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    • 1. 发明申请
    • VORRICHTUNG ZUR BEARBEITUNG VON WERKSTÜCKEN UNTER VAKUUM MIT EINEM RELATIV ZU DEM GEHÄUSE DREHBAREN GEHÄUSEBODEN
    • 设备,用于真空加工工件,一个相对于壳体旋转底盖
    • WO2010063436A1
    • 2010-06-10
    • PCT/EP2009/008519
    • 2009-11-30
    • ALL WELDING TECHNOLOGIES AGVOKURKA, Franz
    • VOKURKA, Franz
    • B23K15/00B23K15/06H01J37/18H01J37/315
    • B23K15/06B23K15/0046H01J37/16H01J37/185H01J37/315
    • Diese Anmeldung betrifft eine Bearbeitungsvorrichtung (100) zur Bearbeitung von Werkstücken im Vakuum, mit einem Gehäuse (1) mit einem Innenraum, einem Gehäusedeckel (2), einem relativ zu dem Gehäuse (1) drehbaren Gehäuseboden (6), und einer mit dem Gehäuseboden (6) verbundenen und in dem Innenraum des Gehäuses (1) angeordneten Rotoreinrichtung (8), in der eine Mehrzahl von Kammern (81) zur Aufnahme von Werkstücken ausgebildet ist, bei der eine Mehrzahl von Arbeitsöffnungen (4, 12, 13) in dem Gehäuse (1) und/oder in dem Gehäusedeckel (2) gebildet sind, und jede der Mehrzahl von Kammern (81) der Rotoreinrichtung (8) mindestens eine Rotoröffnung (21) aufweist, so dass durch eine Drehung des Rotors (8) eine Kreisbahn definiert wird, auf der sich die Rotoröffnungen (21) bewegen, bei der die Arbeitsöffnungen (4, 12, 13) derart entlang der Kreisbahn angeordnet sind, dass jede Rotoröffnung (21) bei der Bewegung entlang der Kreisbahn in Überreinstimmung mit den Arbeitsöffnungen (4, 12, 13) bringbar ist, bei der um jede der Rotoröffnungen (21) zwischen der Rotoreinrichtung (8) und dem Gehäuse (1) und/oder dem Gehäusedeckel (2) eine Rotoröffnungsdichteinrichtung (14) ausgebildet ist, und bei der mindestens zwei Rotordichteinrichtungen (12) derart zwischen der Rotoreinrichtung (8) und dem Gehäusedeckel (2) und/ oder dem Gehäuse (1) und in Kontakt mit den Rotoröffnungsdichteinrichtungen (14) ausgebildet sind, dass ein Ringraum längs der Kreisbahn, an den die Arbeitsöffnungen (4, 12, 13) und die Rotoröffnungen (21) grenzen, definiert und abschnittsweise gedichtet wird.
    • 本申请涉及一种处理设备(100),用于在真空中的工件的加工中,具有(1)具有内部,壳体盖的壳体(2),可旋转相对于壳体(1)外壳底部(6),并与壳体底部 (6)连接并设置(1)的转子的装置在所述壳体(8),在该多个腔室(81)被设计用于接收工件的内部,其中在所述多个工作开口(4,12,13) 壳体(1)和/或在外壳盖(2)形成,并且每个所述转子的所述多个腔室(81)(8)具有至少一个转子开口(21),使得由所述转子的旋转(8)是一圆形路径 被定义,移动在其上的转子端口(21)是在沿所述圆形路径布置的工作开口(4,12,13),即沿着圆形路径移动过程中,每个转子开口(21)在经纯幽默与劳动Öffnunge N(4,12,13)可以带来,其中围绕每个转子之间的转子开口(21)的(8)和所述壳体(1)形成和/或所述壳体盖(2)包括一个转子口密封装置(14),并且其中 (12)布置在所述转子之间的至少两个转子密封装置(8)和外壳盖(2)和/或所述壳体(1)和形成为与转子口密封装置(14)相接触,沿着所述圆形路径的环形空间,以该 工作开口(4,12,13)和所述转子的开口(21)的限制,并且在密封的部分限定。
    • 2. 发明申请
    • TEILCHENSTRAHLBEARBEITUNGSVORRICHTUNG WIE EINE ELEKTRONENSTRAHLBEARBEITUNGSVORRICHTUNG
    • TEILCHENSTRAHLBEARBEITUNGSVORRICHTUNG作为电子设备处理
    • WO2011026607A2
    • 2011-03-10
    • PCT/EP2010/005350
    • 2010-08-31
    • GLOBAL BEAM TECHNOLOGIES AGVOKURKA, Franz
    • VOKURKA, Franz
