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1. 发明专利

JP6686730B2 導電酸化物膜および導電積層膜有权
公开(公告)号：JP6686730B2
公开(公告)日：2020-04-22
申请号：JP2016123918
申请日：2016-06-22
申请人：三菱マテリアル株式会社
发明人：齋藤淳 , 歳森悠人 , 張守斌 , 塩野一郎
IPC分类号： B32B15/04 , H01B5/14 , B32B9/00 , C23C14/08

2. 发明专利

JP2017172039A スパッタリングターゲット审中-公开
公开(公告)号：JP2017172039A
公开(公告)日：2017-09-28
申请号：JP2017038734
申请日：2017-03-01
申请人：三菱マテリアル株式会社
发明人：齋藤淳 , 井尾謙介 , 塩野一郎 , 張守斌
IPC分类号： C04B35/45 , C22C1/05 , C22C29/12 , C23C14/34
摘要：【課題】DC(直流)スパッタが可能であり、均一な酸化銅被膜を成膜可能なスパッタリングターゲットを提供する。【解決手段】金属銅相と酸化銅相とを有し、酸化銅相の体積率が80vol%を超えて90vol%以下の範囲内とされており、ターゲットスパッタ面における比抵抗値の平均値に対するばらつきが50%以下とされ、ターゲット組織中の前記金属銅相の粒径が10μm以上200μm以下の範囲内とされていることを特徴とする。また、p型半導体の性質を有していることが好ましい。【選択図】なし

3. 发明专利

JP5975186B1 Ag合金スパッタリングターゲット及びAg合金膜の製造方法有权
标题翻译：的Ag合金溅射靶和Ag合金膜的生产
公开(公告)号：JP5975186B1
公开(公告)日：2016-08-23
申请号：JP2016017804
申请日：2016-02-02
申请人：三菱マテリアル株式会社
发明人：歳森悠人 , 小見山昌三 , 塩野一郎
IPC分类号： C22C5/06 , C22C5/08 , C23C14/14 , C23C14/34
CPC分类号： C22C5/06 , C22C5/08 , C23C14/14 , C23C14/34
摘要：【課題】耐環境性(耐熱湿性)及び耐イオンマイグレーション性に優れたAg合金膜を成膜可能なAg合金スパッタリングターゲットを提供する。【解決手段】Cu,Sn,Sb,Mg,In,Tiから選択される1種又は2種以上の元素を合計で0.1原子%以上15.0原子%以下の範囲で含有し、さらに、Sを0.5原子ppm以上200原子ppm以下の範囲で含有し、残部がAg及び不可避不純物からなる組成とされていることを特徴とする。【選択図】なし
摘要翻译：阿耐环境性的Ag合金膜（热湿）和耐离子迁移优良提供一种成膜可以Ag合金溅射靶。铜，包含在锡，锑，镁，在1个或两个或多个元件的范围内的15.0原子％0.1原子％或更多的选自Ti总，还0.5 S原子含有200原子ppm ppm以下的范围内，余量为包含Ag和不可避免的杂质的组成。系统技术领域

