专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2003054867A1 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM BEHANDELN VON SUBSTRATEN FÜR OPTISCHE DATENTRÄGER 审中-公开
标题翻译：方法和设备处理基材的光盘光学
公开(公告)号：WO2003054867A1
公开(公告)日：2003-07-03
申请号：PCT/EP2001/015156
申请日：2001-12-20
申请人： STEAG HAMATECH AG , SÄMANN, Martin , HILL-EHRENFEUCHTER, Holger
发明人： SÄMANN, Martin , HILL-EHRENFEUCHTER, Holger
IPC分类号： G11B7/26
CPC分类号： C23C14/568 , G11B7/26
摘要： Für die Herstellung unterschiedlicher optischer Datenträger mit einer einzelnen Anlage, die einerseits kompakt ist, und die rasch zwischen der Herstellung unterschiedlicher optischer Datenträger wechseln kann, sieht die vorliegende Erfindung ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Behandeln von Substraten vor. Die Vorrichtung besitzt eine Substrat-Beladeeinheit, einen Rundschalttisch (120), eine dem Rundschalttisch zugeordnete Behandlungseinheit (124), eine Substrat-Entladeeinheit, sowie erfindungsgemäß wenigstens eine weitere, dem Rundschalttisch zugeordnete Behandlungseinheit (128), wobei der Rundschalttisch elf Tischpositionen aufweist. Bei dem Verfahren werden jeweils ein erstes und ein zweites Substrat auf benachbarten Positionen eines elf Positionen aufweisenden Rundschalttisch abgelegt und die Substrate in Abhängigkeit vom zu bildenden Datenträger in einem Einzeltakt oder einem Dreiertakt zwischen einer Beladeposition, wenigstens einer Behandlungsposition und benachbarten Entladepositionen bewegt.
摘要翻译：为了生产不同的光盘的具有单一系统，这是在一方面紧凑，并且可以不同的光盘的制造之间快速切换，本发明提供一种用于处理基材的方法和设备。该设备具有一个基片装载单元，与相关联的旋转工作台（120），所述根据本发明的至少一个另外的分配给该旋转台处理单元（128），其中所述旋转工作台包括11个表位置旋转台处理单元（124），基板排出单元，和。在该方法中，第一和11位具有分度工作台的相邻位置的第二基板分别存储，并且根据在单个时钟的以形成磁盘或装载位置之间的三重时间，至少一个治疗位置和相邻的卸载位置移动时在基片上。

2. 发明申请

WO2006058670A3 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM KÜHLEN UND/ODER KONDITIONIEREN VON EIN INNENLOCH AUFWEISENDEN SUBSTRATSCHEIBEN 审中-公开
公开(公告)号：WO2006058670A3
公开(公告)日：2006-06-08
申请号：PCT/EP2005/012651
申请日：2005-11-26
申请人： STEAG HAMA TECH AG , BARTSCH, Stefan , SÄMANN, Martin , HERRMANN, Stefan , HUPP, Alexander , RIESEWEBER, Tilmann , KERKMANN, Matthias
发明人： BARTSCH, Stefan , SÄMANN, Martin , HERRMANN, Stefan , HUPP, Alexander , RIESEWEBER, Tilmann , KERKMANN, Matthias
IPC分类号： G11B7/26 , B65G51/03
摘要： Verfahren und Vorrichtung zum Kühlen und/oder Konditionieren von ein Innenloch aufweisenden Substratscheiben für die Herstellung optischer Datenträger, bei dem bzw. bei der ein Haltestift (8) in das Innenloch einer Substratscheibe (20) eingeführt und eine Gasströmung auf wenigstens eine Unterseite der Substratscheibe gelenkt wird, um sie während der Kühlung und/oder Konditionierung über ein durch die Gasströmung erzeugtes Gaskissen schwebend zu halten, wobei wenigstens ein auf die Substratscheibe gerichteter Gasstrom vorgesehen wird, der die Substratscheibe in Rotation versetzt, während der Haltestift eine seitliche Führung vorsieht.

3. 发明申请

WO2002067252A1 VORRICHTUNG ZUM AUFNEHMEN VON SUBSTRATEN 审中-公开
标题翻译： DEVICE FOR记录基板
公开(公告)号：WO2002067252A1
公开(公告)日：2002-08-29
申请号：PCT/EP2001/014661
申请日：2001-12-13
申请人： STEAG HAMATECH AG , BARTSCH, Stefan , HILl-EHRENFEUCHTER, Holger , SÄMANN, Martin , WAGNER, Roland
发明人： BARTSCH, Stefan , HILl-EHRENFEUCHTER, Holger , SÄMANN, Martin , WAGNER, Roland
IPC分类号： G11B7/26
CPC分类号： G11B7/26
摘要： Vorrichtung zum Handhaben von weingstens zwei Substraten, mit wenigstens zwei Substratgreifern, wobei ein erster, schwenkbarer Substratgreifer zwischen einer zum zweiten Substratgreifer seitlich benachbart liegenden Aufnahmeposition und einer über dem zweiten Substrathalter liegenden Halteposition schwenkbar ist.
摘要翻译：设备用于处理weingstens的两个基板，具有至少两个夹持器基板，其中，第一，可枢转的基片夹持器是在第二衬底夹持器横向相邻躺在接收位置和保持位置覆盖第二基板支架可枢转之间。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式