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1. 发明申请

WO2006000718A1 DISPOSITIF DE GENERATION DE LUMIERE DANS L' EXTREME ULTRAVIOLET ET APPLICATION A UNE SOURCE DE LITHOGRAPHIE PAR RAYONNEMENT DANS L'EXTREME ULTRAVIOLET 审中-公开
标题翻译：用于产生极度超紫外光的装置和应用于极端超紫外线照相源
公开(公告)号：WO2006000718A1
公开(公告)日：2006-01-05
申请号：PCT/FR2005/001465
申请日：2005-06-14
申请人： COMMISSARIAT ENERGIE ATOMIQUE , ALCATEL VACUUM TECHNOLOGY FRANCE , CHEYMOL, Guy , CORMONT, Philippe , THRO, Pierre-Yves , SUBLEMONTIER, Olivier , SCHMIDT, Martin , BARTHOD, Benoît
发明人： CHEYMOL, Guy , CORMONT, Philippe , THRO, Pierre-Yves , SUBLEMONTIER, Olivier , SCHMIDT, Martin , BARTHOD, Benoît
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70166 , B82Y10/00 , G03F7/70033 , H05G2/003 , H05G2/008
摘要： Le dispositif comprend un dispositif (2) pour créer, dans un espace sous vide où sont focalisés des faisceaux laser (1), une cible (4) essentiellement linéaire apte à émettre par interaction avec les faisceaux laser focalisés (1) un plasma émettant un rayonnement dans l'extrême ultraviolet. Un dispositif récepteur (3) reçoit la cible (4) après son interaction avec les faisceaux laser focalisés (1), tandis qu'un dispositif collecteur (110) collecte le rayonnement EUV émis par la cible (4). Les éléments (11) de focalisation des faisceaux laser sur la cible (4) sont agencés de telle sorte que les faisceaux laser (1) soient focalisés latéralement sur la cible (4) en étant situés dans un même demi-espace par rapport à la cible (4) et en étant inclinés d'un angle prédéterminé compris entre environ 60° et 90° par rapport à un axe moyen de collecte (6) perpendiculaire à la cible (4). Le dispositif collecteur (110) est disposé symétriquement par rapport à l'axe moyen de collecte (6) dans le demi-espace contenant les faisceaux laser (1) focalisés sur la cible (4) et à l'intérieur d'un espace conique (8) centré sur l'axe moyen de collecte (6) avec un sommet situé sur la cible (4) et un demi-angle au sommet inférieur à l'angle d'inclinaison des faisceaux laser focalisés (1) par rapport à l'axe moyen de collecte (6). Le dispositif est applicable à une source de lithographie par rayonnement EUV pour la fabrication de circuits intégrés.
摘要翻译：本发明涉及一种用于在激光束（1）被聚焦的真空空间中产生能够通过与聚焦激光束（1）相互作用发射等离子体而发射极紫外辐射的基本线性目标的装置（2）。接收器装置（3）在与聚焦激光束（2）相互作用之后接收目标物（4），而收集器装置（110）收集目标物（4）发射的EUV辐射。将激光束聚焦在靶（4）上的元件（11）被布置成使得激光束（1）通过位于相对于目标（4）的公共半空间中而横向聚焦在目标（4）上，并且相对于垂直于目标（4）的平均收集轴线（6）倾斜约60°至90°之间的预定角度。收集器装置（110）相对于包含聚焦在目标（4）上的激光束（1）的半空间中的装置收集轴线（6）对称地布置，并且位于以平均收集点为中心的锥形空间（8）内部轴线（6），其顶点位于目标（4）上，并且在顶点处的半角小于聚焦激光束（1）相对于平均收集轴线（6）的倾斜角度。该器件适用于用于制造集成电路的EUV辐射光刻源。

2. 发明申请

WO2012110914A1 DISPOSITIF DE SYNTHESE D'UN MATERIAU COMPOSITE NANOSTRUCTURE ET PROCEDE ASSOCIE. 审中-公开
标题翻译：用于合成纳米结构复合材料的装置及相关方法
公开(公告)号：WO2012110914A1
公开(公告)日：2012-08-23
申请号：PCT/IB2012/050549
申请日：2012-02-07
申请人： COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES , LECONTE, Yann , PAQUEZ, Xavier , SUBLEMONTIER, Olivier
发明人： LECONTE, Yann , PAQUEZ, Xavier , SUBLEMONTIER, Olivier
IPC分类号： C23C14/22 , C23C14/34
CPC分类号： C23C14/228 , C23C14/22 , H01J37/301 , H01J37/317 , H01J37/3178
摘要： La présente invention concerne un dispositif de synthèse d'un matériau composite nanostructuré et un procédé associé. Le dispositif comprend une chambre de synthèse (3) dudit matériau comportant un système (13) de dépôt de la matrice sur une surface cible (15), un système (1, 4, 5, 9) pour générer un jet supersonique de nanoparticules dans un gaz porteur, ledit système comportant une chambre de détente (1 ) et une chambre tampon (2) disposée entre ledit système (1, 4, 5, 9) pour générer ce jet supersonique et la chambre de synthèse (3), la pression régnant dans la chambre tampon (2) étant inférieure à la pression régnant dans la chambre de détente (1 ), ledit jet supersonique de gaz porteur entraînant les nanoparticules étant ainsi destiné à traverser la chambre de détente (1 ) puis la chambre tampon (2), de sorte que les nanoparticules traversent la chambre de synthèse (3) jusqu'à la surface cible (15).
摘要翻译：本发明涉及一种用于合成纳米结构复合材料的装置及其相关方法。该装置包括用于合成所述材料的腔室（3），包括用于将基质沉积到靶表面（15）上的系统（13），用于产生纳米颗粒的超音速射流的系统（1,4,5,9）载体气体，所述系统包括设置在所述系统（1,4,5,9）之间用于产生所述超音速射流和合成室（3）的膨胀室（1）和缓冲室（2），所述主流压力在所述缓冲室（2）低于所述膨胀室（1）内的主要压力，所述超音速喷射的载气驱动所述纳米颗粒，从而通过所述膨胀室（1）然后通过所述缓冲室（2），使得纳米颗粒通过合成室（3）到目标表面（15）上。

