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1. 发明专利

JP2021058131A 養液加熱殺菌システム、及び、これを備えた植物栽培システム审中-公开
公开(公告)号：JP2021058131A
公开(公告)日：2021-04-15
申请号：JP2019184530
申请日：2019-10-07
申请人：シンフォニアテクノロジー株式会社 , 松尾誠也
发明人：西小野寛明 , 塩崎明 , 北地一成 , 岡正晃 , 松尾誠也
IPC分类号： A01G31/00
摘要：【課題】養液中の肥料要素の組成バランスを崩しにくい加熱式であって、しかも、加熱のために必要なエネルギーが小さくて済む養液加熱殺菌システム、及び、これを備えた植物栽培システムを提供する。【解決手段】植物を栽培する養液を貯留する養液タンク3と、前記養液を一時的に貯留できる容量を有し、貯留されている前記養液を加熱する加熱装置511を備えた加熱タンク51と、前記養液タンク3から前記加熱タンク51に至る往路配管521と前記加熱タンク51から前記養液タンク3に至る復路配管522とを備え、前記養液タンク3と前記加熱タンク51との間で前記養液を循環させる加熱用養液循環機構52と、前記往路配管521と前記復路配管522とに亘って設けられ、前記復路配管522に流れる前記養液の熱を前記往路配管521に流れる前記養液に伝達する熱交換器53と、を備えた養液加熱殺菌システム5である。【選択図】図1

2. 发明专利

JP5936100B2 ワーク選別装置有权
标题翻译：工作分拣设备
公开(公告)号：JP5936100B2
公开(公告)日：2016-06-15
申请号：JP2011175907
申请日：2011-08-11
申请人：シンフォニアテクノロジー株式会社
发明人：森田将司 , 岡正晃
IPC分类号： B65G47/14

3. 发明专利

JP2017209061A 噴霧式水耕栽培装置审中-公开
公开(公告)号：JP2017209061A
公开(公告)日：2017-11-30
申请号：JP2016105094
申请日：2016-05-26
申请人：シンフォニアテクノロジー株式会社
发明人：藤原亜紀子 , 西小野寛明 , 岡正晃
IPC分类号： A01G31/00
摘要：【課題】簡素な構成であっても培養液を植物に良好に供給することができる噴霧式水耕栽培装置を提供する。【解決手段】本発明に係る噴霧式水耕栽培装置Aは、図2〜図5に示すように、植物Pの根Rを育成するために密閉された根育成空間10を有してなる装置本体1と、植物Pに付与すべき培養液を装置本体1の外部から根育成空間10へ導入するための培養液供給管2と、この培養液供給管2に接続されて霧状培養液Fを噴射可能なノズルユニット3と、このノズルユニット3から噴射された培養液が直接接しない位置に植物Pの根Rを配すべく当該植物Pを位置決めする根配置部4とを具備することを特徴とする。【選択図】図3

4. 发明专利

JP2016154482A 除去領域設定方法、除去領域設定装置およびプログラム审中-公开
标题翻译：移除区域设置方法，移除区域设置设备和程序
公开(公告)号：JP2016154482A
公开(公告)日：2016-09-01
申请号：JP2015034577
申请日：2015-02-24
申请人：シンフォニアテクノロジー株式会社
发明人：宮下裕司 , 岡正晃
IPC分类号： C12M1/00 , C12Q1/02
摘要：【課題】培養細胞コロニーから分化又は癌化した細胞等の除去対象とする細胞を少なくしつつ、除去操作の回数を少なく抑える除去領域設定方法の提供。【解決手段】撮像画像を取り込む画像取込み工程SP1と、撮像画像に現れている各細胞の良否をそれぞれ判別し、良好判別細胞を得る良否判別工程SP2と、コロニーに対して良好判別細胞が占める面積の割合を求め、当該割合が閾値未満と判断したコロニー全体を除去領域に設定する第1の除去領域設定工程SP3と、良好判別細胞に基づいて良好な状態で継続的な培養が可能でないコロニーを判別し、当該コロニー全体を除去領域に設定する処理を含む第2の除去領域設定工程SP4と、第1の除去領域設定工程及び第2の除去領域設定工程で除去領域に設定されなかったコロニーの一部分に除去領域を設定可能な第3の除去領域設定工程SP5とを有する除去領域設定方法。【選択図】図4
摘要翻译：要解决的问题：提供一种去除区域设定方法，其中从培养的细胞集落中减少诸如分化细胞或癌细胞的待去除细胞，并且使去除操作的次数更小。解决方案：去除区域设置方法具有：拍摄拍摄图像的图像拍摄处理SP1; 在所拍摄的图像中出现确定每个单元的质量的质量确定过程SP2，并且获得被确定为良好的单元; 第一去除区域设定处理SP3被确定为小于对去除区域的阈值的小于阈值的比例，其中确定为相对于菌落的良好占据的细胞与殖民地的比例，并且设定整个菌落比率; 第二去除区域设定处理SP4，其包括基于判定为良好的细胞，确定不能以良好状态连续培养的菌落的处理，将整个菌落设定为去除区域; 以及第三去除区域设定处理SP5，其能够在第一去除区域设定处理和第二去除区域设定处理中将除去区域设定为未设定为移除区域的菌落的一部分。图4

5. 发明专利

JP6725834B2 噴霧式水耕栽培装置有权
公开(公告)号：JP6725834B2
公开(公告)日：2020-07-22
申请号：JP2016105094
申请日：2016-05-26
申请人：シンフォニアテクノロジー株式会社
发明人：藤原亜紀子 , 西小野寛明 , 岡正晃
IPC分类号： A01G31/00

6. 发明专利

JP6543954B2 除去領域設定方法、除去領域設定装置およびプログラム有权
公开(公告)号：JP6543954B2
公开(公告)日：2019-07-17
申请号：JP2015034577
申请日：2015-02-24
申请人：シンフォニアテクノロジー株式会社
发明人：宮下裕司 , 岡正晃
IPC分类号： C12M1/00 , C12Q1/02

7. 发明专利

JP6044396B2 異物検出装置、及びパーツフィーダ有权
标题翻译：异物检测装置及零件供给器
公开(公告)号：JP6044396B2
公开(公告)日：2016-12-14
申请号：JP2013042845
申请日：2013-03-05
申请人：シンフォニアテクノロジー株式会社
发明人：安田克己 , 岡正晃
IPC分类号： B65G47/14 , G01N21/94 , G01B11/28 , G01B11/02 , B07C5/10

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