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1. 发明申请

WO2009127573A3 CLASSIFICATION DEVICE AND METHOD FOR THE CLASSIFICATION OF SURFACE DEFECTS ESPECIALLY ON WAFER SURFACES 审中-公开
标题翻译：分类设备和方法分类尤其是晶片表面表面缺陷
公开(公告)号：WO2009127573A3
公开(公告)日：2010-04-01
申请号：PCT/EP2009054215
申请日：2009-04-08
申请人： NANOPHOTONICS AG , BUGNER DIRK , SITOV SERGEI , NIKOLOV MLADEN
发明人： BUGNER DIRK , SITOV SERGEI , NIKOLOV MLADEN
IPC分类号： G06T7/00
CPC分类号： G01N21/9503 , G01N2021/8854 , G06T2207/30148
摘要： The invention relates to a classification device, a classification method, and a computer program product for the classification of surface defects on the surfaces of objects, especially on wafer surfaces. According to the method, the surface defect is associated with a pre-defined defect category for which at least one piece of property information from the group of compulsory conditions and property value distributions is stored. Values of defined defect properties of the surface defect are determined, the determined defect property values are checked to see that they meet the compulsory conditions if at least one compulsory condition is stored, the association with the defect category is approved if the compulsory conditions are met and no characteristic value distribution for the defect category is stored, and a probability value for the association of the surface defect with the defect category is determined by comparing the property value distributions with the determined defect characteristic values if at least one property value distribution for the defect category is stored.
摘要翻译：本发明涉及一种分类设备，分类方法和表面缺陷的物体上的表面的分类的计算机程序产品，特别是在晶片的表面。根据预定的缺陷类的表面缺陷的本发明的方法被分配给选自强制性条款和属性值分布的属性信息被存储至少。在这种情况下，当检测到的表面缺陷的某些缺陷特性的值，来确定检查的严格条件达成缺陷属性值，如果必要条件被存储至少，属于缺陷类肯定的，如果强制性条件满足并且不用于缺陷类属性值分布被存储，并且一个如果通过存储用于缺陷类的至少一个属性值的分布进行比较与所确定的缺陷的属性值的特性值分布的表面缺陷的缺陷类的关联来确定概率值。

2. 发明申请

WO2009127574A1 INSPEKTIONSSYSTEM UND -VERFAHREN FÜR DIE OPTISCHE UNTERSUCHUNG VON OBJEKTKANTEN, INSBESONDERE VON WAFERKANTEN 审中-公开
标题翻译：检查系统和方法用于物体边缘，特别是晶片边缘的光学调查成果
公开(公告)号：WO2009127574A1
公开(公告)日：2009-10-22
申请号：PCT/EP2009/054216
申请日：2009-04-08
申请人： NANOPHOTONICS AG , BUGNER, Dirk , NIKOLOV, Mladen , LAUBE, Frank , SITOV, Sergei , DREWS, Dietrich
发明人： BUGNER, Dirk , NIKOLOV, Mladen , LAUBE, Frank , SITOV, Sergei , DREWS, Dietrich
IPC分类号： G01N21/95
CPC分类号： G01N21/9503 , G01N2021/8825
摘要： Die Anmeldung betrifft ein Inspektionssystem und ein Inspektionsverfahren für die optische Untersuchung von Objektkanten, insbesondere von Waferkanten. Das Inspektionsverfahren sieht die Schritte vor: Aufnehmen eines digitalen Bildes von der Objektkante mittels Digitalkamera (101, 202, 212, 222) unter Hellfeldbeleuchtung, Aufnehmen eines digitalen Bildes von der Objektkante mittels Digitalkamera (101, 202, 212, 222) unter Dunkelfeldbeleuchtung und Zusammenfassen der Bildinformation aus dem Hellfeldbild und dem Dunkelfeldbild. Das Zusammenfassen der Bildinformation umfasst vorzugsweise ein Zuordnen zusammenhängender Bildpunkte in dem Hellfeldbild zu einem Defektfragment (301, 301', 302, 302', 441,.442, 443, 444, 446) in Abhängigkeit von den Bildpunktinhalten, ein Zuordnen zusammenhängender Bildpunkte in dem Dunkelfeldbild zu einem Defektfragment in Abhängigkeit von den Bildpunktinhalten, und ein Zusammenfassen der Defektfragmente aus dem Hellfeldbild und dem DunkelfeldbiId in einem gemeinsamen virtuellen Kantenbild.
摘要翻译：本申请涉及的检查系统和用于物体边缘的光学检查的检查方法，特别是晶片的边缘。检查方法提供如下步骤：在暗场照明和总结通过数字照相机的装置接收所述对象边缘的数字图像（101，202，212，222）下明场照明，通过数字照相机的装置获取所述对象边缘的数字图像（101，202，212，222）来自亮场图像和暗场图像的图像信息。的图像信息的分组优选地包括在所述明视场图像的连续像素的映射到一个缺陷片段（301，301”，302,302' ，441，0.442，443，444，446）作为像素含量的函数，分配在连续的像素暗视场图像中根据图像点内容，并在共同的虚拟边缘图像从亮场图像的缺陷片段和DunkelfeldbiId组合缺陷片段。

