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1. 发明专利

JPH10102239A SURFACE COATING FOR INSULATING MATERIAL, METHOD FOR OBTAINING THE SAME AND APPLICATION TO PROTECTION OF INSULATING CONTAINER 失效
公开(公告)号：JPH10102239A
公开(公告)日：1998-04-21
申请号：JP26120297
申请日：1997-09-26
申请人： TECMACHINE
发明人： HEAU CHRISTOPHE , BERGER PAUL
IPC分类号： C23C14/14 , C23C14/20 , C23C28/02 , C23F11/00
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide surface coating having excellent adhesive strength to plastic and composite materials, furthermore having remarkable resistance, particularly, to salt water, giving protection of high quality to electromagnetic trouble, and whose adhesive strength is subjected to no adhesive strength even if being exposed to corrosive environments. SOLUTION: This surface coating on an insulating material substrate is the one suitable for guaranteeing protection against electromagnetic trouble in corrosive environments. In this case, it contains two laminated metallic layers, the primary layer in contacted with the substrate is the one of an alloy contg. about 80 to 98wt.% nickel as the base, and the secondary layer as the surface layer is the one using metallic silver or the alloy thereof as the base.

2. 发明专利

JPH101769A TITANIUM NITRIDE DOPED WITH BORON, SUBSTRATE COATING USING THE ABOVE AS BASE AND HAVING HIGH HARDNESS AND WEAR RESISTANCE AND PART CONTAINING THE ABOVE COATING 失效
公开(公告)号：JPH101769A
公开(公告)日：1998-01-06
申请号：JP1794797
申请日：1997-01-31
申请人： TECMACHINE
发明人： HEAU CHRISTOPHE
IPC分类号： B23B27/14 , B23P15/28 , C01B21/06 , C01B21/076 , C04B35/58 , C04B41/50 , C04B41/87 , C23C14/06 , C23C14/34 , C23C16/34
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain specified hardness in a plate by placing the plate in a magnetron cathode sputtering vapor deposition device and executing sputtering in an atmosphere of argon and nitrogen under the reduced pressure. SOLUTION: Titanium nitride doped with baron, crystallized to the structure the same as that of titanium nitride TiN and having about>50GPa Vickers microhardness is obtd. The relative ratios of the three kinds of components in the titanium nitride doped with baron (nitrogen, titanium and baron) are regulated to, by atom, 4%

3. 发明申请

WO2003010838A2 PROCEDE DE PROTECTION DE MICROGENERATEUR AU LITHIUM ET MICROGENERATEUR PROTEGE PAR CE PROCEDE 审中-公开
标题翻译：用于保护由微生物发生器和由发明方法保护的微发电机的方法
公开(公告)号：WO2003010838A2
公开(公告)日：2003-02-06
申请号：PCT/FR2002/002568
申请日：2002-07-18
申请人： TECMACHINE , FAVERJON, Frédéric , TERRAT, Jean-Paul , MARTIN, Michel
发明人： FAVERJON, Frédéric , TERRAT, Jean-Paul , MARTIN, Michel
IPC分类号： H01M2/02
CPC分类号： H01M2/0275 , H01M2/0267 , H01M2/0277 , H01M2/0287 , H01M10/0436
摘要： Procédé de protection de microgénérateur au lithium tout solide consistant à appliquer un film de produit thermoformable sur ledit microgénérateur et à appliquer une pression comprise entre environ 1.10 4 et environ 1,5.10 5 Pascal avec un chauffage à une température comprise entre environ 50 °C et environ 150 °C, pendant une durée comprise entre environ 2 s et environ 1800 s, caractérisé en ce que ledit produit thermoformable est une résine éthylène vinyle acétate (EVA) polymère d'un composé ayant la formula (I). Microgénérateur protégé au moyen d'une couche protectrice par un procédé selon l'invention, caractérisé en ce que ladite couche protectrice a une épaisseur inférieure à environ 200 μm, qu'elle est étanche à l'humidité et non réactive au lithium, et en ce qu'il a une épaisseur ne dépassant pas environ 500 micromètres.
摘要翻译：本发明涉及一种用于保护固态锂微发电机的方法，其包括将可热成型产品膜施加在所述微发电机上并施加约1.10-4至约1.5.105帕斯卡之间的压力，同时在约50℃至约150℃之间的温度下加热约2秒至1800秒之间的时间间隔。本发明的特征在于所述可热成型产品是式（I）化合物的乙烯乙酸乙烯酯（EVA）聚合物树脂。本发明还涉及通过本发明的方法用保护膜保护的微发电机，其特征在于所述保护膜具有约200μm的厚度，并且是防水的并且对锂不具有反应性，并且其厚度不超过约500微米。