    • H01J37/16
    • H01J37/16B23K15/002B23K15/06H01J37/30H01J2237/0245H01J2237/166
    • Es wird eine Teilchenstrahlbearbeitungsvorrichtung angegeben, die einen Teilchenstrahlgenerator (7), eine Vakuumkammer (101) mit einem evakuierbaren Kammervolumen (V), wobei die Vakuumkammer (101) eine Kammerwand (1) mit einer ersten Öffnung (O1), die in der Kammerwand (1) ausgebildet ist, aufweist, eine erste Abdeckung (2), die dazu angepasst ist, die erste Öffnung (O1) abzudecken und um eine erste Drehachse (C1), die durch die erste Öffnung (O1) geht, gedreht zu werden, und die eine zweite Öffnung (02), die in der ersten Abdeckung (2) ausgebildet ist, aufweist, und eine zweite Abdeckung (3), die dazu angepasst ist, die zweite Öffnung (O2) abzudecken und um eine zweite Drehachse (C2), die durch die zweite Öffnung (O2) geht, gedreht zu werden und den Teilchenstrahlgenerator (7) zu bewegen, aufweist. Der Teilchenstrahlgenerator (7) ist in einer ersten Richtung (Z) in dem evakuierbaren Kammervolumen (V) verfahrbar.
    • 本发明提供一种Teilchenstrahlbearbeitungsvorrichtung其中带电粒子束(7),具有可抽真空的腔室容积(V)的真空室(101),其中所述真空室(101)包括一个室壁(1)具有第一开口(O1),其(在腔室壁 1)被形成,具有覆盖其适于将所述第一开口(O1的第一盖(2))和(第一旋转轴C1)被旋转穿过所述第一开口(O1),和 其上形成形成于第一盖(2)的第二开口(02),以及在第二盖(3),其适于将所述第二开口(O2),以覆盖和围绕第二旋转轴线(C2), 通过所述第二开口(O2)要被旋转和带电粒子束(7)移动,。 在抽空室体积(V)可在第一方向(Z)的带电粒子束(7)。
    • 3. 发明申请
    • PARTICLE BEAM PROCESSING DEVICE SUCH AS AN ELECTRON BEAM PROCESSING DEVICE
    • TEILCHENSTRAHLBEARBEITUNGSVORRICHTUNG作为电子设备处理
    • WO2011026607A3
    • 2011-06-23
    • PCT/EP2010005350
    • 2010-08-31
    • GLOBAL BEAM TECHNOLOGIES AGVOKURKA FRANZ
    • VOKURKA FRANZ
    • H01J37/16B23K15/00B23K15/06G21K5/10H01J37/30H01J37/31
    • H01J37/16B23K15/002B23K15/06H01J37/30H01J2237/0245H01J2237/166
    • The invention relates to a particle beam processing device having a particle beam generator (7), and a vacuum chamber (101) comprising a chamber volume (V) that can be evacuated, wherein the vacuum chamber (101) has a chamber wall (1) with a first opening which is formed in the chamber wall (1). Said device also has a first cover (2) which is designed to cover the first opening (O1) and be rotated about a first rotational axis extending through the first opening, and a second opening which is formed in the first cover (2). Said device also has a second cover (3) which is designed to cover the second opening, be rotated about a second rotational axis extending through the second opening, and move the particle beam generator (7). The particle beam generator (7) can be displaced in a first direction (Z) within the chamber volume (V) that can be evacuated.
    • 本发明提供一种Teilchenstrahlbearbeitungsvorrichtung其中带电粒子束(7),具有可抽真空的腔室容积(V)的真空室(101),其中,具有与在所述腔室壁上形成的第一开口的腔室的壁的真空室(101),第一 盖(2),其适合于覆盖所述第一开口和围绕旋转的第一轴旋转通过第一开口和与在所述第一盖的第二开口(2)形成的,其包括, 并且其适于覆盖所述第二开口和围绕旋转的第二轴的第二盖(3)被旋转和带电粒子束(7)移动穿过第二开口,该开口。 在抽空室体积(V)可在第一方向(Z)的带电粒子束(7)。