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1. 发明申请

WO1998012603A1 PHOTOLITHOGRAPHY MASKING ARRANGEMENTS 审中-公开
标题翻译：摄影屏蔽安排
公开(公告)号：WO1998012603A1
公开(公告)日：1998-03-26
申请号：PCT/IB1997001277
申请日：1997-09-22
申请人： HUGLE LITHOGRAPHY INC. , VÖLKEL, Reinhard , HERZIG, Hans-Peter , BLATTNER, Peter
发明人： HUGLE LITHOGRAPHY INC.
IPC分类号： G03F07/00
CPC分类号： G03F7/7035 , G03F7/70275
摘要： A photomask arrangement comprises an array of optical elements (30) (e.g. microlenses) arranged to receive a uniform beam of light and to concentrate light onto respective points, lines or other areas of a photoresist layer (20). In this way, the light passing through each optical element is converged or concentrated onto a smaller area, thus maximising the use of the available light.
摘要翻译：光掩模装置包括布置成接收均匀光束并将光聚集到光致抗蚀剂层（20）的各个点，线或其它区域上的光学元件阵列（30）（例如微透镜）。以这种方式，通过每个光学元件的光被会聚或集中在较小的区域上，从而使可用光的使用最大化。

2. 发明申请

WO2009052980A8 MIKROLINSEN-ARRAY MIT INTEGRIERTER BELEUCHTUNG 审中-公开
公开(公告)号：WO2009052980A8
公开(公告)日：2009-04-30
申请号：PCT/EP2008/008734
申请日：2008-10-15
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG , SCHMÄLZLE, Philipp , DUPARRÉ, Jacques , PUNKE, Martin , DANNBERG, Peter , VÖLKEL, Reinhard , BRÄUER, Andreas
发明人： SCHMÄLZLE, Philipp , DUPARRÉ, Jacques , PUNKE, Martin , DANNBERG, Peter , VÖLKEL, Reinhard , BRÄUER, Andreas
IPC分类号： G02B3/00 , G02B27/00 , H01L27/146
摘要： Die Erfindung betrifft ein Mikrolinsenarray mit integrierter Beleuchtung, ein Abbildungssystem mit einem solchen Mikrolinsenarray, eine Bilderfassungsvorrichtung sowie ein Verfahren zur Herstellung des Mikrolinsenarrays. Das Mikrolinsenarray besitzt einen flächigen, optisch transparenten Grundkörper (8), eine Vielzahl von auf, an, in und/oder hinter einer ersten Seite des optisch transparenten Grundkörpers angeordneten Mikrolinsen (9) und zumindest eine Lichtquelle (5), welche an, in oder auf dem flächigen optisch transparenten Grundkörper angeordnet ist, wobei die Projektion der zumindest einen Lichtquelle in Richtung der optischen Achsen der Mikrolinsen auf die erste Seite des optisch transparenten Grundkörpers zwischen den Mikrolinsen liegt.

3. 发明申请

WO2005069607A1 BILDERFASSUNGSSYSTEM UND DESSEN VERWENDUNG 审中-公开
标题翻译：图像拍摄系统及其用途
公开(公告)号：WO2005069607A1
公开(公告)日：2005-07-28
申请号：PCT/EP2005/000495
申请日：2005-01-19
申请人： FRAUHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , DUPARRÉ, Jacques , DANNBERG, Peter , SCHREIBER, Peter , VÖLKEL, Reinhard , BRÄUER, Andreas
发明人： DUPARRÉ, Jacques , DANNBERG, Peter , SCHREIBER, Peter , VÖLKEL, Reinhard , BRÄUER, Andreas
IPC分类号： H04N5/335
CPC分类号： H04N5/335 , G02B3/0012 , G02B3/0043 , G02B3/0056 , G02B3/0075 , G02B13/0055 , G06K9/00046 , H04N5/2254
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein digitales Bilderfassungssystem mit minimaler Baulänge von weniger als einem Millimeter. Das Bilderfassungssystem besteht hierbei aus einem Mikrolinsenarray, einem Detektorarray und optional einem Pinhole-Array. Die Funktionsweise dieses Bilderfassungssystems beruht auf einer getrennten Abbildung verschiedener Raumwinkelsegemente des Objektraumes durch eine Vielzahl von parallelen optischen Kanälen. Die optischen Achsen der einzelnen optischen Kanäle weisen dabei unterschiedliche Neigungen auf, sodass sie eine Funktion des Abstands des optischen Kanals vom Mittelpunkt der zum Bild gewandten Seite des Bilderfassungssystems darstellen, wodurch das Verhältnis der Größe des Gesichtsfelds zur Bildfeldgröße gezielt bestimmbar ist. Es werden dabei Detektoren mit derart hoher Empfindlichkeit eingesetzt, dass die Detektoren einen großen Pitch bei kleiner aktiver Fläche aufweisen.
摘要翻译：本发明涉及具有小于一毫米的最小总长度的数字成像系统。成像系统由这里的微透镜阵列，检测器阵列和任选的针孔阵列的。该成像系统的操作由多个并行的光学信道的基于对象空间的单独的成像各种Raumwinkelsegemente。在这种情况下，各个光信道的光轴具有不同的倾角，从而使它们代表从面向成像系统，由此可以具体地确定的视场的大小与像场尺寸的比率的像侧的中心处的光信道的距离的函数。它的检测器与这样的高灵敏度使用该检测器具有小有源表面大节距。