4. 发明申请

WO2004008479A3 VACUUM SPUTTERING CATHODE 审中-公开
标题翻译：真空溅射阴极
公开(公告)号：WO2004008479A3
公开(公告)日：2005-12-15
申请号：PCT/FR0302111
申请日：2003-07-08
申请人： TECMACHINE , AULAGNER MICHEL , LABALME LIONEL
发明人： AULAGNER MICHEL , LABALME LIONEL
IPC分类号： C23C14/34 , H01J37/34
CPC分类号： H01J37/3435 , H01J37/3497
摘要： The invention relates to a vacuum sputtering cathode comprising a target support (2) consisting of a cooler. The inventive cathode is characterised in that it comprises a support base (3) on which a frame (11) is disposed, said frame defining at least one cavity (1a) for the circulation of a coolant. According to the invention, a membrane (4) is disposed on top of the frame (11), said base (3), frame (11) and membrane (4) being assembled at the periphery thereof.
摘要翻译：本发明涉及包括由冷却器组成的目标支撑件（2）的真空溅射阴极。本发明的阴极的特征在于，其包括支撑基座（3），框架（11）设置在支撑基座（3）上，所述框架限定用于冷却剂循环的至少一个空腔（1a）。根据本发明，膜（4）设置在框架（11）的顶部，所述基部（3），框架（11）和膜（4）在其周边组装。

5. 发明申请

WO2004008478A3 CATHODE POUR MACHINE DE TRAITEMENT PAR PULVERISATION SOUS VIDE 审中-公开
公开(公告)号：WO2004008478A3
公开(公告)日：2004-01-22
申请号：PCT/FR2003/002110
申请日：2003-07-08
申请人： TECMACHINE , AULAGNER, Michel , LABALME, Lionel
发明人： AULAGNER, Michel , LABALME, Lionel
IPC分类号： H01J37/34
摘要： La cathode pour machine de traitement par pulvérisation sous vide comprenant une plaque cible (2) montée sur un support (3) agencé pour faire office de refroidisseur, est remarquable en ce que le support (3) est rendu solidaire d'un cadre (5) délimitant un espace fermé (6) pour le positionnement et le centrage de la cible (2); ledit cadre (5) présentant périphériquement un rebord d'accrochage profilé (5d) apte à coopérer avec un ensemble d'éléments indépendants de pincement (8) présentant des formes d'accrochage complémentaires (8a) aptes à autoriser un effet de basculement desdits éléments (8) résultant d'une action de serrage exercée sur des organes (9), engagés dans l'épaisseur des éléments, et en appui sur une partie du rebord d'accrochage du cadre (5), de sorte que sous ledit effet de basculement une partie des formes d'accrochage de l'ensemble d'éléments de pincement (8), prend appui facialement sur le bord périphérique de la cible (2) en vue de sa fixation.

