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    • 5. 发明专利
    • 固体撮像素子及びその製造方法
    • 固态成像元件及其制造方法
    • JP2016178143A
    • 2016-10-06
    • JP2015055694
    • 2015-03-19
    • セイコーエプソン株式会社
    • 桑澤 和伸中村 紀元関澤 充生遠藤 剛廣
    • H01L27/146
    • H01L27/14643H01L27/14607H01L27/14612H01L27/14616H01L27/14689
    • 【課題】電荷転送を行う際にポテンシャル井戸及びポテンシャル障壁の両者の発生を抑制できる固体撮像素子を提供する。 【解決手段】Pウェル12と、ゲート絶縁膜19と、ゲート電極20と、前記ゲート電極の第1の端部20aより外側のPウェルに位置するP + 型のピニング層22と、少なくともゲート電極の第1の端部より内側の前記Pウェルに位置し、かつ前記ピニング層に接するP − 型不純物領域17と、前記ピニング層及び前記P − 型不純物領域の下方の前記Pウェルに位置し、かつ前記P − 型不純物領域に接するとともに前記ゲート絶縁膜に接するN − 型不純物領域15と、前記ゲート電極の第2の端部20bの下方の前記Pウェルに位置するN + 型不純物領域24を含む固体撮像素子である。 【選択図】図1
    • 要解决的问题:提供一种在执行电荷转移时能够抑制势阱和势垒的产生的固态成像元件。解决方案:固态成像元件包括:P阱12; 栅极绝缘膜19; 栅电极20; P型钉扎层22,其位于比栅电极的第一端部20a更靠外侧的P阱上; P型杂质区17,其位于P阱的至少比栅极的第一端更靠内侧并与钉扎层接触的位置; N型杂质区域15位于P阱低于钉扎层和P型杂质区并且与P型杂质区域接触并且还与栅极绝缘膜接触; 以及位于P阱下方的N型杂质区24,栅极电极的第二端部20b下方。图1