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1. 发明申请

WO2003010603A1 ポジ型感放射線性組成物およびパターン形成方法审中-公开
标题翻译：积极类型的放射性组合物和形成图案的方法
公开(公告)号：WO2003010603A1
公开(公告)日：2003-02-06
申请号：PCT/JP2002/007343
申请日：2002-07-19
申请人：ジェイエスアール株式会社 , 玉木研太郎 , 宇高友広 , 西川昭
发明人：玉木研太郎 , 宇高友広 , 西川昭
IPC分类号： G03F7/075
CPC分类号： G02B6/13 , G02B6/122 , G02B6/1221 , G02B6/1347 , G02B6/138 , G02B2006/12097 , G02B2006/121 , G03F7/0045 , G03F7/0755 , G03F7/0757
摘要： A positive type radiosensitive composition comprising the following components (A) to (C): (A) at least one compound selected from the group consisting of a hydrolyzable silane compound represented by the general formula (1): (R 1 ) p Si(X) 4−p (1) wherein R 1 represents a non−hydrolyzable organic group having 1 to 12 carbon atoms, X represents a hydrolyzable group, and p represents an integer of 0 to 3, a hydrolyzate thereof and a condensed product therefrom; (B) an agent generating an acid by the irradiation with a light; and (C) a basic compound. The use of the above composition allows the production of a cured product excellent in the precision of a pattern and the like, and the above composition can be used as a material for forming an optical wave guide.
摘要翻译：一种阳离子型放射敏感性组合物，其包含以下成分（A）〜（C）：（A）至少一种选自由通式（1）表示的可水解硅烷化合物的化合物：（R 1）（1）其中R 1表示具有1至12个不可水解的有机基团，其中R 1表示不可水解的有机基团，其具有1至12个碳原子，X表示可水解基团，p表示0〜3的整数，其水解产物和缩合产物; （B）通过用光照射产生酸的试剂; 和（C）碱性化合物。通过使用上述组合物，可以制造图案等的精度优异的固化物，并且可以将上述组合物用作形成光波导的材料。

2. 发明申请

WO2004083309A1 放射線硬化型組成物、光導波路およびその形成方法审中-公开
标题翻译：辐射可固化组合物，光波导和其形成方法
公开(公告)号：WO2004083309A1
公开(公告)日：2004-09-30
申请号：PCT/JP2003/013371
申请日：2003-10-20
申请人： JSR株式会社 , 高瀬英明 , 玉木研太郎 , 皇甫俊 , 宇高友広 , 江利山祐一
发明人：高瀬英明 , 玉木研太郎 , 皇甫俊 , 宇高友広 , 江利山祐一
IPC分类号： C08L83/08
CPC分类号： C09D183/08 , C08L83/08 , G02B6/138 , G02B2006/121 , G03F7/001 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0757 , C08L2666/24 , C08L2666/34 , C08L2666/28
摘要：（Ａ）一般式（１）：（Ｒ１）ｐ（Ｒ２）ｑＳｉ（Ｘ）４−ｐ−ｑ（式中、Ｒ１はフッ素原子を含有する炭素数が１～１２である非加水分解性の有機基、Ｒ２は炭素数が１～１２である非加水分解性の有機基（ただし、フッ素原子を含有するものを除く。）、Ｘは加水分解性基、ｐは１又は２の整数、ｑは０又は１の整数である。）で表される加水分解性シラン化合物の加水分解物またはその縮合物、及び（Ｂ）光酸発生剤を含有し、かつ当該組成物中のシラノール（Ｓｉ−ＯＨ）基含量が、全Ｓｉ上の結合基に対して０．１～０．５である放射線硬化型組成物。この組成物は、可視域から近赤外域に亘る広範囲の波長を有する光について、導波路損失が少なく、しかも耐クラック性や、放射線照射によるパターニング性等に優れている。
摘要翻译：一种可辐射固化组合物，其包含（A）由通式（1）表示的可水解硅烷化合物的水解产物：（R 1）p（R 2）q Si（X）4-pq其中R 1，是具有1〜12个碳原子并且含有氟原子的不可水解的有机基团，R 2是具有1〜12个碳原子的不可水解的有机基团（除了含有氟原子的有机基团），X是可水解的基团，p为1或2的整数，q为0或1的整数，或其缩合物，（B）通过光照射产生酸的试剂，并含有硅烷醇（Si-OH ）基团相对于其上的Si的键合基团的总量为0.1〜0.5。该组合物允许形成相对于从可见区域到近红外区域的宽范围的波长的波导损耗减小的光波导，并且还具有优异的耐开裂性，特性用辐射照射进行图案化等。