3. 发明申请

WO2012080291A1 DISPOSITIF DE DECOUPE DE STRUCTURE COMPRENANT DES NANO-OBJETS FILAIRES ET PROCEDE ASSOCIE 审中-公开
标题翻译：用于切割包括线状纳米物体的结构的装置及相关方法
公开(公告)号：WO2012080291A1
公开(公告)日：2012-06-21
申请号：PCT/EP2011/072678
申请日：2011-12-14
申请人： COMMISSARIAT À L'ÉNERGIE ATOMIQUE ET AUX ÉNERGIES ALTERNATIVES , BOULANGER, Pascal , SUBLEMONTIER, Olivier , GOBERT, Olivier
发明人： BOULANGER, Pascal , SUBLEMONTIER, Olivier , GOBERT, Olivier
IPC分类号： B23K26/12 , B23K26/40 , B23K26/06
CPC分类号： B23K26/402 , B23K26/0624 , B23K26/064 , B23K26/12 , B23K26/127 , B23K26/36 , B23K2203/38 , B23K2203/50
摘要： L'invention concerne un dispositif de découpe de structure comprenant des nano-tubes (nt), caractérisé en ce qu'il comprend : des moyens aptes à polariser rectilignement des impulsions laser émises en direction de la structure, la durée des impulsions laser étant sensiblement comprise entre 1 Femtoseconde et 300 Femtosecondes; et des moyens (L) aptes à focaliser sur la structure les impulsions laser polarisées rectilignement.
摘要翻译：本发明涉及一种用于切割包括纳米管（nt）的结构的装置，其特征在于，其包括：能够将朝向该结构发射的激光脉冲直线偏振的装置，激光脉冲被发射一段时间，基本上在1飞秒和 300飞秒; 以及能够将直线偏振的激光脉冲聚焦到结构上的装置（L）。

4. 发明申请

WO2008152272A2 SYNTHESE PAR PYROLYSE LASER DE NANOCRISTAUX DE SILICIUM 审中-公开
标题翻译：通过激光热解合成硅纳米晶
公开(公告)号：WO2008152272A2
公开(公告)日：2008-12-18
申请号：PCT/FR2008/050838
申请日：2008-05-15
申请人： COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE , HERLIN-BOIME, Nathalie , SUBLEMONTIER, Olivier , LACOUR, Frédéric
发明人： HERLIN-BOIME, Nathalie , SUBLEMONTIER, Olivier , LACOUR, Frédéric
IPC分类号： B01J19/12 , C01B33/029 , C09K11/59 , B82B1/00 , B82B3/00 , C01B33/027
CPC分类号： B01J19/121 , B01J2219/00123 , B01J2219/00162 , B82Y30/00 , C01B33/021 , C01B33/029
摘要： L'invention concerne la synthèse par pyrolyse laser de nanoparticules comportant du silicium. A cet effet : -on achemine, par un fluide de transport(He), un précurseur (SiH 4) comportant l'élément silicium, vers un réacteur de pyrolyse(REAC), -on applique, dans le réacteur, un rayonnement laser (LAS) à un mélange que forment le fluide de transport et le précurseur, et -on récupère en sortie du réacteur des nanoparticules (nP) comportant du silicium. En particulier, on contrôle le rayonnement laser en puissance. En outre, on prévoir un contrôle en durée d' impulsion effective dans une période de tir laser. Typiquement, pour une puissance supérieure à 500 watts et une durée d'impulsion supérieure à 40% d'une période de tir laser, on obtient des nanoparticules présentant un coeur sous forme cristalline de taille inférieure ou de l'ordre de nanomètres, et ce à une cadence supérieure ou de l'ordre de 80 milligrammes par heure. Dans des conditions optimisées, une cadence record de supérieure à 740 milligrammes par heure a pu être obtenue.
摘要翻译：本发明涉及通过激光热解合成含硅纳米颗粒。为此，将含有元素硅的前体（SiH 4）通过输送流体（He）输送到热解反应器（REAC）中; 在反应器中将激光辐射（LAS）施加到输送流体和前体形成的混合物; 并且在反应器的出口处回收含硅纳米颗粒（nP）。特别地，激光辐射的功率受到控制。此外，有效脉冲持续时间被控制在激光烧制周期内。通常，对于大于500瓦的功率和大于激光烧制周期的40％的脉冲持续时间，具有尺寸小于或大于1纳米的晶体结构的纳米颗粒以大于或大于每小时80毫克的数量级。在最佳条件下，可以获得大于740毫克/小时的记录速率。

