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    • 3. 发明申请
    • PROCESS FOR PRODUCING ORGANICALLY MOFIFIED OXIDE, OXYNITRIDE OR NITRIDE LAYERS BY VACUUM DEPOSITION
    • 通过真空沉积生产有机氧化物,氧化物或氮化物层的方法
    • WO9723661A3
    • 1997-08-28
    • PCT/DE9602434
    • 1996-12-13
    • FRAUNHOFER GES FORSCHUNGNEUMANN MANFREDSCHILLER SIEGFRIEDMORGNER HENRYSCHILLER NICOLASSTRAACH STEFFEN
    • NEUMANN MANFREDSCHILLER SIEGFRIEDMORGNER HENRYSCHILLER NICOLASSTRAACH STEFFEN
    • C23C14/00C23C14/08C23C14/32C23C14/06B65G11/00
    • C23C14/08C23C14/0021C23C14/32Y10T428/31663
    • According to the invention, in plasma-activated high-rate evaporation of an oxide former, monomers are applied in addition to oxygen in such a way that the evaporated oxide formers and the oxygen and the monomers have a preferential direction on the substrate and pass through a high-density plasma zone. More than 50 wt % of the coating on the substrate consists of inorganic molecules and under 50 wt % of partially cross-linked organic molecules. The process is used for packaging, window glazing, mirrors, decorative surfaces or façade linings.
    • PCT No.PCT / DE96 / 02434 Sec。 371日期:1998年7月22日 102(e)日期1998年7月22日PCT 1996年12月13日PCT PCT。 公开号WO97 / 23661 日期1997年7月3日通过使包含氮化物形成蒸发材料和氧化物和低氧化物蒸发材料之一的蒸发材料的等离子体增强蒸发在衬底上真空涂覆来生产至少一种有机改性氧化物,氮氧化物或氮化物层的方法,其中 通过使用气体单体和包括氧和氮中的至少一种的反应性气体,通过等离子体增强的反应性高速蒸发蒸发材料沉积至少一层,并且其中蒸发材料,气体单体和反应性 气体立即在基板的前方通过高密度等离子体区域。 一种用于通过氧化物和低氧化物蒸发材料之一的等离子体增强蒸发在衬底上真空涂覆来生产至少一种有机改性氧化物,氮氧化物或氮化物层的方法,其中所述至少一层通过等离子体增强的反应性沉积 使用气体单体和包括至少一种氧气和氮气的反应气体蒸发材料的高速蒸发,并且其中蒸发材料,气体单体和反应性气体立即通过高密度等离子体区域 底物。 通过该方法制备的具有有机改性的氧化物,氮氧化物或氮化物层的衬底,其中通过等离子体增强的高速气相沉积沉积的至少一层包括超过50重量%的无机分子和小于50重量% %的部分交联的有机分子。