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1. 发明申请

WO2009025297A1 樹脂ブラックマトリックス、遮光性感光性樹脂組成物、ＴＦＴ素子基板及び液晶表示装置审中-公开
标题翻译：树脂黑色矩阵，光阻光敏树脂组合物，TFT元件基板和液晶显示装置
公开(公告)号：WO2009025297A1
公开(公告)日：2009-02-26
申请号：PCT/JP2008/064827
申请日：2008-08-20
申请人：三菱化学株式会社 , 利光恵理子 , 廣田隆男 , 門脇雅美
发明人：利光恵理子 , 廣田隆男 , 門脇雅美
IPC分类号： G02B5/20 , G02B5/00 , G02F1/1335 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0007 , G02B5/223 , G02F1/136209 , G02F2202/02 , G02F2202/04 , G03F7/031
摘要：十分な遮光性を有し、かつ、ＴＦＴ素子の発熱による温度上昇も抑えられ、ＴＦＴ素子基板の故障や液晶駆動の乱れがなく信頼性の高い樹脂ブラックマトリックスを提供するため、樹脂ブラックマトリックスの、波長４００ｎｍ～７００ｎｍの範囲における最高光透過率を１％以下とし、且つ、波長８５０ｎｍ～３０００ｎｍの範囲における平均光透過率を６０％以上とするか、最低光透過率を５０％以上にする。
摘要翻译：提供了一种高度可靠的树脂黑矩阵，其具有足够的阻光特性，抑制由TFT元件产生的热量引起的温度升高，并且不会导致TFT元件基板的故障和液晶驱动的波动。在400nm-700nm的波长范围内的树脂黑矩阵的最大透光率允许为1％以下，850nm〜3000nm的波长范围的平均透光率为60％以上。或者，允许最小透光率为50％以上。

2. 发明申请

WO2005031463A1 ネガ型青紫色レーザー感光性組成物、画像形成材料、画像形成材、及び画像形成方法审中-公开
标题翻译：负性蓝紫激光光敏组合物，图像形成材料，图像形成和图像形成方法
公开(公告)号：WO2005031463A1
公开(公告)日：2005-04-07
申请号：PCT/JP2004/014299
申请日：2004-09-22
申请人：三菱化学株式会社 , 水上潤二 , 亀山泰弘 , 利光恵理子 , 瑞穂右二
发明人：水上潤二 , 亀山泰弘 , 利光恵理子 , 瑞穂右二
IPC分类号： G03F7/031
CPC分类号： G03F7/031
摘要： A negative blue-violet laser photosensitive composition that is highly sensitive to laser beams of blue-violet region, excelling in not only safe light properties under a yellow light but also the resolution and rectangularity of obtained image, which negative blue-violet laser photosensitive composition especially can appropriately be used as a dry film resist material and used in direct lithography by blue-violet laser beams. There are further provided, using the negative blue-violet laser photosensitive composition, an image forming material, image former and method of image formation. In particular, there is provided a negative blue-violet laser photosensitive composition wherein the minimum exposure intensity at which the exposure by blue-violet laser beams causes the residual film ratio to be 90% or higher is 40 mJ/cm or less and wherein with respect to a residual film ratio - exposure intensity curve obtained by plotting the residual film ratio at exposed part [t(%)] against the logarithm of exposure intensity by blue-violet laser beams [logE(mJ/cm )], the gamma value of straight line binding point at a residual film ratio of 15% with point at a residual film ratio of 80%, t = gammalogE + delta, is 4.0x10 or more. There are further provided, using the negative blue-violet laser photosensitive composition, an image forming material, image former and method of image formation.
摘要翻译：对蓝紫色区域的激光束高度敏感的负蓝紫色激光感光组合物，不仅在黄光下具有安全的光特性，而且还具有所得图像的分辨率和矩形性，该负蓝紫激光感光组合物特别可以适当地用作干膜抗蚀剂材料，并用于通过蓝紫色激光束的直接光刻。进一步提供使用负蓝紫激光感光组合物的图像形成材料，成像剂和图像形成方法。特别地，提供了一种负蓝紫激光感光组合物，其中蓝紫激光束曝光的最小曝光强度使得残留膜比率为90％或更高，为40mJ / cm 2以下并且其中相对于通过将曝光部分[t（％）]上的残留膜比与通过蓝紫色激光束的曝光强度的对数绘制而获得的残留膜比 - 曝光强度曲线[logE（mJ / cm 2））]，残留膜比为15％，残留膜比为80％，t = gammalogE +δ时的直线结合点的γ值为4.0×10 2以上。进一步提供使用负蓝紫激光感光组合物的图像形成材料，成像剂和图像形成方法。