3. 发明申请

WO2009096603A1 トレンチアイソレーションの形成方法审中-公开
标题翻译：形成分离分离结构的方法
公开(公告)号：WO2009096603A1
公开(公告)日：2009-08-06
申请号：PCT/JP2009/052004
申请日：2009-01-30
申请人： JSR株式会社 , 服部清太郎 , 関口学 , 小久保輝一 , 玉木研太郎 , 古川剛 , 松本太一 , 宮本智明
发明人：服部清太郎 , 関口学 , 小久保輝一 , 玉木研太郎 , 古川剛 , 松本太一 , 宮本智明
IPC分类号： H01L21/76 , H01L21/312
CPC分类号： H01L21/312 , C08G77/12 , C08G77/80 , C08L2203/20 , C09D183/04 , H01L21/02164 , H01L21/02205 , H01L21/02282 , H01L21/316 , H01L21/76224
摘要：本発明は、トレンチを有する基板上に、下記示性式（１）　（Ｈ２ＳｉＯ）ｎ（ＨＳｉＯ１．５）ｍ（ＳｉＯ２）ｋ　　　（１）　（式（１）中、ｎ、ｍおよびｋはそれぞれ数であり、ｎ＋ｍ＋ｋ＝１としたとき、ｎは０～０．８であり、ｍは０～１．０であり、ｋは０～０．２である。)で表され１２０℃において固体状であるシリコーン樹脂および有機溶媒を含有するシリコーン樹脂組成物を、上記基板のトレンチ内が充填されるように塗布して塗膜を形成し、次いで該塗膜に対し水、アルコールおよび過酸化水素よりなる群から選択される少なくとも１種を接触させる工程ならびに熱処理およびは光処理よりなる群から選択される少なくとも１種の工程を行うことを特徴とするトレンチアイソレーションの形成方法に関する。
摘要翻译：公开了一种形成沟槽隔离结构的方法，其特征在于包括以下步骤：将硅树脂组合物施加在具有沟槽的衬底上，使得涂覆膜以这样的方式形成：沟槽被填充有组合物，然后使选自水，醇和过氧化氢的至少一种物质与涂膜接触，并且进行选自热处理和光学处理中的至少一种处理的步骤。有机硅树脂组合物含有有机溶剂和由合理式（1）表示的有机溶剂，在120℃下为固体状态。（H2SiO）n（HSiO1.5）m（SiO2）k（1）（在公式（1）中，n，m和k分别表示数字，当n + m + k = 1时，n为0-0.8 ，m为0-1.0，k为0-0.2。）

4. 发明申请

WO2006135050A1 光導波路素子およびその製造方法审中-公开
标题翻译：光波导元件及其制造方法
公开(公告)号：WO2006135050A1
公开(公告)日：2006-12-21
申请号：PCT/JP2006/312139
申请日：2006-06-16
申请人：株式会社精工技研 , JSR株式会社 , 石川重太 , 呉玉英 , 中込友洋 , 江利山祐一 , 玉木研太郎 , 前田幸勇
发明人：石川重太 , 呉玉英 , 中込友洋 , 江利山祐一 , 玉木研太郎 , 前田幸勇
IPC分类号： G02B6/122 , G02B6/12 , G02B6/13 , G02B26/08 , G02B6/30 , G02B6/42
CPC分类号： G02B6/4201 , G02B6/122 , G02B6/13 , G02B6/30 , G02B6/3636 , G02B6/3652 , G02B6/3692 , G02B6/4243
摘要：　他の光素子との光結合を容易にするガイド溝を有し、製造工程が簡略化され大量生産に適する光導波路素子、および製造方法を提供する。　基材１０上に光導波路２０およびこの光導波路との光結合用のガイド溝３０を備えた光導波路素子１である。光導波路素子１は、基材１０上の光導波路形成領域１２に光導波路２０を形成する感光性組成物２５を用いて、基材１０上のガイド溝形成領域１３にガイド溝用のエッチングマスクとなる保護層３１をガイド溝３０を除いて形成した。
摘要翻译：提供一种光波导元件，其具有用于促进与其它光学元件的光耦合的引导槽和简化的制造工艺，并且适合于批量生产，以及用于制造这种光波导元件的方法。在光波导元件（1）中，在基材（10）上设置有用于与光波导的光耦合的光波导（20）和导槽（30）。在光波导元件（1）中，作为导向槽用蚀刻掩模的保护层（31）在基材（10）上形成在引导槽形成区域（13）中，不包括引导槽（30）），通过在基材（10）上的光波导形成区域（12）中使用用于形成光波导（20）的光敏组合物（25）。

