专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

JP2021101446A 成形装置及び物品の製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2021101446A
公开(公告)日：2021-07-08
申请号：JP2019232635
申请日：2019-12-24
申请人：キヤノン株式会社
发明人：加藤順
IPC分类号： B29C59/02 , H01L21/027
摘要：【課題】ショットエッジの領域での滲み出し防止とパターン領域での十分なスプレッド/フィルとを両立する成形装置を提供することにある。【解決手段】基板上の硬化性組成物を型に接触させた状態で硬化させ成形する成形装置であって、型を保持する型保持部と、前記型と前記硬化性組成物との接触の際に、前記型を介して、前記基板上の区分された検知領域(a 1 ,a 2 ,…a n 、nは2以上の整数)における硬化性組成物及びその硬化物のうち少なくとも一つの有無をそれぞれ選択的に検知する検知手段と、前記検知手段による検知結果に応じて、前記検知領域にそれぞれ対応する基板上の区分された露光領域(b 1 ,b 2 ,…b n 、nは2以上の整数)に対し、前記型を介してそれぞれ選択的に露光する露光手段と、を有することを特徴とする成形装置。【選択図】図5

3. 发明专利

JP2016164977A ナノインプリント用液体材料、ナノインプリント用液体材料の製造方法、硬化物パターンの製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、および電子部品の製造方法审中-公开
标题翻译：纳米薄膜液体材料，制造纳米液体材料的方法，制造硬化材料图案的方法，制造光学部件的方法，制造电路板的方法和制造电子部件的方法
公开(公告)号：JP2016164977A
公开(公告)日：2016-09-08
申请号：JP2016030332
申请日：2016-02-19
申请人：キヤノン株式会社
发明人：加藤順 , 本間猛 , 伊藤俊樹
IPC分类号： B29C59/00 , B81C1/00 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0002 , B29C59/005 , B29C59/02 , B29D11/00269 , B29D11/00769 , B29K2033/08 , C08L35/02 , C08L2205/02 , C08L2205/03 , G02B1/04 , G03F7/027 , G03F7/029 , G03F7/16 , H01L21/266 , H01L21/3105 , H01L21/481 , H05K3/0017 , H05K3/0079
摘要：【課題】ナノインプリントプロセスの歩留まりを向上させることを目的とする。【解決手段】粒径0.07μm以上のパーティクルの個数濃度が310個/mL未満であることを特徴とするナノインプリント用液体材料。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提高纳米压印工艺的产率。解决方案：在纳米压印液体材料中，粒径为0.07μm或更大的颗粒数目浓度小于310 / mL。选择图1：

5. 发明专利

JP2021100135A ナノインプリント用液体材料、ナノインプリント用液体材料の製造方法、硬化物パターンの製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、および電子部品の製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2021100135A
公开(公告)日：2021-07-01
申请号：JP2021031425
申请日：2021-03-01
申请人：キヤノン株式会社
发明人：加藤順 , 本間猛 , 伊藤俊樹
IPC分类号： B29C59/02 , C08F20/18 , C08F2/00 , H01L21/027
摘要：【課題】ナノインプリントプロセスの歩留まりを向上させることを目的とする。【解決手段】少なくとも重合性成分(A)および重合開始剤(B)を含有する、基板上に硬化物を形成するための硬化性組成物であって、粒径0.07μm以上のパーティクルの個数濃度が310個/mL未満であることを特徴とするナノインプリント用液体材料。【選択図】図1

