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1. 发明专利

TWI531442B 研磨墊、研磨裝置及研磨墊之製造方法有权
简体标题：研磨垫、研磨设备及研磨垫之制造方法
公开(公告)号：TWI531442B
公开(公告)日：2016-05-01
申请号：TW101138355
申请日：2012-10-18
申请人：三芳化學工業股份有限公司 , SAN FANG CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD.
发明人：馮崇智 , FENG, CHUNG CHIH , 姚伊蓬 , YAO, I PENG , 洪永璋 , HUNG, YUNG CHANG , 蔡坤成 , TSAI, KUN CHENG
IPC分类号： B24B37/26 , B24B37/24
CPC分类号： B24B37/26 , B24B37/20 , B24D18/0009 , B29D7/00

2. 发明专利

TWI413570B 拋光墊之製造方法有权
简体标题：抛光垫之制造方法
公开(公告)号：TWI413570B
公开(公告)日：2013-11-01
申请号：TW099106972
申请日：2010-03-10
申请人：三芳化學工業股份有限公司 , SAN FANG CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD.
发明人：馮崇智 , FENG, CHUNG CHIH , 蔡坤成 , TSAI, KUN CHENG , 洪永璋 , HUNG, YUNG CHANG , 姚伊蓬 , YAO, I PENG
IPC分类号： B24B37/24 , B24D3/00
CPC分类号： B24B37/24 , B24D11/001 , D04H1/4334 , D04H1/435 , D06M15/227 , D06M15/233 , D06M15/263 , D06M15/333 , D06M15/513 , D06M15/55 , D06M15/564 , D06M15/59 , D06M15/693 , D06M23/10 , D06N7/00 , D06N2205/246 , D06N2213/045

3. 发明专利

TW201416175A 研磨墊、研磨裝置及研磨墊之製造方法审中-公开
简体标题：研磨垫、研磨设备及研磨垫之制造方法
公开(公告)号：TW201416175A
公开(公告)日：2014-05-01
申请号：TW101138355
申请日：2012-10-18
申请人：三芳化學工業股份有限公司 , SAN FANG CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD.
发明人：馮崇智 , FENG, CHUNG CHIH , 姚伊蓬 , YAO, I PENG , 洪永璋 , HUNG, YUNG CHANG , 蔡坤成 , TSAI, KUN CHENG
IPC分类号： B24B37/26 , B24B37/24 , H01L21/304 , H01L21/306
CPC分类号： B24B37/26 , B24B37/20 , B24D18/0009 , B29D7/00
摘要：本發明係關於一種研磨墊，其包含一研磨表面。該研磨表面包含一第一研磨區域及一第二研磨區域，該第一研磨區域包含至少一第一發泡樹脂孔洞，該第二研磨區域包含至少一第二發泡樹脂孔洞，其中該第一發泡樹脂孔洞之平均孔徑係小於該第二發泡樹脂孔洞之平均孔徑。根據本發明之研磨墊藉由不同孔徑之研磨區域，可改善研磨時基材邊緣及中心部位移除量不一之缺點，使基材表面平均。
简体摘要：本发明系关于一种研磨垫，其包含一研磨表面。该研磨表面包含一第一研磨区域及一第二研磨区域，该第一研磨区域包含至少一第一发泡树脂孔洞，该第二研磨区域包含至少一第二发泡树脂孔洞，其中该第一发泡树脂孔洞之平均孔径系小于该第二发泡树脂孔洞之平均孔径。根据本发明之研磨垫借由不同孔径之研磨区域，可改善研磨时基材边缘及中心部位移除量不一之缺点，使基材表面平均。