5. 发明申请

WO2008114835A1 膜形成用組成物およびシリ力系膜とその形成方法审中-公开
标题翻译：成膜组合物，硅胶膜及其形成方法
公开(公告)号：WO2008114835A1
公开(公告)日：2008-09-25
申请号：PCT/JP2008/055152
申请日：2008-03-13
申请人： JSR株式会社 , 松木安生 , 玉木研太郎 , 関口学 , 服部清太郎 , 加藤仁史
发明人：松木安生 , 玉木研太郎 , 関口学 , 服部清太郎 , 加藤仁史
IPC分类号： C09D183/04 , C08L83/04 , C08L83/05 , C09D5/25 , C09D183/05 , C09D183/14 , H01L21/312
CPC分类号： H01L21/3124 , C09D183/04 , C09D183/14 , H01L21/02126 , H01L21/02216 , H01L21/02282
摘要：本発明の膜形成用組成物は、下記式(１)で表される示性式を持ち、１２０℃において固体状であるシリコーン樹脂と、特定のシラン化合物を加水分解縮合して得られた加水分解縮合物と、(F)有機溶媒とを含有する。 (Ｈ２ＳｉＯ) ｎ (ＨＳｉＯ１．５ ) m (ＳｉＯ２ ) ｋ・・・・(１)　　(式(１)中、n、mおよびkはそれぞれ数であり、n +m+ k = 1としたとき、nは０．０５以上であり、mは０を超えて０．９５以下であり、kは０～０．２である。)上記の膜形成用組成物は、高集積化および多層化が望まれている半導体素子などにおいて好適に用いることができ、絶縁膜を形成する際に所望の比誘電率を簡便に得ることができる。
摘要翻译：公开了含有硅酮树脂的成膜组合物，该有机硅树脂在120℃下处于固态，具有由下式（1）表示的合理式，通过特定硅烷的水解缩合获得的水解缩合产物化合物和有机溶剂（F）。（H _{2 SIO）_{名词（HSIO _{1.5 ）_{米（SIO _{2 ）（1）（在式（1）中，n，m和k分别表示数字，当n + m + k = 1时，n不小于0.05，m大于 0但不大于0.95，k为0-0.2。）成膜组合物可以适用于需要更高集成度和更多层压的半导体器件。当从其形成绝缘膜时，该成膜组合物能够容易地获得所需的相对介电常数。}}}}}

6. 发明申请

WO2004088378A1 光導波路チップ及びそれを含む光学部品审中-公开
标题翻译：光波导芯片和包含相同的光学元件
公开(公告)号：WO2004088378A1
公开(公告)日：2004-10-14
申请号：PCT/JP2004/004242
申请日：2004-03-26
申请人： JSR株式会社 , 玉木研太郎 , 高瀬英明 , 江利山祐一 , 大羽伸治 , 藤原英之
发明人：玉木研太郎 , 高瀬英明 , 江利山祐一 , 大羽伸治 , 藤原英之
IPC分类号： G02B6/30
CPC分类号： G02B6/1221 , G02B6/12007 , G02B6/125
摘要：　光導波路チップ１は、光導波路であるコア部６と、下部クラッド層４と上部クラッド層５とからなるクラッド部３と、コア部６に接続されるシングルモード用光ファイバを位置決めするためにクラッド部３と一体的に形成されている光ファイバ用ガイド部７とを有する。光導波路チップ１の各構成部分は、感放射線性ポリシロキサン組成物をフォトリソグラフ法によって積層して形成されている。クラッド部３よりもコア部６の屈折率の方が大きくなるように、少なくとも２種類の感放射線性ポリシロキサン組成物が用いられる。
摘要翻译：光波导芯片（1）包括作为光波导的芯部（6），由下包层（4）和上包层（5）构成的包层部（3）和光纤引导部与用于定位要连接到芯部（6）的单模光纤的包层部分（3）整体形成。光波导芯片（1）的每个部件通过光刻工艺层叠辐射敏感性聚硅氧烷组合物而形成。使用至少两种辐射敏感性聚硅氧烷组合物，使得芯部（6）具有比包层部分（3）更大的折射率。

