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    • 3. 发明公开
    • Skitunnel
    • EP1570884A1
    • 2005-09-07
    • EP05004805.7
    • 2005-03-04
    • Riedel, Peter, Dipl.-Ing.
    • Riedel, Peter, Dipl.-Ing.
    • A63C19/10
    • A63C19/10
    • Skitunnel zum Betreiben von Skilanglauf auf Natur- oder Kunstschnee, umfassend einen Boden, einen Überbau und eine Klimaanlage, wobei Boden und Überbau miteinander zur Bildung einer gegenüber der Außenwelt im wesentlichen klimatisch abgeschlossenen Tunnelröhre verbunden sind, der Boden eine oder mehrere Schichten aufweist und mindestens eine der ein oder mehreren Schichten des Bodens als Kühlboden zur im wesentlichen vollflächigen Kühlung von auf dem Boden aufgebrachtem Schnee ausgebildet ist. In dem Skitunnel sind die zum Innenraum des Tunnels gewandten Innenflächen des Überbaus durch eine Innenflächenkühlung im wesentlichen vollflächig kühlbar. Mit der Klimaanlage sind Temperatur und Feuchtigkeit der Innenraumluft im Skitunnel unabhängig voneinander regulierbar.
    • 用于越野滑雪天然或人造雪,包括:具有底部,上部结构和空调,其中,所述底部和上部结构彼此连接的操作滑雪隧道相对于外界的底部的一个或多个层中的基本上气候封闭隧道和至少一个,以形成 地板的一个或多个层被设计成用于基本全表面冷却施加到地板上的雪的冷却地板。 在滑雪隧道中,面向隧道内部的上层建筑的内表面可以通过内表面冷却系统基本上在整个区域上被冷却。 利用空调系统,可以独立调节滑雪隧道内的室内空气的温度和湿度。
    • 9. 发明申请
    • GLEITPLATTE UND GLEITPLATTEN-SYSTEM FÜR EINE SKISPRUNGANLAGE
    • 滑板和系统跳台滑雪滑门厂
    • WO2013023648A2
    • 2013-02-21
    • PCT/DE2012/100230
    • 2012-08-01
    • PETER RIEDEL PATENT UG (HAFTUNGSBESCHRÄNKT)RIEDEL, Peter
    • RIEDEL, Peter
    • E01C13/12A63C19/02A63C19/10A63C2201/04
    • Die Erfindung betrifft eine Gleitplatte für eine Skisprunganlage aufweisend folgende Merkmale: • ein plattenförmiges Element (1) mit einer Oberseite mit Gleitnoppenaufnahmen (11), die im plattenformigen Element (1) angeordnete Gleitnoppenöffnungen, die durch das plattenförmige Element (1) hindurch reichen, aufweisen, • eine Mehrzahl Gleitnoppen (2), die derart in den Gleitnoppenaufnahmen (11) angeordnet sind, dass die Gleitnoppen (2) aus dem plattenformigen Element (1) herausragen und • Federungsmittel (3), die derart ausgebildet sind, dass diese auf eine Relativbewegung zwischen den Gleitnoppen (2) und dem plattenformigen Element (1) eine Rückstellkraft ausüben, Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass die Federungsmittel (3) zwischen Gleitnoppenfederungsabschnitten (20) der Gleitnoppen (2) und Plattenfederungsabschnitten (10) des plattenformigen Elements (1) angeordnet sind.
    • 本发明涉及一种滑动板具有以下特征的跳台滑雪:°(1)具有与Gleitnoppenaufnahmen形成在所述板形元件(1)布置Gleitnoppenöffnungen其通过(1)具有通过其中的板形元件延伸的顶表面(11)的板形元件, ,°多个滑动旋钮(2),其被布置在所述Gleitnoppenaufnahmen(11),从所述板形元件的滑动旋钮(2)(1)突出并且°悬挂装置(3),其形成为使得它们以一个 滑动旋钮(2)和所述板形元件之间的相对移动(1)施加的恢复力,根据该板形元件的滑动旋钮(2)和板弹簧部(10)的发明中,所述悬挂装置(3),其设置Gleitnoppenfederungsabschnitten之间(20)(1) 是。
    • 10. 发明申请
    • VORRICHTUNG UND VERFAHREN FÜR DIE BEARBEITUNG VON MATERIAL MIT FOKUSSIERTER ELEKTROMAGNETISCHER STRAHLUNG
    • 设备和方法材料与集中的电磁辐射治疗
    • WO2012041351A1
    • 2012-04-05
    • PCT/EP2010/005976
    • 2010-09-30
    • WAVELIGHT GMBHWARM, BerndtRIEDEL, PeterGORSCHBOTH, ClaudiaWOITTENNEK, Franziska
    • WARM, BerndtRIEDEL, PeterGORSCHBOTH, ClaudiaWOITTENNEK, Franziska
    • B23K26/04B23K26/06
    • B23K26/046B23K26/04B23K26/0624B23K26/066
    • Eine Vorrichtung für die Bearbeitung von Material (M) mit fokussierter elektromagnetischer Strahlung, weist auf: eine Quelle (10), die elektromagnetische Strahlung (12) emittiert, Mittel (14, 16, 18, 22, 26) zum Richten der Strahlung auf das Material (M), Mittel (28) zum Fokussieren der Strahlung auf oder in dem Material (M), eine Einrichtung (20) zum Erzeugen eines Musters (32) in dem Strahlengang der elektromagnetischen Strahlung, eine zumindest teil reflektierende Fläche (30) im Strahlengang vor dem Fokus (F) der fokussierten Strahlung, wobei das genannte Muster (32) über zumindest einen Teil der genannten Mittel zum Richten und der genannten Mittel zum Fokussieren auf der genannten zumindest teilreflektierenden Fläche (30) abgebildet wird, zumindest einen Detektor (D1, D2) auf den ein Bild des Musters (32) von der genannten Fläche (30) reflektiert wird und der dem genannten Bild entsprechende elektrische Signale erzeugt, wobei das Bild eine Information über die Lage des Fokus (F) enthält, einen Rechner (C), der die genannten elektrischen Signale empfängt und der programmiert ist, das genannte Bild zu verarbeiten, um ein von der Fokuslage abhängiges elektrisches Signal (34) zu erzeugen, und ein Divergenzstellelement (18), das in dem genannten Strahlengang angeordnet und eingerichtet ist, das genannte elektrische Signal (34) des Rechners (10) zu empfangen, um eine Divergenz der elektromagnetischen Strahlung in Abhängigkeit von dem Signal zu ändern.
    • 用于处理材料(M)用聚焦电磁辐射的装置,包括:发射源(10),所述电磁辐射(12),装置(14,16,18,22,26),用于将辐射引导到 材料(M),装置(28),用于聚焦所述辐射或在材料(M)的装置(20),用于在在所述电磁辐射的光路中产生的图案(32),一个至少部分反射表面(30) 在焦点聚焦的辐射的(F)的前面的光路,其特征在于,所述图案(32)是至少显示所述用于引导的装置的一部分,并且所述装置用于聚焦在所述至少部分反射表面(30),至少一个检测器(D1 ,D2)是从图(32)的反射图像,所述表面(30)并生成该图像,所述相应的电信号,其中,在所述焦点的位置的图像信息 含有(F)计算器(C),其接收所述电信号并处理所述图像,以产生一个焦点位置相关的电信号(34),和一个致动器发散的被编程(18) 设置在所述光路并且适合于所述要接收的计算机(10)的电信号(34),以改变电磁辐射的发散响应于所述信号。