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2. 发明专利

JP2019525259A レンズ汚染防止装置および方法审中-公开
公开(公告)号：JP2019525259A
公开(公告)日：2019-09-05
申请号：JP2019510647
申请日：2017-08-29
申请人：シャンハイマイクロエレクトロニクスイクイプメント(グループ)カンパニーリミティド
发明人： ▲ハオ▼保同 , 郎東春
IPC分类号： G03F7/20
摘要：レンズ汚染防止装置であって、第一装置(300)と、第一装置(300)に接続される第二装置(400)と、を有して構成されるものであり、第一装置(300)は第二装置(400)と比較してレンズ(100)により近く、第一装置(300)は保護層ガスを出力するために使用され、ノズル(330)によって保護層ガスがレンズ(100)の下表面に密着するように均一に流れることにより、既に汚染されたレンズ(100)を洗浄し、再汚染を防ぐために保護層を形成することができる。また、第二装置(400)は、汚染源近くのガスを取り除くために使用されるものであり、汚染ガスは、小孔(410)を通して環状キャビティ(420)に入り、排気通路(200)の吸排気力によって遠く離れた環境に排出される。本発明においてもレンズ汚染防止方法が開示される。露光前に、まず第一装置(300)の電源を入れ、次に第二装置(400)の電源を入れて、12時間の露光が完了した後に第二装置(400)の電源をオフすることができる。上記装置及び方法により、フォトレジストから有機物ガスが揮発して、レンズを汚染するという問題をよりよく解決することができ、また、取付けが簡単で、耐用年数が長い、コストが低い及び信頼性が高いといった利点がある。さらに、汚染物質が完全に排除されることが保証され、汚染物質がレンズの内側に入ることがない。

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