4. 发明专利

JP2016027195A スパッタリングターゲット、光学機能膜、及び、積層配線膜审中-公开
标题翻译：溅射目标，光学功能膜和多层布线
公开(公告)号：JP2016027195A
公开(公告)日：2016-02-18
申请号：JP2015116826
申请日：2015-06-09
申请人：三菱マテリアル株式会社
发明人：齋藤淳 , 張守斌 , 塩野一郎
IPC分类号： C23C14/08 , G06F3/041 , B32B9/00 , H01L21/28 , H01L21/285 , C23C14/34
CPC分类号： C04B35/00 , C22C27/04 , C22C28/00 , C22C38/00 , C22C38/12 , C22C9/00 , C22C9/05 , C22C9/06 , C23C14/08 , C23C14/34 , G02B1/113
摘要：【課題】本発明は、タッチパネルにおける金属薄膜の配線等に積層して、タッチパネル画面における配線パターン等の金属光沢を低減するための薄膜を形成するスパッタリングターゲットを提供する。【解決手段】本発明によるスパッタリングターゲットは、金属元素として、Mo及びInのいずれか1種又は2種及びCu及びFeのいずれか1種又は2種を主成分とし、Mo及びInのいずれか1種又は2種:5〜80at%と、Cu及びFeのいずれか1種又は2種:20〜95at%とを含有し、前記金属元素の一部又は全部が酸化物からなり、該スパッタリングターゲットを用いてスパッタリング成膜すると、金属光沢を低減できる光学機能膜が得られる。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供一种通过在触摸面板屏幕上层叠布线图案等来形成用于减少触摸面板屏幕上的布线图案等的金属光泽的薄膜的溅射靶。解决方案：溅射目标具有一种或两种Mo和In中的一种或两种的主要成分，作为金属元素的Cu和Fe中的一种或两种，一种或两种以上的5〜80at％ Mo和In，以及20〜95at％的一种或两种Cu和Fe，并且所述金属元素部分或全部由氧化物制成。当通过使用所述溅射靶进行溅射成膜时，获得能够减少金属光泽的光学功能膜。选择图：无

5. 发明专利

JP6801168B2 スパッタリングターゲット、光学機能膜、及び、積層配線膜有权
公开(公告)号：JP6801168B2
公开(公告)日：2020-12-16
申请号：JP2015116826
申请日：2015-06-09
申请人：三菱マテリアル株式会社
发明人：齋藤淳 , 張守斌 , 塩野一郎
IPC分类号： C23C14/08 , G06F3/041 , B32B9/00 , H01L21/28 , H01L21/285 , C23C14/34

6. 发明专利

JP2018188714A スパッタリングターゲット审中-公开
公开(公告)号：JP2018188714A
公开(公告)日：2018-11-29
申请号：JP2017094605
申请日：2017-05-11
申请人：三菱マテリアル株式会社
发明人：塩野一郎 , 小路雅弘
IPC分类号： C04B35/593 , C23C14/34
摘要：【課題】Si 3 N 4 とSiO 2 とMgOの焼結体からなるスパッタリングターゲットであって、高いスパッタパワーでも成膜しても割れやクラックが発生しにくいスパッタリングターゲットの提供。【解決手段】Si 3 N 4 とSiO 2 とMgOの焼結体からなるスパッタリングターゲットであって、密度が2.70g/cm 3 を超え、Si 3 N 4 はβ分率が7%以下であるスパッタリングターゲット。前記スパッタリングターゲットを用いて成膜したスパッタ膜で保護される、サーマルプリントヘッド。【選択図】なし

7. 发明专利

JP6394437B2 スパッタリングターゲット有权
公开(公告)号：JP6394437B2
公开(公告)日：2018-09-26
申请号：JP2015037832
申请日：2015-02-27
申请人：三菱マテリアル株式会社
发明人：齋藤淳 , 張守斌 , 塩野一郎
IPC分类号： C23C14/08 , C23C14/06 , G06F3/041 , G02B1/113 , C23C14/34

8. 发明专利

JP2016191090A スパッタリングターゲット材、その製造方法、及び光学機能膜审中-公开
标题翻译：溅射靶材，其制造方法和光学功能膜
公开(公告)号：JP2016191090A
公开(公告)日：2016-11-10
申请号：JP2015070175
申请日：2015-03-30
申请人：三菱マテリアル株式会社
发明人：齋藤淳 , 張守斌 , 塩野一郎
IPC分类号： C04B35/00 , C03C17/245 , C23C14/34
摘要：【課題】低反射率であって、金属薄膜上にスパッタリング成膜すれば、金属光沢を隠ぺいするに最適でしかも信頼性に優れた光学機能膜を形成することができるだけではなく、そのためのスパッタリングターゲット材自体として、割れが生じにくいようにしたスパッタリングターゲット材を提供することを基本的な課題としている。【解決手段】金属元素として、FeとMoとを含有し、かつ前記金属元素の一部又は全部が酸化物の形態で存在し、しかも酸化物相に、Fe−Mo−O系化合物が含まれていることを特徴とするスパッタリングターゲット材。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：为了提供不仅可以形成具有低反射率的光学功能膜的金属光泽的溅射靶材料，并且通过在金属薄膜上溅射形成而具有优异的可靠性，作为基本课题，而且作为溅射靶材料本身也难以发生裂纹。本发明涉及一种含有Fe和Mo作为金属元素的溅射靶材料，部分或全部金属元素以氧化物的形式存在，Fe- Mo-O基化合物包含在氧化物相中。选择图：图1

