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    • 1. 发明专利
    • マルチポート弁アセンブリを備えるプラズマ処理装置
    • 具有多端口阀组件的等离子体处理装置
    • JP2015043420A
    • 2015-03-05
    • JP2014159292
    • 2014-08-05
    • ラム リサーチ コーポレーションLam Research CorporationLam Research Corporationラム リサーチ コーポレーションLam Research Corporation
    • MICHAEL C KELLOGGDANIEL A BROWNLEONARD J SHARPLESSALLAN K RONNE
    • H01L21/3065F16K11/074H05H1/46
    • H01J37/32513H01J37/32816H01J37/32834
    • 【課題】プラズマ処理装置のチェンバと真空ポンプとの間の流体連通を調整することができるマルチポート弁アセンブリを提供する。【解決手段】プラズマ処理装置100は、チェンバ110と、電極アセンブリ118と、ウェハステージ120と、ガス導入口130と、複数の真空ポート142と、少なくとも1つの真空ポンプ150と、マルチポート弁アセンブリ160と、を備える。マルチポート弁アセンブリは、処理チェンバ内に配置された可動封止板170を含む。可動封止板は、横断ポート封止面141を有し、閉状態では複数の真空ポートと完全にオーバラップし、部分開状態では複数の真空ポートと部分的にオーバラップし、開状態では複数の真空ポートと略オーバラップしないような、形状および大きさになっている。マルチポート弁アセンブリは、可動封止板に連結された横断アクチュエータと、可動封止板に連結された封止アクチュエータとを含む。【選択図】図1
    • 要解决的问题:提供一种可以调节等离子体处理装置的室与真空泵之间的流体连通的多端口阀组件。解决方案:等离子体处理装置100包括室110,电极组件118,晶片台 120,气体入口130,多个真空端口142,至少一个真空泵150和多口阀组件160.多口阀组件包括位于处理室中的可移动密封板170。 可移动密封板具有横向端口密封表面141,该横向端口密封表面141的形状和尺寸在闭合状态下完全重叠多个真空端口,以部分地与多个真空端口部分地重叠在部分打开的状态,并且避免了 处于打开状态的多个真空口。 多端口阀组件包括耦合到可移动密封板的横向致动器和联接到可移动密封板的密封致动器。
    • 2. 发明专利
    • Apparatus for optimized plasma chamber top piece
    • 优化等离子体顶板的设备
    • JP2012129550A
    • 2012-07-05
    • JP2012055506
    • 2012-03-13
    • Lam Research Corporationラム リサーチ コーポレーション
    • LEONARD J SHARPLESSKEITH COMENDANT
    • H01L21/3065
    • H01J37/32522H01J37/321
    • PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a plasma processing system having an optimized top piece that can substantially be handled by a single person.SOLUTION: The plasma processing system includes a bottom piece including a chuck configured to hold a substrate. The plasma processing system also includes an induction coil configured to form an electromagnetic field for creating a plasma for processing the substrate, and the optimized top piece coupled to the bottom piece which has a hollow cylindrical portion for accommodating a heating and cooling plate at a terminal end. The heating and cooling system is substantially shielded from the electromagnetic field by the optimized top piece, and the top piece can substantially be handled by a single person.
    • 要解决的问题:提供一种等离子体处理系统,其具有可以由单个人基本上处理的优化顶部件。 解决方案:等离子体处理系统包括底部件,其包括构造成保持基板的卡盘。 等离子体处理系统还包括构造成形成用于产生用于处理衬底的等离子体的电磁场的感应线圈,以及耦合到底部件的优化的顶部件,其具有用于在端子处容纳加热和冷却板的中空圆柱形部分 结束。 加热和冷却系统通过优化的顶部部件基本上与电磁场屏蔽,并且顶部部件可以基本上由单个人操作。 版权所有(C)2012,JPO&INPIT