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    • 9. 发明申请
    • Method and apparatus for providing gas to a processing chamber
    • 用于向处理室提供气体的方法和装置
    • US20050257735A1
    • 2005-11-24
    • US11146311
    • 2005-06-06
    • Rolf Guenther
    • Rolf Guenther
    • B01D7/00C23C16/448C30B23/00C30B25/00C30B28/12C30B28/14
    • C23C16/4481B01D7/00
    • A method and apparatus for generating gas for a processing system is provided. In one embodiment, an apparatus for generating gas for a processing system includes a unitary, isolatable, transportable canister having a plurality of first spacing elements, a plurality of second spacing elements and a solid material disposed within the canister. The spacing elements have different mean diameters. The solid material is adapted to produce a gas vapor when exposed to a temperature above a predetermined level at a predetermined pressure. In another embodiment, an apparatus for generating gas includes a gas source coupled to a processing chamber by a first gas line. A canister is coupled in-line with the first gas line and contains a solid material that produces a process gas when heated. A heater is disposed between the gas source and the canister to heat gas flowing into the canister.
    • 提供了一种用于产生用于处理系统的气体的方法和装置。 在一个实施例中,用于产生用于处理系统的气体的装置包括具有多个第一间隔元件,多个第二间隔元件和设置在所述罐内的固体材料的单一的可隔离的可移动的罐。 间隔元件具有不同的平均直径。 固体材料适于当以预定压力暴露于高于预定水平的温度时产生气体蒸气。 在另一个实施例中,用于产生气体的装置包括通过第一气体管线连接到处理室的气体源。 罐与第一气体管线连接在一起,并且包含在加热时产生工艺气体的固体材料。 在气体源和罐之间设置加热器以加热流入罐中的气体。