9. 发明专利

JP6020750B1 透明導電配線、及び、透明導電配線の製造方法有权
标题翻译：透明导电金属丝，及其制造方法的透明导电金属丝
公开(公告)号：JP6020750B1
公开(公告)日：2016-11-02
申请号：JP2016034768
申请日：2016-02-25
申请人：三菱マテリアル株式会社
发明人：塩野一郎 , 歳森悠人 , 野中荘平 , 齋藤淳
IPC分类号： G06F3/041 , C23C14/06 , H01L21/28
摘要：【課題】高い視感透過率を有するとともに、Ag膜のオーバーエッチング量が抑制され、導電性が十分に確保された透明導電配線、及び、この透明導電配線の製造方法を提供する。【解決手段】Ag又はAg合金からなるAg膜11とこのAg膜11に積層された透明導電酸化物膜12とを有し、エッチング処理によって配線パターンが形成された透明導電配線10であって、Ag膜11の膜厚taが15nm以下の範囲内とされ、透明導電酸化物膜12に対するAg膜11のオーバーエッチング量Lが1μm以下とされている。【選択図】図2
摘要翻译： A具有高光透射率，该Ag膜的过蚀刻的被抑制的量，电导率足以保留透明导电线，并提供透明导电互连的制造方法。 A和Ag膜11的透明导电氧化物层合在由Ag或Ag合金的桃红膜12的Ag膜11，透明导电金属丝10在其上的布线图案是通过蚀刻形成，厚度ta的Ag膜11的是在低于15纳米的范围内，过蚀刻Ag膜11的L与氧化物透明导电膜12的量为1微米或更小。 .The

10. 发明专利

JP2016160448A スパッタリングターゲット及び金属反射低減用の光学機能膜有权
标题翻译：溅射目标和光学功能薄膜，用于减少金属反射
公开(公告)号：JP2016160448A
公开(公告)日：2016-09-05
申请号：JP2015037832
申请日：2015-02-27
申请人：三菱マテリアル株式会社
发明人：齋藤淳 , 張守斌 , 塩野一郎
IPC分类号： C23C14/08 , C23C14/06 , G06F3/041 , G02B1/113 , C23C14/34
摘要：【課題】タッチパネルにおける金属膜の配線に隣接するよう成膜して、タッチパネル画面の配線パターンの金属光沢を低減する膜(以下、光学機能膜と称する)、及び、この光学機能膜をスパッタリング成膜するためのスパッタリングターゲットの提供。【解決手段】Cu及びFeのいずれか1種又は2種の合計で85〜95質量%を含有し、Ni及びMnのいずれか1種又は2種の合計で5〜15質量%を含有した金属合金からなるスパッタリングターゲット。該ターゲットを用いて酸化性雰囲気でスパッタリング成膜した酸化物からなり、平均反射率が30%以下である、光学機能膜。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：为了提供一种形成为与触摸面板中的金属膜的布线相邻形成的膜（将被称为光学功能膜），从而减少了布线图案的金属光泽触摸面板屏幕，并提供用于溅射和形成光学功能膜的溅射靶。解决方案：溅射靶由包含总共85至95质量％的一种或两种Cu的金属合金制成和Fe和5〜15质量％的一种或两种Ni和Mn的总量。光学功能膜由氧化物溅射并通过使用所述靶材在氧化气氛中成膜并具有30％以下的平均反射率制成。选择图：无

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