3. 发明申请

WO2004015497A1 青紫色レーザー感光性レジスト材層を有する画像形成材及びそのレジスト画像形成方法审中-公开
标题翻译：具有蓝色紫外线激光敏感材料层的图像形成材料及其抗蚀剂图像形成方法
公开(公告)号：WO2004015497A1
公开(公告)日：2004-02-19
申请号：PCT/JP2003/009932
申请日：2003-08-05
申请人：三菱化学株式会社 , 浦野年由 , 亀山泰弘 , 藤田理恵子 , 宮沢隆司 , 利光恵理子
发明人：浦野年由 , 亀山泰弘 , 藤田理恵子 , 宮沢隆司 , 利光恵理子
IPC分类号： G03F7/004
CPC分类号： G03F7/033 , G03F7/0045 , G03F7/031
摘要：青紫色領域のレーザー光に対して高感度であると共に、膜厚を上げても感度が低下しない青紫色レーザー感光性レジスト材層を有する画像形成材、及びそのレジスト画像形成方法を提供する。　被加工基板上に青紫色レーザー感光性レジスト材層を有する画像形成材であって、該感光性レジスト材層が、膜厚１０μｍ以上であり、且つ、波長４０５ｎｍにおける吸光度が膜厚１μｍ当たり０．３以下のものである青紫色レーザー感光性レジスト材層を有する画像形成材、及び、該画像形成材の感光性レジスト材層を、波長３２０～４５０ｎｍのレーザー光により走査露光した後、現像処理するレジスト画像形成方法。
摘要翻译：具有对蓝紫色区域中的激光束高度敏感并且没有灵敏度甚至膜厚度降低的蓝紫色激光 - 光敏抗蚀剂材料层的图像形成材料增加。一种图像形成材料，其包括形成在待加工基板上的蓝紫色激光 - 光致抗蚀剂材料层，其中所述光敏抗蚀剂材料层具有至少10μm的膜厚度的蓝紫色激光 - 光敏抗蚀剂材料层和波长405nm处的吸光度，每1μm薄膜高达0.3个; 以及通过具有320-450nm波长的激光束扫描和曝光图像形成材料的光致抗蚀剂材料层的抗蚀剂图像形成方法，然后显影所得材料。

4. 发明专利

JP2016114926A 感光性樹脂組成物、それで構成される硬化部材、及びそれを備えた画像表示装置审中-公开
标题翻译：感光性树脂组合物，包含其的固化构件以及包含其的图像显示装置
公开(公告)号：JP2016114926A
公开(公告)日：2016-06-23
申请号：JP2015092097
申请日：2015-04-28
申请人：三菱化学株式会社
发明人：利光恵理子
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/031 , G02F1/1333 , G03F7/20 , C08G59/32 , C08G59/68 , C08F120/32 , G03F7/038
摘要：【課題】フォトリソグラフィー法でパターニング可能であり、電気信頼性の極めて良好な硬化部材を低温で形成可能な感光性樹脂組成物を提供すること。【解決手段】 (A)エポキシ基を有する側鎖αを含むビニル重合体、(B)置換基を有していてもよいオキセタン環を2以上有するオキセタン化合物、及び(C)光カチオン重合開始剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供可以通过光刻法形成图案的感光性树脂组合物，并且可以在低温下形成具有非常优异的电可靠性的固化部件。解决方案：感光性树脂组合物包含（A）包含侧链的乙烯基聚合物具有环氧基的α，（B）具有两个以上任选取代的氧杂环丁烷环的氧杂环丁烷化合物，（C）光阳离子聚合引发剂。选择图：无

5. 发明专利

JP2015212819A 偏光素子の製造方法、その方法を用いて得られる偏光素子及びその偏光素子を備えた表示装置有权
标题翻译：用于制造极化元件的方法，通过该方法获得的极化元件和包括极化元件的显示装置
公开(公告)号：JP2015212819A
公开(公告)日：2015-11-26
申请号：JP2015084482
申请日：2015-04-16
申请人：三菱化学株式会社
发明人：利光恵理子
IPC分类号： G02F1/1335 , C08G59/20 , G02B5/30
摘要：【課題】塗布欠陥がなく、均質な偏光層を容易にパターニングすることができ、偏光層形成後の製造工程で用いられる水や溶剤の影響を受けない偏光素子の製造方法を提供することにある。【解決手段】以下の工程を有する、基板、偏光層及び保護層を含む偏光素子の製造方法により解決する。 (I)基板に偏光層形成用組成物を連続塗布し、偏光層を形成し、次いで前記偏光層上に、感光性樹脂組成物を連続塗布して保護層を形成する工程。 (II)露光及び現像液による現像により、偏光層及び保護層をパターニングする工程。 (III)前記パターニングされた保護層を、加熱によりメルトフローさせる工程。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种制造偏光元件的方法，通过该方法可以容易地构图不含涂层缺陷的均匀偏振层，并且防止在形成偏振层之后的制造过程中使用的水或溶剂的影响。解决方案：用于制造包括衬底，偏振层和保护层的偏振元件的方法包括以下步骤：（I）通过在衬底上连续施加用于形成偏振层的组合物并随后形成偏振层的步骤通过连续施加感光性树脂组合物在偏振层上形成保护层; （II）通过用显影剂曝光和显影来图案化偏振层和保护层的步骤; 和（III）加热图案化保护层以熔化和流动的步骤。