7. 发明申请

WO2005030882A1 プライマー組成物及び積層体审中-公开
标题翻译：主成分和多层体
公开(公告)号：WO2005030882A1
公开(公告)日：2005-04-07
申请号：PCT/JP2004/014543
申请日：2004-09-27
申请人： JSR株式会社 , 前田幸勇 , 玉木研太郎 , 高瀬英明 , 江利山祐一
发明人：前田幸勇 , 玉木研太郎 , 高瀬英明 , 江利山祐一
IPC分类号： C09D5/00
CPC分类号： C09D185/00 , C08G77/58 , C09D183/14 , G02B6/1221 , C08L2666/28
摘要：シリコンウェハの如き基材の上に、ポリシロキサン等の樹脂からなる樹脂被覆層を積層して、光導波路等の光学装置を作製するに際し、基材と樹脂被覆層の間に中間層として介在させて接着性、特に耐久密着性を向上させることのできるプライマー組成物であって、当該プライマー組成物を調製後、使用前（硬化前）まで長時間保存した場合であっても、優れた耐久密着性を安定的に発揮することのできるプライマー組成物を提供する。本発明のプライマー組成物は、有機シラン化合物及びポリ有機チタン化合物を含む。有機シラン化合物は、アルコキシ基、エポキシ基、メタクリロキシ基の少なくとも１種を含む。ポリ有機チタン化合物は、アルコキシチタンを構成単位として含む。光導波路１は、基材２と、本発明のプライマー組成物からなるプライマー層３と、下部クラッド層４と、上部クラッド層５と、コア部６とからなる。
摘要翻译：公开了作为中间层而设置在基材和树脂被覆层之间的底漆组合物，通过形成由树脂构成的树脂被覆层来制造光波导路等的光学元件，从而提高粘接性，例如在诸如硅晶片的基底上的聚硅氧烷。底漆组合物即使在其制备后在使用之前长时间储存（固化前）也能够稳定地表现出优异的耐久粘合性。底漆组合物含有有机硅烷化合物和聚有机钛化合物。有机硅烷化合物含有烷氧基，环氧基和甲基丙烯酰氧基中的至少一种。该有机钛化合物含有作为结构单元的烷氧基钛。还公开了一种光波导（1），其包括基底（2），由上述底漆组合物制成的底漆层（3），下包层（4），上包层（5）和芯部（6）。

8. 发明申请

WO2004106998A1 ポリマー光導波路及び光学装置审中-公开
标题翻译：聚合物光波导和光学器件
公开(公告)号：WO2004106998A1
公开(公告)日：2004-12-09
申请号：PCT/JP2004/007733
申请日：2004-05-28
申请人： JSR株式会社 , 玉木研太郎 , 高瀬英明 , 江利山祐一
发明人：玉木研太郎 , 高瀬英明 , 江利山祐一
IPC分类号： G02B6/12
CPC分类号： G02B6/138 , G02B6/1221
摘要：　本発明のポリマー光導波路は、基板上に設けられた下部クラッド層、コア層及び上部クラッド層と、該上部クラッド層の少なくとも一部を覆うカバー部材とを有する。上部クラッド層とカバー部材は、放射線硬化型接着剤により固着されている。カバー部材は、石英又はガラスからなる。このポリマー光導波路は、上部クラッド層を介した吸湿を防止することができ、厳しい環境条件下でも材料の吸湿による特性変化や、基板との密着性の低下を抑制することができ、しかも、信頼性試験の前後で光学特性が劣化せず、十分な信頼性を確保することができるものであり、安定した伝送特性を有する。
摘要翻译：一种聚合物光波导，包括设置在基板上的下包层，芯层和上覆层，以及覆盖上覆层的至少一部分的覆盖部件。上覆盖层和盖构件通过辐射固化粘合剂固定在一起。盖件由石英或玻璃制成。该聚合物光波导可以防止水分被上包层吸收，并且即使在严格的环境条件下也限制了由于材料的吸湿引起的特性变化和与基底的粘合性的降低，并且不会在经受进行可靠性测试，从而确保足够的可靠性和稳定的传输特性。