4. 发明申请

WO2011067150A1 VORRICHTUNG ZUR OPTISCHEN ABBILDUNG 审中-公开
标题翻译： DEVICE FOR光学成像
公开(公告)号：WO2011067150A1
公开(公告)日：2011-06-09
申请号：PCT/EP2010/068159
申请日：2010-11-24
申请人： FRAUNHOFER GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , DUPARRE, Jacques , WIPPERMANN, Frank , BRÜCKNER, Andreas , BRÄUER, Andreas , LEITEL, Robert , VÖLKEL, Reinhard
发明人： DUPARRE, Jacques , WIPPERMANN, Frank , BRÜCKNER, Andreas , BRÄUER, Andreas , LEITEL, Robert , VÖLKEL, Reinhard
IPC分类号： G02B13/00 , G02B13/26 , G02B21/00 , G02B3/00
CPC分类号： G02B13/0095 , G02B3/0062 , G02B5/005 , G02B13/26 , G02B21/0008
摘要： Die vorliegende Erfindung beschreibt eine Vorrichtung zur optischen Abbildung zumindest eines Teils eines Objekts auf einen Bereich eines digitalen Bildsensors mit einem optischen Kanal (110). Der optische Kanal (110) umfasst eine auf einem ersten Substrat angeordnete erste abbildende Linse (120), eine auf einem zweiten Substrat angeordnete zweite abbildende Linse (130) und eine auf einem dritten Substrat angeordnete Feldlinse (140). Die erste abbildende Linse (120) und die zweite abbildende Linse (130) sind identisch und so angeordnet, dass eine erste Oberfläche der ersten abbildenden Linse (120) eine Lichteintrittsfläche (180) des optischen Kanals (110) ist und eine erste Oberfläche der zweiten abbildenden Linse (130) eine Lichtaustrittsfläche (182) des optischen Kanals (110) ist. Die Feldlinse (140) ist so zwischen der ersten abbildenden Linse (120) und der zweiten abbildenden Linse (130) angeordnet, dass eine senkrecht zur lateralen Ausdehnung des optischen Kanals (110) durch einen lateralen Mittelpunkt der Feldlinse (140) verlaufende Achse eine Symmetrieachse (170) des optischen Kanals (110) bildet.
摘要翻译：本发明公开了一种用于光学成像的设备的至少一个对象的一部分上具有光信道（110）的数字图像传感器的一部分。光信道（110）包括设置在第一基板中的第一成像透镜（120）的装置;设置在第二基板的第二成像透镜（130）和，设置在第三基板场透镜（140）。第一成像透镜（120）和第二成像透镜（130）是相同的，并且布置成使得所述第一成像透镜（120）的第一表面上具有光信道（110）和所述第二的第一表面的光入射面（180）成像透镜（130）具有光信道（110）的光出射面（182）。场透镜（140）被布置在第一成像透镜（120）和轴对称轴延伸的第二成像透镜（130），一个垂直于通过场透镜（140）的横向中心处的光信道（110）的横向范围之间光信道（110）的形成（170）。

5. 发明申请

WO2011012148A1 OPTICAL BEAM DEFLECTING ELEMENT AND METHOD OF ADJUSTMENT 审中-公开
标题翻译：光束偏移元件和调整方法
公开(公告)号：WO2011012148A1
公开(公告)日：2011-02-03
申请号：PCT/EP2009/005555
申请日：2009-07-31
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , RUNDE, Daniel , DOLL, Florian , VÖLKEL, Reinhard , WEIBLE, Kenneth, J. , WEISS, Gundula , GERHARD, Michael
发明人： RUNDE, Daniel , DOLL, Florian , VÖLKEL, Reinhard , WEIBLE, Kenneth, J. , WEISS, Gundula , GERHARD, Michael
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G03F7/70108 , G03F7/70158
摘要： An optical beam deflecting element (BDE) for generating a radiation beam having rays according to a predefined angular distribution by changing an angular distribution of rays in a radiation beam incident on the beam deflecting arrangement comprises first deflecting structures arranged in a first deflecting region (DR1) generating a first bundle of first rays, each of the first rays having a propagation direction corresponding to a ray angle within a predefined distribution of ray angles, the first rays having first intensities according to a first intensity distribution; and second deflecting structures arranged in a second deflecting region (DR2), laterally offset relative to the first deflecting region, generating a second bundle of second rays, each second ray having a propagation direction corresponding to a ray angle within the predefined distribution of ray angles, the second rays having second intensities according to a second intensity distribution, which differs from the first intensity distribution. The beam deflecting element may be used effectively as an energy distribution manipulator in an illumination system to vary the energy distribution within a given spatial intensity distribution in a pupil plane (PILL) of the illumination system substantially without changing the shape and size and position of illuminated areas in the pupil plane.
摘要翻译：一种光束偏转元件（BDE），用于通过改变入射在光束偏转装置上的辐射束中的光线的角度分布来产生具有根据预定角度分布的射线的辐射束，包括布置在第一偏转区域（DR1）中的第一偏转结构）产生第一束第一射线，所述第一射线中的每一个具有对应于预定射线角度分布内的射线角度的传播方向，所述第一射线具有根据第一强度分布的第一强度; 和布置在第二偏转区域（DR2）中的第二偏转结构，相对于第一偏转区域横向偏移，产生第二束第二射线，每个第二射线具有对应于预定分布的射线角度内的射线角度的传播方向所述第二光线具有与第一强度分布不同的第二强度分布的第二强度。光束偏转元件可以有效地用作照明系统中的能量分配操纵器，以在照明系统的光瞳平面（PILL）内的给定空间强度分布内改变能量分布，基本上不改变照明的形状，尺寸和位置瞳孔中的区域。