4. 发明专利

TW201130607A 拋光墊及其製造方法 POLISHING PAD AND METHOD FOR MAKING THE SAME 审中-公开
简体标题：抛光垫及其制造方法 POLISHING PAD AND METHOD FOR MAKING THE SAME
公开(公告)号：TW201130607A
公开(公告)日：2011-09-16
申请号：TW099106972
申请日：2010-03-10
申请人：三芳化學工業股份有限公司
发明人：馮崇智 , 蔡坤成 , 洪永璋 , 姚伊蓬
IPC分类号： B24D
CPC分类号： B24B37/24 , B24D11/001 , D04H1/4334 , D04H1/435 , D06M15/227 , D06M15/233 , D06M15/263 , D06M15/333 , D06M15/513 , D06M15/55 , D06M15/564 , D06M15/59 , D06M15/693 , D06M23/10 , D06N7/00 , D06N2205/246 , D06N2213/045
摘要：本發明係關於一種拋光墊及其製造方法，該拋光墊包括複數條纖維及一高分子彈性體化合物。該等纖維係交錯排列成一纖維基材。該高分子彈性體化合物係由一第一高分子彈性體樹脂及一第二高分子彈性體樹脂化合而成，其中該第一高分子彈性體樹脂之重量平均分子量界於100000~300000之範圍內，該第二高分子彈性體樹脂係為二液型高分子彈性體樹脂，其包括一第一成份及一第二成份，該第一成份係為分子量1500至2500之聚酯多元醇(Polyol)，其重量百分比1％至15％，該第二成份係為分子量3500至4500之聚酯多元醇(Polyol)，其重量百分比85％至99％。藉此，該拋光墊不僅有較佳的剛性及提供高平坦化的效能，而且其具有連通孔洞及活動性纖維，使得被拋光/研磨之工件具有較佳表面品質。
简体摘要：本发明系关于一种抛光垫及其制造方法，该抛光垫包括复数条纤维及一高分子弹性体化合物。该等纤维系交错排列成一纤维基材。该高分子弹性体化合物系由一第一高分子弹性体树脂及一第二高分子弹性体树脂化合而成，其中该第一高分子弹性体树脂之重量平均分子量界于100000~300000之范围内，该第二高分子弹性体树脂系为二液型高分子弹性体树脂，其包括一第一成份及一第二成份，该第一成份系为分子量1500至2500之聚酯多元醇(Polyol)，其重量百分比1％至15％，该第二成份系为分子量3500至4500之聚酯多元醇(Polyol)，其重量百分比85％至99％。借此，该抛光垫不仅有较佳的刚性及提供高平坦化的性能，而且其具有连通孔洞及活动性纤维，使得被抛光/研磨之工件具有较佳表面品质。

5. 发明专利

TW201125687A 拋光墊及其製造方法 POLISHING PAD AND METHOD FOR MAKING THE SAME 审中-公开
简体标题：抛光垫及其制造方法 POLISHING PAD AND METHOD FOR MAKING THE SAME
公开(公告)号：TW201125687A
公开(公告)日：2011-08-01
申请号：TW099101518
申请日：2010-01-20
申请人：三芳化學工業股份有限公司
发明人：馮崇智 , 王俊達 , 蔡坤成 , 洪永璋 , 姚伊蓬 , 楊高隆 , 林至逸
IPC分类号： B24D , B24B
CPC分类号： D04H1/4334 , B24B37/24 , B24D11/001 , D04H1/435 , D04H1/488 , Y10T428/2481 , Y10T442/2008 , Y10T442/2861 , Y10T442/2885 , Y10T442/2918
摘要：本發明係關於一種拋光墊及其製造方法,該拋光墊包括一纖維基材及一第二高分子彈性體樹脂。該纖維基材係由複數條複合纖維交錯排列而成,每一複合纖維具有複數條細纖維及一第一高分子彈性體樹脂,該第一高分子彈性體樹脂係間斷地包覆該等細纖維。該第二高分子彈性體樹脂包覆該等複合纖維,其中該第二高分子彈性體樹脂及該第一高分子彈性體樹脂具有相同之官能基。藉由調整該第一高分子彈性體樹脂及該第二高分子彈性體樹脂的飽和度,可使該等細纖維之細度可以更小且不易糾結,因而不易刮傷被拋光工件之表面,使得被拋光工件具有較佳表面品質。
简体摘要：本发明系关于一种抛光垫及其制造方法,该抛光垫包括一纤维基材及一第二高分子弹性体树脂。该纤维基材系由复数条复合纤维交错排列而成,每一复合纤维具有复数条细纤维及一第一高分子弹性体树脂,该第一高分子弹性体树脂系间断地包覆该等细纤维。该第二高分子弹性体树脂包覆该等复合纤维,其中该第二高分子弹性体树脂及该第一高分子弹性体树脂具有相同之官能基。借由调整该第一高分子弹性体树脂及该第二高分子弹性体树脂的饱和度,可使该等细纤维之细度可以更小且不易纠结,因而不易刮伤被抛光工件之表面,使得被抛光工件具有较佳表面品质。

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