9. 发明申请

WO2008105557A1 アルミニウム膜形成用組成物及びアルミニウム膜形成方法审中-公开
标题翻译：用于形成铝膜的组合物和形成铝膜的方法
公开(公告)号：WO2008105557A1
公开(公告)日：2008-09-04
申请号：PCT/JP2008/053885
申请日：2008-02-27
申请人： JSR株式会社 , 酒井達也 , 松木安生 , 玉木研太郎
发明人：酒井達也 , 松木安生 , 玉木研太郎
IPC分类号： C23C18/10 , B05D7/24 , C23C18/04 , C23C18/14
CPC分类号： C23C18/10 , C23C18/14
摘要：本発明は、保存安定性に優れ、且つ簡便で安価な塗布法により良質なアルミニウム膜を形成することができるアルミニウム膜形成用組成物及び該組成物を用いて行うアルミニウム膜形成方法に関する。上記アルミニウム膜形成用組成物は、(A)アミン化合物と水素化アルミニウムとの錯体、(B)アミン化合物及び(C)有機溶媒を含有する。上記アルミニウム膜形成方法は、基体上に上記組成物を塗布し、次いで加熱処理及び光照射処理よりなる群から選択される少なくとも一つの処理を施すことにより前記基体上にアルミニウム膜を形成する方法である。
摘要翻译：公开了一种用于形成铝膜的组合物，其具有优异的储存稳定性，并且能够通过简单且低成本的涂布方法形成良好的铝膜。还公开了使用这种组合物形成铝膜的方法。用于形成铝膜的组合物含有（A）胺化合物和氢化铝的配合物，（B）胺化合物和（C）有机溶剂。在形成铝膜的方法中，将组合物涂覆在基材上，并且进行选自加热和光照射的至少一种方法，从而在基材上形成铝膜。

10. 发明申请

WO2008035820A1 シリコーン樹脂組成物およびトレンチアイソレーションの形成方法审中-公开
标题翻译：硅树脂组合物和形成分离分离的方法
公开(公告)号：WO2008035820A1
公开(公告)日：2008-03-27
申请号：PCT/JP2007/069125
申请日：2007-09-21
申请人： JSR株式会社 , 岩沢晴生 , 酒井達也 , 松木安生 , 玉木研太郎
发明人：岩沢晴生 , 酒井達也 , 松木安生 , 玉木研太郎
IPC分类号： C08G77/12 , C04B41/81 , C09D183/05 , H01L21/316 , H01L21/76
CPC分类号： H01L21/3124 , C08G77/06 , C08G77/12 , C08G77/16 , C09D183/04 , H01L21/02164 , H01L21/02216 , H01L21/02282 , H01L21/02348 , H01L21/316 , H01L21/76224
摘要：本発明は、下記示性式(1)(H 2 SiO) n (HSiO 1.5 ) m (SiO 2 ) k (1)(式(1)中、n、mおよびkはそれぞれ数であり、n+m+k=1としたとき、nは0.05以上であり、mは0を超えて0.95以下であり、kは0～0.2である。)で表され、120℃において固体状であることを特徴とするシリコーン樹脂に関する。本発明のシリコーン樹脂は、アスペクト比の大きいトレンチアイソレーシヨンを形成するための組成物に好適に使用することができる。
摘要翻译：公开了一种有机硅树脂，其特征在于由下面的合理式（1）表示，并且在120℃下处于固态。（H _{2 SIO）_{名词（HSIO _{1.5 ）_{米（SIO _{2 ）（1）（式（1）中，n，m，k分别表示数字，当n + m + k = 1时，n不小于0.05，m大于 0但不大于0.95，k为0-0.2。）该有机硅树脂可以适合用于形成具有高纵横比的沟槽隔离用组合物。}}}}}

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