3. 发明申请

WO2009127573A2 KLASSIFIZIERUNGSEINRICHTUNG UND -VERFAHREN FÜR DIE KLASSIFIZIERUNG VON OBERFLÄCHENDEFEKTEN INSBESONDERE AUF WAFEROBERFLÄCHEN 审中-公开
标题翻译：分类设备和方法分类尤其是晶片表面表面缺陷
公开(公告)号：WO2009127573A2
公开(公告)日：2009-10-22
申请号：PCT/EP2009/054215
申请日：2009-04-08
申请人： NANOPHOTONICS AG , BUGNER, Dirk , SITOV, Sergei , NIKOLOV, Mladen
发明人： BUGNER, Dirk , SITOV, Sergei , NIKOLOV, Mladen
IPC分类号： G06T7/00
CPC分类号： G01N21/9503 , G01N2021/8854 , G06T2207/30148
摘要： Die Erfindung betrifft eine Klassifizierungseinrichtung, ein Klassifizierungsverfahren sowie ein Computerprogrammprodukt für die Klassifizierung von Oberflächendefekten auf Objektoberflächen, insbesondere auf Waferoberflächen. Nach dem erfindungsgemäßen Verfahren wird der Oberflächendefekt einer vordefinierten Defektklasse zugeordnet, für die wenigstens eine Eigenschaftsinformation aus der Gruppe zwingender Konditionen und Eigenschaftswertverteilungen hinterlegt ist. Dabei werden Werte bestimmter Defekteigenschaften des Oberflächendefektes ermittelt, die ermittelten Defekteigenschaftswerte auf Erfüllung der zwingenden Konditionen überprüft, wenn wenigstens eine zwingende Kondition hinterlegt ist, die Zugehörigkeit zu der Defektklasse bejaht, wenn die zwingenden Konditionen erfüllt sind und keine Eigenschaftswertverteilung für die Defektklasse hinterlegt ist und ein Wahrscheinlichkeitswert für die Zugehörigkeit des Oberflächendefektes zu der Defektklasse durch Vergleich der Eigenschaftswertverteilungen mit den ermittelten Defekteigenschaftswerte bestimmt, wenn wenigstens eine Eigenschaftswertverteilung für die Defektklasse hinterlegt ist.
摘要翻译：本发明涉及一种分类设备，分类方法和表面缺陷的物体上的表面的分类的计算机程序产品，特别是在晶片的表面。根据预定的缺陷类的表面缺陷的本发明的方法被分配给选自强制性条款和属性值分布的属性信息被存储至少。在这种情况下，当检测到的表面缺陷的某些缺陷特性的值，来确定检查的严格条件达成缺陷属性值，如果必要条件被存储至少，属于缺陷类肯定的，如果强制性条件满足并且不用于缺陷类属性值分布被存储，并且一个如果通过存储用于缺陷类的至少一个属性值的分布进行比较与所确定的缺陷的属性值的特性值分布的表面缺陷的缺陷类的关联来确定概率值。

4. 发明申请

WO2009127572A1 INSPEKTIONSSYSTEM UND -VERFAHREN FÜR DIE OPTISCHE UNTERSUCHUNG VON OBJEKTOBERFLÄCHEN, INSBESONDERE VON WAFEROBERFLÄCHEN 审中-公开
标题翻译：检查系统和方法适合对象表面，特别是晶片表面的光学研究
公开(公告)号：WO2009127572A1
公开(公告)日：2009-10-22
申请号：PCT/EP2009/054213
申请日：2009-04-08
申请人： NANOPHOTONICS AG , BUGNER, Dirk , SITOV, Sergei , NIKOLOV, Mladen
发明人： BUGNER, Dirk , SITOV, Sergei , NIKOLOV, Mladen
IPC分类号： G01N21/95 , G06T7/00 , H01L21/66
CPC分类号： G01N21/9503 , G06T7/0004 , G06T2207/30148 , H01L22/20
摘要： Die Anmeldung betrifft ein Inspektionssystem, ein Inspektionsverfahren sowie ein Computerprogrammprodukt für die optische Untersuchung von Objektoberflächen, insbesondere von Waferoberflächen, auf Oberflächendefekte. Nach dem Inspektionsverfahren wird ein Bild von der Objektoberfläche mittels einer Digitalkamera (101, 212, 222) aufgenommen, zusammenhängende Bildpunkte in dem Bild einem Defektfragment (301, 301', 302, 302', 401) zugeordnet, wenn deren Inhalte innerhalb eines bestimmten Wertebereiches liegen, Werte bestimmter Defektfragmenteigenschaften ermittelt, benachbarte Defektfragmente (301, 301', 302, 302', 401) einem Defekt zugeordnet, wenn diese vorbestimmte Abstands- und/oder Formzusammenhänge aufweisen, Werte bestimmter Defekteigenschaften ermittelt und der Defekt einer vordefinierten Defektklasse anhand der ermittelten Defektfragmenteigenschaftswerte und/oder der ermittelten Defekteigenschaftswerte zugeordnet.
摘要翻译：本申请涉及的检查，检查方法和物体表面的光学检查的计算机程序产品的一个系统，特别是晶片表面，表面缺陷。根据检查方法，在接收由数字照相机（101，212，222）的装置的物体表面的图像的，连续的像素的图像中，以分配一个缺陷片段（301，301”，302，302' ，401）时的值的特定范围内的内容与缺陷相关联的某些缺陷片段属性的确定值，相邻缺陷的片段（301，301”，302，302' ，401），如果此预定距离和/或形状的相关性已经确定的某些缺陷特性的值和预定的缺陷类的基础上，确定的缺陷缺陷片段的属性值和/或有缺陷的属性值来确定分配。

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