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    • 1. 发明申请
    • METHOD FOR LOCALLY REMOVING A SURFACE LAYER, AND SOLAR CELL
    • 方法表层及太阳能电池的局部切除
    • WO2012022329A3
    • 2012-04-19
    • PCT/DE2011075152
    • 2011-06-28
    • CENTROTHERM PHOTOVOLTAICS AGKUEHN TINOTEPPE ANDREASFRIESS TOBIASESTURO-BRETON AINHOAKELLER STEFFEN
    • KUEHN TINOTEPPE ANDREASFRIESS TOBIASESTURO-BRETON AINHOAKELLER STEFFEN
    • H01L31/0224H01L31/0236H01L31/18
    • H01L29/34H01L21/268H01L31/02363H01L31/1804Y02E10/547Y02P70/521
    • The invention relates to a method for locally removing a surface layer (36) which is applied to a texture (30) of a textured substrate, wherein the texture (30) has a multiplicity of structure elements (32) with structure tips (34) and/or structure edges, having the steps of locally irradiating the texture (30) through the surface layer (36) by means of laser radiation which at least partially penetrates through the surface layer (36) and which is at least partially absorbed by the texture (30), the intensity of which laser radiation is set such that the texture (30) is locally melted by means of the laser radiation and subsequently recrystallized (16), wherein the surface layer (36) is locally opened in the region of the structure tips (34) and/or of the structure edges such that the openings around the structure tips (34) and/or the structure edges after the local irradiation of the texture (30) are completely surrounded by continuous, non-open regions of the surface layer (36), and removing (18) the recrystallized regions (38) of the texture (30) in an etching step by means of an etching medium, wherein the surface layer (36) outside the recrystallized regions (38) is used as an etching mask against the etching medium, and to a solar cell (70).
    • 一种用于局部去除的表面层(36),其被施加到织构的衬底的织构(30)的过程中,织构(30)包括多个结构元件(32),其具有结构顶部(34)和/或具有结构的边缘,其包括以下步骤 通过表面层的装置中的纹理(30)通过该表面层(36)的局部照射(36)至少部分地穿透和从纹理(30)至少部分地吸收激光辐射,其强度被设定为使得所述纹理(30)借助于 激光辐射局部熔化和下面(16)中重结晶,其特征在于,使得根据纹理(30)的局部照射到尖端的结构中的开口在结构尖端的区域中的表面层(36)(34)和/或结构边缘局部地打开的 (34)和/或围绕的表面层的连续的开放区域边缘结构(36)v 其中,从所述再结晶区域的表面层(36)远(38)用作抗蚀刻介质的蚀刻掩模通过蚀刻介质的装置在蚀刻步骤中的纹理(30)的再结晶区域(38)的包围ollständig,并除去(18),和 太阳能电池(70)。
    • 9. 发明申请
    • VERFAHREN ZUR CHEMISCHEN BEHANDLUNG EINES SUBSTRATS
    • 方法进行化学处理的基板
    • WO2010037739A1
    • 2010-04-08
    • PCT/EP2009/062608
    • 2009-09-29
    • SCHOTT SOLAR AGTEPPE, AndreasSCHUM, BertholdFRANKE, DieterSCHWIRTLICH, IngoVAAS, KnutSCHMIDT, Wilfried
    • TEPPE, AndreasSCHUM, BertholdFRANKE, DieterSCHWIRTLICH, IngoVAAS, KnutSCHMIDT, Wilfried
    • H01L21/306H01L21/00H01L31/18
    • H01L21/30604H01L21/67057H01L21/67086H01L31/1804Y02E10/547Y02P70/521
    • Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur chemischen Behandlung eines eine Unterseitenfläche 12, Oberseitenfläche 22 und Seitenflächen 14, 16, 18, 20 aufweisenden scheibenförmigen Substrats 10 durch Kontaktieren eines flüssigen chemisch wirksamen Prozessmediums 26 mit zumindest der Unterseitenfläche des Substrats, wobei das Substrat relativ zum Prozessmedium bei gleichzeitiger Ausbildung einer Tripellinie zwischen Substrat, dem Substratmedium und diese umgebender Atmosphäre bewegt wird. Um insbesondere in den Seitenflächen vorhandene Fehler chemisch zu entfernen, wird vorgeschlagen, dass die Relativbewegung unter Vermeidung eines Kontaktierens des Prozessmediums mit der Oberseitenfläche des Substrats durchgeführt wird, wobei die Tripellinie in Bezug auf die Relativbewegung zwischen dem Substrat und dem Prozessmedium auf gewünschter Höhe an prozessmediumströmungsseitig abgewandter Seitenfläche ausgebildet wird. Dabei kann die Atmosphäre in Bezug auf Partialdrücke von in dem Prozessmedium vorhandenen Komponenten derart eingestellt werden, dass die Oberseitenfläche hydrophobe Eigenschaften bewahrt.