6. 发明专利

JP2017072832A 感光性樹脂組成物、それを用いて得られる光学素子、スペーサー、絶縁膜及び表示装置审中-公开
公开(公告)号：JP2017072832A
公开(公告)日：2017-04-13
申请号：JP2016196541
申请日：2016-10-04
申请人：三菱化学株式会社
发明人：利光恵理子
IPC分类号： G03F7/028 , G03F7/027 , G03F7/032 , C08F220/32 , C08G59/20 , C08G59/68 , G02F1/1333 , G03F7/004
摘要：【課題】フォトリソグラフィーによるパターニングが可能であり、露光後に下層の異方性光学膜と一括でアルカリ現像をしても該光学膜を保護出来る充分な密着性と膜強度を有し、さらに200℃以下の低温ベークでも下層の光学膜を保護出来る充分な耐薬品性を有し、且つ、液晶セル内部でも充分に対応出来る高レベルな電気信頼性が確保出来る保護層を形成することが可能な感光性樹脂組成物等を提供する。【解決手段】(A)重合性化合物が、(A−1)エポキシ基及びカルボキシル基を有する共重合体と、(A−2)エチレン性不飽和基を有する重合性化合物とを含み、前記(A)重合性化合物が環状脂肪族基を含有し、(B)光カチオン重合開始剤が、芳香族ヨードニウム塩であり、且つ、感光性樹脂組成物の全固形分中における環状脂肪族基の含有割合が7質量%以上であって、さらに(C)光ラジカル重合開始剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。【選択図】なし

7. 发明专利

JP2016142753A 感光性樹脂組成物、それで構成される硬化部材、及びそれを備えた画像表示装置有权
标题翻译：感光性树脂组合物，包含该光固化树脂的固化树脂组合物和具有该组合物的图像显示装置
公开(公告)号：JP2016142753A
公开(公告)日：2016-08-08
申请号：JP2015015881
申请日：2015-01-29
申请人：三菱化学株式会社
发明人：利光恵理子
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/031 , H01L51/50 , H05B33/04 , H05B33/22 , H05B33/10 , H05B33/02 , G02F1/1333 , C08F2/44 , G03F7/038
摘要：【課題】フォトリソでパターニング可能であり、電気信頼性が良好な硬化部材を低温で形成可能な感光性樹脂組成物を提供すること。【解決手段】 (A)エポキシ基を有する側鎖αを含むビニル重合体、(B)光カチオン重合開始剤、(C)エチレン性不飽和基含有化合物、(D)熱ラジカル重合開始剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供可以通过光刻法图案化的感光性树脂组合物，并且可以在低温下形成具有优异的电可靠性的固化部件。溶解性：感光性树脂组合物包含（A）乙烯基聚合物，其包含侧链α 具有环氧基，（B）光阳离子聚合引发剂，（C）含烯属不饱和基团的化合物和（D）热自由基聚合引发剂。选择图：无

8. 发明专利

JP2016035553A 偏光素子の製造方法、その方法を用いて得られる偏光素子及びその偏光素子を備えた表示装置有权
标题翻译：用于制造极化元件的方法，使用该方法获得的极化元件和包括极化元件的显示装置
公开(公告)号：JP2016035553A
公开(公告)日：2016-03-17
申请号：JP2015059748
申请日：2015-03-23
申请人：三菱化学株式会社
发明人：内田直幸 , 利光恵理子
IPC分类号： H05B33/02 , H01L51/50 , C09B67/22 , G02F1/1335 , G02B5/30
摘要：【課題】基板上に複数の偏光層をパターニングする簡易な方法を提供することである。また、前記方法で得られた偏光層が、寸法精度に優れ、塗布欠陥のない均一な膜となる方法を提供することである。【解決手段】以下の工程を有する、基板、偏光層及び保護層を含む偏光素子の製造方法により解決する。以下の工程を有する、基板、偏光層及び保護層を含む偏光素子の製造方法。 (I)基板に偏光層形成用組成物を連続塗布して偏光層を形成し、次いで前記偏光層を塩交換により不溶化処理する工程。 (II)前記不溶化処理された偏光層上に、感光性樹脂組成物を塗布して保護層を形成する工程。 (III)保護層上にマスクを設け露光し、アルカリ溶液による現像を行うことにより、前記保護層及び不溶化処理された偏光層をパターニングする工程。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于在基板上图案化多个偏振层的简单方法，并提供一种获得通过上述方法获得的偏振层中的尺寸精度优异和无涂层缺陷的均匀膜的方法。提供一种用于制造包括基板，偏振层和保护层的偏振元件的方法，其包括以下步骤：（I）在基板上连续施加用于形成偏振层的组合物以形成偏振层，然后通过盐交换使偏振层不溶解; （II）将感光性树脂组合物涂布在不溶解的偏振层上形成保护层; 和（III）在保护层上设置掩模以暴露层并用碱溶液显影层以图案化保护层和不溶性偏振层。选择图：图2