6. 发明申请

WO1997045718A1 OPTICAL DETECTION APPARATUS FOR CHEMICAL ANALYSES OF SMALL VOLUMES OF SAMPLES 审中-公开
标题翻译：用于样品小容量化学分析的光学检测装置
公开(公告)号：WO1997045718A1
公开(公告)日：1997-12-04
申请号：PCT/EP1997002745
申请日：1997-05-27
申请人： NOVARTIS AG , BRUNO, Alfredo, Emilio , BARNARD, Steven, Mark , EHRAT, Markus , VÖLKEL, Reinhard , NUSSBAUM, Philippe , HERZIG, Hans, Peter
发明人： NOVARTIS AG
IPC分类号： G01N21/03
CPC分类号： G01N21/03 , G01N2021/0346
摘要： Optical detection apparatus for chemical analyses of small volumes of samples with light sources (21) to emit induction light, a measuring cell (7) for the sample, phoelectric sensing elements (22) to receive light coming from the sample in the measuring cell (7), as well as beam-conducting means for the induction light or the light from the sample. In the apparatus, several essentially planar, laminar components (2-7) are arranged in a sandwich structure, whereby the components (2-7) contain the light sources (21), the measuring cell (7), the photoelectric sensing elements (22), and also the beam-conducting means.
摘要翻译：用于化学分析用于发射感光的光源（21）的样本的光学检测装置，用于样品的测量单元（7），用于接收来自测量单元中的样品的光的光电传感元件（22） 7），以及用于感应光或来自样品的光的光束传导装置。在该设备中，几个基本上平面的层状部件（2-7）被布置成夹层结构，由此部件（2-7）包含光源（21），测量单元（7），光电感测元件 22），以及光束传导装置。

7. 发明申请

WO2007093396A1 ILLUMINATION SYSTEM FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置照明系统
公开(公告)号：WO2007093396A1
公开(公告)日：2007-08-23
申请号：PCT/EP2007/001267
申请日：2007-02-14
申请人： CARL ZEISS SMT AG , WANGLER, Johannes , SIEKMANN, Heiko , WEIBLE, Kenneth , SCHARNWEBER, Ralf , MAUL, Manfred , DEGUENTHER, Markus , LAYH, Michael , SCHOLZ, Axel , SPENGLER, Uwe , VÖLKEL, Reinhard
发明人： WANGLER, Johannes , SIEKMANN, Heiko , WEIBLE, Kenneth , SCHARNWEBER, Ralf , MAUL, Manfred , DEGUENTHER, Markus , LAYH, Michael , SCHOLZ, Axel , SPENGLER, Uwe , VÖLKEL, Reinhard
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B3/0056 , G02B27/0911 , G03F7/70058 , G03F7/70075 , G03F7/70083 , G03F7/70158
摘要： An illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus comprises a light source (30) and an optical integrator (56) . The latter has first optical subelements (561X, 561Y, 562X, 562Y) and produces a plurality of secondary light sources (82) each emitting a light bundle. A condenser (62) effects a superposition of the light bundles in a mask plane (70) . At least one scattering structure (58, 60) comprises a plurality of individually designed second optical subelements that are arranged in front of or behind the secondary light sources. The first and second optical subelements are configured such that optical subelements illuminated with identical irradiance distributions are separated by more than 5 mm.
摘要翻译：一种用于微光刻投影曝光装置的照明系统，包括光源（30）和光学积分器（56）。后者具有第一光学子元件（561X，561Y，562X，562Y）并且产生多个发射光束的次级光源（82）。冷凝器（62）实现光束在掩模平面（70）中的叠加。至少一个散射结构（58,60）包括多个单独设计的第二光学子元件，其布置在二次光源的前面或后面。第一和第二光学子元件被配置为使得以相同辐照度分布照射的光学子元件被分开超过5mm。

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