    • 本发明涉及用于化学处理的底部表面12的,顶部表面22个侧表面14,16,18,通过液体化学活性加工介质26至少与所述基板的底表面接触具有圆盘状基板10 20的相对于其中衬底的方法, 处理介质移动与基板,基板平台,以及周围大气之间的三重线的同时形成。 为了化学地除去任何错误,特别是在侧面上,所以建议的相对移动被执行,同时避免与该基板的顶面上的处理介质的接触,其中与所述处理介质流侧的期望的高度相对于基板和工艺流体之间的相对运动的三重线 从侧面背向形成。 相对于存在于所述工艺介质部件的氧分压的气氛可被调节,使得所述顶表面保持疏水性。
    • 10. 发明申请
    • VERFAHREN ZUR KONTAKTTRENNUNG ELEKTRISCH LEITFÄHIGER SCHICHTEN AUF RÜCKKONTAKTIERTEN SOLARZELLEN UND ENTSPRECHENDE SOLARZELLE
    • 作者接触和分离行为电力到背接触太阳能电池和相关太阳能电池的方法
    • WO2006042698A1
    • 2006-04-27
    • PCT/EP2005/011046
    • 2005-10-13
    • INSTITUT FÜR SOLARENERGIEFORSCHUNG GMBHTEPPE, AndreasENGELHART, PeterMÜLLER, Jörg
    • TEPPE, AndreasENGELHART, PeterMÜLLER, Jörg
    • H01L31/0224H01L31/04H01L31/06H01L31/18
    • H01L31/18H01L31/022433H01L31/022441H01L31/022458H01L31/0682Y02E10/547
    • Es wird ein Verfahren zur Herstellung einer Solarzelle (1) mit einem Halbleitersubstrat (2) vorgeschlagen, dessen elektrische Kontaktierung auf der Halbleitersubstratrückseite erfolgt. Die Halbleitersubstratrückseite weist lokal dotierte Bereiche (3) auf. Die danebenliegende Bereiche (4) weisen eine vom Bereich (3) unterschiedliche Dotierung auf. Damit das leitfähige Material (5) die Solarzelle nicht kurzschliesst, sind die beiden Bereiche (3,4) zumindest an deren Bereichsgrenzen (6) mit einer dünnen, elektrisch isolierenden Schicht (7) überzogen. Die beiden Bereiche (3,4) sind zunächst ganzflächig mit einem elekrisch leitfähigen Material (5) beschichtet. Die Trennung der elektrisch leitfähigen Schicht (5) erfolgt durch ganzflächiges Aufbringen einer Ätzbarrierenschicht (8), welche anschliessend maskierungsfrei und selektiv, z.B. durch Laserablation, lokal oberhalb der isolierenden Schicht (7), entfernt wird. Durch den anschliessenden Angriff einer Ätzlösung wird die leitfähige Schicht (5) im Bereich der Öffnungen (9) der Ätzbarrierenschicht (8) lokal entfernt.
    • 它提出了一种方法,用于制造包括一个半导体衬底(2)的太阳能电池(1),所述电接触而在所述半导体基板背面的地方。 所述半导体基板背面侧已局部掺杂区(3)。 下一海拔地区(4)具有一个从所述区域(3)不同的掺杂。 因此,导电材料(5)不短路的太阳能电池中,这两个区域(3,4)与一薄的,电绝缘层至少涂覆在所述区域边界(6)(7)。 两个区域(3,4)首先被涂覆在整个表面上通过电用导电材料(5)。 导电层(5)的通过覆盖沉积一个蚀刻阻挡层(8),然后自由地和有选择地屏蔽,例如分离 通过激光烧蚀除去,局部地,绝缘层(7)的上方。 通过蚀刻溶液的后续攻击,导电层(5)是在开口的区域(9)所述蚀刻阻挡层(8)被去除本地。