9. 发明专利

JP2016035562A 光学素子の製造方法审中-公开
标题翻译：制造光学元件的方法
公开(公告)号：JP2016035562A
公开(公告)日：2016-03-17
申请号：JP2015144891
申请日：2015-07-22
申请人：三菱化学株式会社
发明人：利光恵理子
IPC分类号： G03F7/00 , B05D1/36 , B05D5/06 , B05D7/00 , G02B5/30
摘要：【課題】塗布欠陥がなく、均質な異方性を有する光学膜を容易にパターニングすることができ、異方性を有する光学膜形成後の製造工程で用いられる水や溶剤の影響を受けない光学素子の製造方法を提供する。【解決手段】以下の工程を有する、基板、異方性を有する光学膜及び保護層を含む光学素子の製造方法である。(I)基板に異方性を有する光学膜形成用組成物を連続塗布して異方性を有する光学膜を形成し、次いで前記異方性を有する光学膜を塩交換によって不溶化処理する工程。(II)不溶化処理した異方性を有する光学膜上に、感光性樹脂組成物を連続塗布して保護層を形成する工程。(III)露光及び現像液による現像により、前記保護層をパターニングする工程。(IV)保護層が現像除去されて露出した部分の異方性を有する光学膜を、酸性水溶液又はアルカリ性水溶液に接触後、水洗する工程。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于制造光学元件的方法，通过该方法可以容易地构图具有均匀各向异性和无涂层缺陷的光学膜，并且各向异性光学膜不受水或溶剂之后的制造过程中使用的溶剂的影响提供了一种光学膜的制造方法。提供了一种用于制造包括基板，各向异性光学膜和保护层的光学元件的方法，其包括以下步骤：（I）连续施加用于形成各向异性光学膜的组合物在基板上形成各向异性光学膜，然后通过盐交换使各向异性光学膜不溶解; （II）在不溶性各向异性光学膜上连续施加感光性树脂组合物以形成保护层; （III）通过用显影剂曝光和显影来图案化保护层; 和（IV）使各向异性光学膜通过显影除去保护层的暴露部分与酸性水溶液或碱性水溶液接触，然后冲洗光学膜。图1

10. 发明专利

JP2015206842A 塗布型偏光膜保護層用感光性樹脂組成物、それを用いて形成した保護層、保護層付き塗布型偏光膜、及びその塗布型偏光膜を備えた表示装置审中-公开
标题翻译：用于涂覆型偏光膜保护层的光敏树脂组合物，使用组合物形成的保护层，带有保护层的涂层型极化膜，以及包括涂料型极化膜的显示装置
公开(公告)号：JP2015206842A
公开(公告)日：2015-11-19
申请号：JP2014085757
申请日：2014-04-17
申请人：三菱化学株式会社
发明人：利光恵理子
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/027 , G03F7/031 , C08G59/32 , C08G65/18 , C08F20/20 , G02F1/1335 , G02B5/30
摘要：【課題】塗布型偏光膜の機能を阻害することなく、その上に保護層を形成すると共に塗布型偏光膜ごとパターニング(塗布不要部分の除去)でき、さらに得られた保護層は塗布型偏光膜をその後の積層プロセスから保護する役割も果たす感光性樹脂組成物を提供すること。【解決手段】少なくとも、(A)少なくとも環状エーテル基を有する重合体、(B)光カチオン重合開始剤を含有する塗布型偏光膜保護層用感光性樹脂組成物。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：为了提供具有这样的特性的感光性树脂组合物，其特征在于，可以在不抑制偏光膜的功能的情况下，在涂膜型偏振膜上形成由组合物形成的保护层，保护层与涂膜型偏光膜可以图案化（通过除去涂层的不必要部分），并且所获得的保护层还具有保护涂层型偏振膜免于随后的层压工艺的功能。解决方案：用于涂料型偏光膜保护的感光性树脂组合物至少包含（A）至少具有环醚基的聚合物和（B）光阳离子聚合引发剂。

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