6. 发明专利

JP2016029138A 硬化性組成物、その硬化物、硬化物の製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、および電子部品の製造方法审中-公开
标题翻译：可固化组合物及其固化产品，用于生产固化产品的方法，制造光学部件的方法，制造电路板的方法和制造电子部件的方法
公开(公告)号：JP2016029138A
公开(公告)日：2016-03-03
申请号：JP2014257799
申请日：2014-12-19
申请人：キヤノン株式会社
发明人：加藤順 , 川▲崎▼ 陽司 , 米澤詩織 , 伊藤俊樹
IPC分类号： H01L21/027 , C08F220/30 , B32B27/30 , B32B27/16 , C08F2/48
CPC分类号： C08F2/50 , G03F1/00 , H01L21/0332 , H01L21/0337 , H01L21/3081
摘要：【課題】光ナノインプリント法において、低露光量で硬化性組成物を硬化した場合であっても、硬化物の表面が十分に硬化して、パターン倒れの欠陥が発生しにくい硬化物を形成可能なナノインプリント用硬化性組成物およびナノインプリント方法を提供することにある。また、低露光量においてパターン倒れの欠陥が発生しにくい、硬化物、硬化物の製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、および電子部品の製造方法を提供することにある。【解決手段】硬化した状態において、下記の式(1)を満たすことを特徴とする硬化性組成物。 Er 1 /Er 2 ≧1.10 (1) (ここで、Er 1 は、硬化物表面の複合弾性率(GPa)を示し、Er 2 は、硬化物内部の複合弾性率(GPa)を示す。) 【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种纳米压印用固化性组合物，其可以形成固化物，该固化物具有充分固化的表面，并且即使当通过光 - 纳米压印法低固化固化组合物时也不易发生图案塌陷缺陷曝光剂量和形成这种固化产物的纳米压印法; 以及即使在低曝光剂量下固化时也不容易发生图案塌陷缺陷的固化物，这种固化物的制造方法，光学部件的制造方法，电路基板的制造方法以及方法用于制造电子部件。溶解性：固化性组合物在固化状态下满足式（1）：（1）Er /Er≥1.10，其中Er表示通过所述固化产物获得的固化产物的表面的复合弹性模量（GPa）固化组合物，Er表示固化产物内部的复合弹性模量（GPa）。选择图：图1

7. 发明专利

JP2021027252A 成形方法、物品の製造方法、成形方法に用いる基板、および型审中-公开
公开(公告)号：JP2021027252A
公开(公告)日：2021-02-22
申请号：JP2019145574
申请日：2019-08-07
申请人：キヤノン株式会社
发明人：加藤順
IPC分类号： B29C59/02 , H01L21/027
摘要：【課題】光ナノインプリントにおいて、パターン形成の領域での硬化性組成物の滲み出しを高度に防止するインプリント方法を提供することにある。【解決手段】硬化性組成物を用いた成形方法であって、基板上の硬化性組成物が型と接触する際に、接触する領域の周囲を囲むように配置された凸部と、該凸部を収容可能な凹部とが、前記基板および前記型の一方に凸部、他方に凹部を有するように配置されており、前記凸部が前記凹部に収容されるように前記基板上の硬化性組成物と型とを接触させることを特徴とする成形方法。【選択図】図6

8. 发明专利

JP6779611B2 インプリント用光硬化性組成物、硬化膜の製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、電子部品の製造方法有权
公开(公告)号：JP6779611B2
公开(公告)日：2020-11-04
申请号：JP2015234307
申请日：2015-11-30
申请人：キヤノン株式会社
发明人：坂本和美 , 伊藤俊樹 , 加藤順 , 山下敬司 , 飯村晶子
IPC分类号： C08F2/50 , C08F2/00 , C08F220/10 , H01L21/027

9. 发明专利

JP6080813B2 光インプリント用組成物、これを用いた、膜の製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、電子部品の製造方法有权
标题翻译：用于光学压印的组合物，将其使用，制造的薄膜，制造光学部件，制造基板的电路的方法，一种制造电子部件的方法的方法的方法
公开(公告)号：JP6080813B2
公开(公告)日：2017-02-15
申请号：JP2014151500
申请日：2014-07-25
申请人：キヤノン株式会社
发明人：本間猛 , 伊藤俊樹 , 加藤順 , 米澤詩織 , 川▲崎▼ 陽司
IPC分类号： C07C69/54 , C07C323/47 , C07F9/53 , C07C225/22 , C07C43/11 , C08F2/48 , B29C59/02 , H01L21/027
CPC分类号： C08F2/50 , C09D4/00 , G02B1/12 , G03F7/0002 , G03F7/031 , H01L21/31144 , H01L21/31155

10. 发明专利

JP5855055B2 化合物、ナノ粒子−分散剤複合体、ナノ粒子分散液およびナノ粒子−マトリックス材料複合体、化合物の製造方法有权
标题翻译：化合物，纳米颗粒 - 分散剂复合物，纳米颗粒分散体和纳米颗粒 - 基质材料复合，用于化合物的制备过程
公开(公告)号：JP5855055B2
公开(公告)日：2016-02-09
申请号：JP2013171647
申请日：2013-08-21
申请人：キヤノン株式会社
发明人：加藤順 , 山本哲士
IPC分类号： B01F17/32 , B01F17/14 , B82Y40/00 , B82Y30/00 , C07F9/6506

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式