6. 发明申请

WO2002088418A1 DISPOSITIF D'INTRODUCTION D'UN MATERIAU SOUPLE EN BANDE DANS UNE ENCEINTE 审中-公开
标题翻译：将柔性条纹材料插入室的装置
公开(公告)号：WO2002088418A1
公开(公告)日：2002-11-07
申请号：PCT/FR2002/001406
申请日：2002-04-24
申请人： TECMACHINE , POIRSON, Jean-Marc , AULAGNER, Michel , LABALME, Lionel
发明人： POIRSON, Jean-Marc , AULAGNER, Michel , LABALME, Lionel
IPC分类号： C23C14/56
CPC分类号： C23C14/566 , C23C14/562
摘要： Ce dispositif est remarquable en ce qu'il comprend des moyens(B1) et (B2) aptes à assurer, en continu, le transfert et la mise en compression du matériau (M), d'une manière contrôlée, sans glissement et sans étirement, avec maîtrise de l'étanchéité dynamique àl'intérieur de l'enceinte ; lesdits moyens sont constitués par des bandes transporteuses (B1) et (B2) disposées en regard, en délimitant un espace (e) où est engagé le matériau (M); au moins les deux faces en regard de chacune des bandes présentant une série de cannelures identiques et régulièrement espacées pour être imbriquées en vue d'assurer, d'une manière concomitante, l'étanchéité dynamique dudit matériau sous l'effet de l'imbrication.
摘要翻译：本发明涉及一种装置，其特征在于，它包括被设计成以受控的方式连续地确保材料（M）的传送和压缩而不滑动和不拉伸的装置（B1）和（B2），在腔室内提供动态密封; 所述装置由彼此相对布置的传送带（B1）和（B2）组成，限定了材料接合（M）的空间（e）; 每个带的至少两个相对的表面具有均匀间隔开的嵌套的一系列相同的槽，以便在嵌套的作用下同时确保材料的动态密封。

7. 发明申请

WO2004013375A1 INSTALLATION POUR LE TRAITEMENT SOUS VIDE DE SUBSTRATS 审中-公开
标题翻译：真空处理基材的安装
公开(公告)号：WO2004013375A1
公开(公告)日：2004-02-12
申请号：PCT/FR2003/002320
申请日：2003-07-23
申请人： TECMACHINE , FOUREZON, Gilles , POIRSON, Jean-Marc
发明人： FOUREZON, Gilles , POIRSON, Jean-Marc
IPC分类号： C23C14/56
CPC分类号： H01L21/67173 , C23C14/568 , H01L21/67155 , H01L21/67236 , H01L21/677 , H01L21/67706 , H01L21/6776
摘要： Cette installation est remarquable en ce qu'elle est composée de plusieurs modules indépendants et alignés (M) comprenant chacun une chambre de traitement sous vide (C) et une chambre de transfert (B) avec moyens de transfert d'un substrat, dans une des différents chambres ou d'une chambre à une autre située en aval ou en amont, directement à côté ou séparée d'au moins un module, de sorte que pendant qu'un substrat est dans une chambre pour un traitement spécifique, un autre substrat peut être transféré dans une autre chambre pour subir un autre traitement.
摘要翻译：公开了一种装置，其特征在于它包括几个独立和对准的模块（M）。每个所述模块（M）设置有真空处理室（C）和传送室（B），所述真空处理室（C）和传送室（B）具有用于将衬底转移到不同室之一内或从一个室到另一室的装置，所述第二室位于下游或从第一腔室的上游，直接靠近或由至少一个模块隔开，使得可以将基底转移到一个室中以进行处理，而将另一个基底放置在不同的室中用于特定治疗。

8. 发明申请

WO2003010838A3 PROCEDE DE PROTECTION DE MICROGENERATEUR AU LITHIUM ET MICROGENERATEUR PROTEGE PAR CE PROCEDE 审中-公开
公开(公告)号：WO2003010838A3
公开(公告)日：2003-02-06
申请号：PCT/FR2002/002568
申请日：2002-07-18
申请人： TECMACHINE , FAVERJON, Frédéric , TERRAT, Jean-Paul , MARTIN, Michel
发明人： FAVERJON, Frédéric , TERRAT, Jean-Paul , MARTIN, Michel
IPC分类号： H01M2/02
摘要： Procédé de protection de microgénérateur au lithium tout solide consistant à appliquer un film de produit thermoformable sur ledit microgénérateur et à appliquer une pression comprise entre environ 1.10 4 et environ 1,5.10 5 Pascal avec un chauffage à une température comprise entre environ 50 °C et environ 150 °C, pendant une durée comprise entre environ 2 s et environ 1800 s, caractérisé en ce que ledit produit thermoformable est une résine éthylène vinyle acétate (EVA) polymère d'un composé ayant la formula (I). Microgénérateur protégé au moyen d'une couche protectrice par un procédé selon l'invention, caractérisé en ce que ladite couche protectrice a une épaisseur inférieure à environ 200 μm, qu'elle est étanche à l'humidité et non réactive au lithium, et en ce qu'il a une épaisseur ne dépassant pas environ 500 micromètres.

