制塗布裝置；控制部以令往狹縫噴嘴之塗布液之供給壓力或供給量一定的方式而控制供給部，再者，以令狹縫噴嘴之移動速度是與從狹縫噴嘴之狹縫前端部至曲面基材之塗布面為止的距離成反比的方式而控制狹縫噴嘴。
简体摘要：一种对曲面基材之涂布液之涂布设备，其特征在于包含：贮留槽，贮留涂布液；狭缝喷嘴，将涂布液涂布于曲面基材；供给部，将涂布液从贮留槽往狭缝喷嘴供给；控制部，控制涂布设备；控制部以令往狭缝喷嘴之涂布液之供给压力或供给量一定的方式而控制供给部，再者，以令狭缝喷嘴之移动速度是与从狭缝喷嘴之狭缝前端部至曲面基材之涂布面为止的距离成反比的方式而控制狭缝喷嘴。

5. 发明专利

TWI327932B 板狀材料之塗佈方法 METHOD OF APPLYING A COATING TO A SUBSTRATE 有权
简体标题：板状材料之涂布方法 METHOD OF APPLYING A COATING TO A SUBSTRATE
公开(公告)号：TWI327932B
公开(公告)日：2010-08-01
申请号：TW096139446
申请日：2007-10-22
申请人：中外爐工業股份有限公司
发明人：上田修一郎 , 神戶壽夫
IPC分类号： B05C , B05D , G02B
摘要：其目的為提供一種可適當且確實地管理以來自吐出噴嘴所吐出的塗佈液所形成之塗佈面，且可適當地管理塗膜厚度，並以高作業效率可確保塗佈面之品質管理，如此之板狀材料的塗佈方法。
預先備置可測定形成於板狀材料1S之塗佈面LS與吐出噴嘴4之間的距離之測距手段6a~6c，首先，在工作台2上設置試驗用之板狀材料，使工作台與噴嘴座5相對地朝向前方移動而在該試驗用板狀材料上實施試驗塗佈，其次，在使工作台與噴嘴座相對地朝向後方移動之過程中，藉測距手段而實施測定，再其次，為了完成所希望之塗佈面LS，而因應於測距手段所得之測定結果，藉由噴嘴位置調整手段3a~3c而實施吐出噴嘴之位置調整，其後，在板狀材料1P上實施塗佈處理。
简体摘要：其目的为提供一种可适当且确实地管理以来自吐出喷嘴所吐出的涂布液所形成之涂布面，且可适当地管理涂膜厚度，并以高作业效率可确保涂布面之品质管理，如此之板状材料的涂布方法。预先备置可测定形成于板状材料1S之涂布面LS与吐出喷嘴4之间的距离之测距手段6a~6c，首先，在工作台2上设置试验用之板状材料，使工作台与喷嘴座5相对地朝向前方移动而在该试验用板状材料上实施试验涂布，其次，在使工作台与喷嘴座相对地朝向后方移动之过程中，藉测距手段而实施测定，再其次，为了完成所希望之涂布面LS，而因应于测距手段所得之测定结果，借由喷嘴位置调整手段3a~3c而实施吐出喷嘴之位置调整，其后，在板状材料1P上实施涂布处理。

6. 发明专利

TWI349745B 液體供給裝置 LIQUID FEEDING DEVICE 有权
简体标题：液体供给设备 LIQUID FEEDING DEVICE
公开(公告)号：TWI349745B
公开(公告)日：2011-10-01
申请号：TW096132247
申请日：2007-08-30
申请人：中外爐工業股份有限公司
发明人：夏貞雄 , 神戶壽夫
IPC分类号： F04B
摘要：本發明提供一種不會在欲吐出液體中混入氣泡之液體供給裝置。本發明之液體供給裝置，包含有：供給槽，可加壓所儲存之液體；注射泵，以注射器與活塞形成內部空間，藉由前述液體壓力使前述活塞後退，再自前述供給槽，將前述液體導入前述內部空間，並可藉由前述活塞的前進，自前述內部空間吐出前述液體；切換閥，使前述注射泵之內部空間連通用以自前述供給槽將前述液體導入前述內部空間之吸入流路、及用以將前述液體送出至外部之吐出流路任一者；驅動機構，具有可在前述活塞前進方向及後退方向移動且抵接於前述活塞外側，且可使前述活塞前進之推進器；及感測器，可自前述推進器在一定距離以內檢測出前述活塞。
简体摘要：本发明提供一种不会在欲吐出液体中混入气泡之液体供给设备。本发明之液体供给设备，包含有：供给槽，可加压所存储之液体；注射泵，以注射器与活塞形成内部空间，借由前述液体压力使前述活塞后退，再自前述供给槽，将前述液体导入前述内部空间，并可借由前述活塞的前进，自前述内部空间吐出前述液体；切换阀，使前述注射泵之内部空间连通用以自前述供给槽将前述液体导入前述内部空间之吸入流路、及用以将前述液体送出至外部之吐出流路任一者；驱动机构，具有可在前述活塞前进方向及后退方向移动且抵接于前述活塞外侧，且可使前述活塞前进之推进器；及传感器，可自前述推进器在一定距离以内检测出前述活塞。

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