5. 发明申请

WO2008152272A3 SYNTHESIS OF SILICON NANOCRYSTALS BY LASER PYROLYSIS 审中-公开
标题翻译：通过激光热解合成硅纳米晶
公开(公告)号：WO2008152272A3
公开(公告)日：2009-02-19
申请号：PCT/FR2008050838
申请日：2008-05-15
申请人： COMMISSARIAT ENERGIE ATOMIQUE , HERLIN-BOIME NATHALIE , SUBLEMONTIER OLIVIER , LACOUR FREDERIC
发明人： HERLIN-BOIME NATHALIE , SUBLEMONTIER OLIVIER , LACOUR FREDERIC
IPC分类号： B01J19/12 , B82B1/00 , B82B3/00 , C01B33/029 , C09K11/59
CPC分类号： B01J19/121 , B01J2219/00123 , B01J2219/00162 , B82Y30/00 , C01B33/021 , C01B33/029
摘要： The invention relates to the synthesis of silicon-containing nanoparticles by laser pyrolysis. For this purpose: a precursor (SiH4) containing the element silicon is conveyed, by a transport fluid (He), into a pyrolysis reactor(REAC); laser radiation (LAS) is applied, in the reactor, to a mixture that the transport fluid and the precursor form; and silicon-containing nanoparticles (nP) are recovered at the exit of the reactor. In particular, the power of the laser radiation is controlled. Furthermore, the effective pulse duration is controlled within a laser firing period. Typically, for a power greater than 500 watts and a pulse duration greater than 40% of a laser firing period, nanoparticles having a crystalline structure with a size of less than or of the order of one nanometre are obtained at a rate greater than or of the order of 80 milligrams per hour. Under optimum conditions, a record rate of greater than 740 milligrams per hour was able to be obtained.
摘要翻译：本发明涉及通过激光热解合成含硅纳米颗粒。为此，将含有元素硅的前体（SiH 4）通过输送流体（He）输送到热解反应器（REAC）中; 在反应器中将激光辐射（LAS）施加到输送流体和前体形成的混合物; 并且在反应器的出口处回收含硅纳米颗粒（nP）。特别地，激光辐射的功率受到控制。此外，有效脉冲持续时间被控制在激光烧制周期内。通常，对于大于500瓦的功率和大于激光烧制周期的40％的脉冲持续时间，具有尺寸小于或大于1纳米的晶体结构的纳米颗粒以大于或大于每小时80毫克的数量级。在最佳条件下，可以获得大于740毫克/小时的记录速率。

6. 发明申请

WO2002085080A1 PROCEDE ET DISPOSITIF DE GENERATION DE LUMIERE DANS L'EXTREME ULTRAVIOLET NOTAMMENT POUR LA LITHOGRAPHIE 审中-公开
标题翻译：用于生成特殊超声波紫外线辐射的方法和装置
公开(公告)号：WO2002085080A1
公开(公告)日：2002-10-24
申请号：PCT/FR2002/001306
申请日：2002-04-16
申请人： COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE , SCHMIDT, Martin , SUBLEMONTIER, Olivier , CECCOTTI, Tiberio , SEGERS, Marc
发明人： SCHMIDT, Martin , SUBLEMONTIER, Olivier , CECCOTTI, Tiberio , SEGERS, Marc
IPC分类号： H05G2/00
CPC分类号： H05G2/003 , G03F7/70033 , H05G2/006 , H05G2/008
摘要： Selon l'invention, on fait interagir un faisceau laser (24) et un brouillard dense (20) de micro-gouttelettes d'un gaz rare liquéfié. On utilise en particulier le xénon liquide (6), on produit ce dernier par liquéfaction de xénon gazeux (10) avec lequel on pressurise le xénon liquide à une pression de 5x10 5 Pa à 50x10 5 Pa, et l'on maintient ce xénon liquide à une température de -70°C à -20°C, on injecte le xénon liquide pressurisé dans une buse (4) dont le diamètre intérieur minimal va de 60 μm à 600 μm, cette buse débouchant dans une zone où la pression est égale ou inférieure à 10 -1 Pa.
摘要翻译：本发明涉及一种方法，其包括使激光束（24）与液化稀有气体的微小液滴的致密雾（20）相互作用。特别地，使用液态氙（6），其通过液化气态氙（10）产生，由此将液体氙压力至5×10 5 Pa至50×10 5 Pa的压力，并保持所述液态氙气在-70℃至-20℃的温度下，将所述加压液体氙注入喷嘴（4），其中最小内径范围在60至600微米之间，所述喷嘴出现在压力不低于10 Pa。

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