9. 发明申请

WO2004008479A2 CATHODE POUR PULVERISATION SOUS VIDE 审中-公开
标题翻译：真空溅射阴极
公开(公告)号：WO2004008479A2
公开(公告)日：2004-01-22
申请号：PCT/FR2003/002111
申请日：2003-07-08
申请人： TECMACHINE , AULAGNER, Michel , LABALME, Lionel
发明人： AULAGNER, Michel , LABALME, Lionel
IPC分类号： H01J37/34
CPC分类号： H01J37/3435 , H01J37/3497
摘要： La cathode pour pulvérisation sous vide dont le support de cible (2) est constitué par un refroidisseur, est remarquable en ce qu'elle comprend une embase support (3) sur laquelle est superposé un cadre (11) délimitant au moins un espace vide (1a) pour la circulation d'un fluide de refroidissement, ledit cadre (11) recevant en superposition une membrane (4), l'embase (3), le cadre (11) et la membrane (4) étant assemblés ensemble en périphérie.
摘要翻译：本发明涉及包括由冷却器组成的目标支撑件（2）的真空溅射阴极。本发明的阴极的特征在于，其包括支撑基座（3），框架（11）设置在支撑基座（3）上，所述框架限定用于冷却剂循环的至少一个空腔（1a）。根据本发明，膜（4）设置在框架（11）的顶部，所述基部（3），框架（11）和膜（4）在其周边组装。

10. 发明申请

WO2004008478A2 CATHODE FOR VACUUM SPUTTERING TREATMENT MACHINE 审中-公开
标题翻译：用于真空溅射处理机的阴极
公开(公告)号：WO2004008478A2
公开(公告)日：2004-01-22
申请号：PCT/FR0302110
申请日：2003-07-08
申请人： TECMACHINE , AULAGNER MICHEL , LABALME LIONEL
发明人： AULAGNER MICHEL , LABALME LIONEL
IPC分类号： H05H1/24 , C23C14/34 , H01J37/32 , H01J37/34
CPC分类号： H01J37/3435
摘要： The invention concerns a cathode for vacuum sputtering treatment machine comprising a target plate (2) mounted on a support (3) arranged to act as cooler. The invention is characterized in that the support (3) is secured to a frame (5) defining a closed space (6) for positioning and centering the target (2), said frame (5) including peripherally a profiled catching rim (5d) designed to co-operate with an assembly of independent toe-in elements (8) having complementary catching shapes (8a) adapted to allow a tilting effect of said elements (8) producing a clamping action exerted on members (9), engaged in the thickness of the elements, and supported on part of the catching rim of the frame (5), such that under said tilting effect part of the catching shapes of the assembly of toe-in elements (8), is supported through the front on the peripheral rim of the target (2) for fixing it.
摘要翻译：本发明涉及一种用于真空溅射处理机器的阴极，包括安装在用作冷却器的支撑件（3）上的靶板（2）。本发明的特征在于，支架（3）固定在框架（5）上，框架（5）限定了用于定位和定心靶（2）的封闭空间（6），所述框架（5）包括外围的成型捕获边缘（5d）设计成与具有互补捕获形状（8a）的独立前束元件（8）的组合配合，所述互补捕获形状（8a）适于允许所述元件（8）的倾斜效应产生施加在构件（9）上的夹紧作用，并且支撑在框架（5）的部分捕获边缘上，使得在所述倾斜作用下，所述趾部元件（8）的组件的捕获形状的一部分通过所述框架靶（2）的周边边缘用于固定它。

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