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1. 发明授权

US08551202B2 Iodate-containing chemical-mechanical polishing compositions and methods 有权
标题翻译：含碘酸的化学机械抛光组合物和方法
公开(公告)号：US08551202B2
公开(公告)日：2013-10-08
申请号：US11387558
申请日：2006-03-23
申请人： Shoutian Li , Phillip W. Carter , Jian Zhang
发明人： Shoutian Li , Phillip W. Carter , Jian Zhang
IPC分类号： C09G1/02 , C09G1/04
CPC分类号： C09G1/02 , H01L21/3212
摘要： The invention provides compositions and methods for planarizing or polishing a substrate. The composition comprises an abrasive, iodate ion, a nitrogen-containing compound selected from the group consisting of a nitrogen-containing C4-20 heterocycle and a C1-20 alkylamine, and a liquid carrier comprising water.
摘要翻译：本发明提供了用于平坦化或抛光基材的组合物和方法。该组合物包含研磨剂，碘酸根离子，选自含氮的C 4-20杂环和C 1-20烷基胺的含氮化合物和包含水的液体载体。

2. 发明授权

US08497209B2 Oxidation-stabilized CMP compositions and methods 有权
标题翻译：氧化稳定的CMP组合物和方法
公开(公告)号：US08497209B2
公开(公告)日：2013-07-30
申请号：US12764268
申请日：2010-04-21
申请人： Steven K. Grumbine , Renjie Zhou , Zhan Chen , Phillip W. Carter
发明人： Steven K. Grumbine , Renjie Zhou , Zhan Chen , Phillip W. Carter
IPC分类号： H01L21/302 , H01L21/321
CPC分类号： H01L21/3212 , C09G1/02 , C09K3/1463 , C23F3/04 , C23F3/06
摘要： The present invention provides a chemical-mechanical polishing (CMP) composition comprising an amino compound, a radical-forming oxidizing agent, a radical trapping agent capable of inhibiting radical-induced oxidation of the amino compound, and an aqueous carrier therefore. The radical trapping agent is a hydroxyl-substituted polyunsaturated cyclic compound, a nitrogenous compound, or a combination thereof. Optionally, the composition comprises a metal oxide abrasive (e.g., silica, alumina, titania, ceria, zirconia, or a combination of two or more of the foregoing abrasives).
摘要翻译：本发明提供一种包含氨基化合物，自由基形成氧化剂，能够抑制氨基化合物自由基诱导氧化的自由基捕获剂的化学机械抛光（CMP）组合物，以及含水载体。自由基捕获剂是羟基取代的多不饱和环状化合物，含氮化合物或其组合。任选地，组合物包含金属氧化物研磨剂（例如二氧化硅，氧化铝，二氧化钛，二氧化铈，氧化锆，或两种或更多种前述研磨剂的组合）。

3. 发明授权

US08486169B2 Method of polishing a silicon-containing dielectric 有权
标题翻译：抛光含硅电介质的方法
公开(公告)号：US08486169B2
公开(公告)日：2013-07-16
申请号：US12239249
申请日：2008-09-26
申请人： Phillip W. Carter , Timothy P. Johns
发明人： Phillip W. Carter , Timothy P. Johns
IPC分类号： C09G1/02
CPC分类号： C09K3/1463 , C03C19/00 , C09G1/02 , H01L21/31053
摘要： A chemical-mechanical polishing system comprising: (a) ceria abrasive having an average particle size of about 180 nm or less and a positive zeta potential, (b) a polishing additive bearing a functional group with a pKa of about 3 to about 9, wherein the polishing additive is selected from the group consisting of arylamines, aminoalcohols, aliphatic amines, heterocyclic amines, hydroxamic acids, aminocarboxylic acids, cyclic monocarboxylic acids, unsaturated monocarboxylic acids, substituted phenols, sulfonamides, thiols, salts thereof, and combinations thereof, and (c) a liquid carrier, wherein the chemical-mechanical polishing system has a pH of about 4 to about 6.
摘要翻译：一种化学机械抛光系统，包括：（a）具有约180nm或更小的平均粒度和正ζ电位的二氧化铈磨料，（b）具有pKa约3至约9的官能团的抛光添加剂，其中所述抛光添加剂选自芳基胺，氨基醇，脂族胺，杂环胺，异羟肟酸，氨基羧酸，环状单羧酸，不饱和一元羧酸，取代的苯酚，磺酰胺，硫醇，其盐及其组合，以及（c）液体载体，其中所述化学机械抛光系统具有约4至约6的pH。

4. 发明申请

US20100200802A1 OXIDATION-STABILIZED CMP COMPOSITIONS AND METHODS 有权
标题翻译：氧化稳定的CMP组合物和方法
公开(公告)号：US20100200802A1
公开(公告)日：2010-08-12
申请号：US12764268
申请日：2010-04-21
申请人： Steven K. GRUMBINE , Renjie Zhou , Zhan Chen , Phillip W. Carter
发明人： Steven K. GRUMBINE , Renjie Zhou , Zhan Chen , Phillip W. Carter
IPC分类号： C09K13/00
CPC分类号： H01L21/3212 , C09G1/02 , C09K3/1463 , C23F3/04 , C23F3/06
摘要： The present invention provides a chemical-mechanical polishing (CMP) composition comprising an amino compound, a radical-forming oxidizing agent, a radical trapping agent capable of inhibiting radical-induced oxidation of the amino compound, and an aqueous carrier therefore. The radical trapping agent is a hydroxyl-substituted polyunsaturated cyclic compound, a nitrogenous compound, or a combination thereof. Optionally, the composition comprises a metal oxide abrasive (e.g., silica, alumina, titania, ceria, zirconia, or a combination of two or more of the foregoing abrasives).
摘要翻译：本发明提供一种包含氨基化合物，自由基形成氧化剂，能够抑制氨基化合物自由基诱导氧化的自由基捕获剂的化学机械抛光（CMP）组合物，以及含水载体。自由基捕获剂是羟基取代的多不饱和环状化合物，含氮化合物或其组合。任选地，组合物包含金属氧化物研磨剂（例如二氧化硅，氧化铝，二氧化钛，二氧化铈，氧化锆，或两种或更多种前述研磨剂的组合）。

5. 发明授权

US07732393B2 Oxidation-stabilized CMP compositions and methods 失效
标题翻译：氧化稳定的CMP组合物和方法
公开(公告)号：US07732393B2
公开(公告)日：2010-06-08
申请号：US11384538
申请日：2006-03-20
申请人： Steven K. Grumbine , Renjie Zhou , Zhan Chen , Phillip W. Carter
发明人： Steven K. Grumbine , Renjie Zhou , Zhan Chen , Phillip W. Carter
IPC分类号： C09G1/00
CPC分类号： H01L21/3212 , C09G1/02 , C09K3/1463 , C23F3/04 , C23F3/06
摘要： The present invention provides a chemical-mechanical polishing (CMP) composition comprising an amino compound, a radical-forming oxidizing agent, a radical trapping agent capable of inhibiting radical-induced oxidation of the amino compound, and an aqueous carrier therefore. The radical trapping agent is a hydroxyl-substituted polyunsaturated cyclic compound, a nitrogenous compound, or a combination thereof. Optionally, the composition comprises a metal oxide abrasive (e.g., silica, alumina, titania, ceria, zirconia, or a combination of two or more of the foregoing abrasives). The invention further provides a method of chemically-mechanically polishing a substrate with the CMP compositions, as well as a method of enhancing the shelf-life of CMP compositions containing an amine and a radical-forming oxidizing agent, in which a radical trapping agent is added to the CMP composition.
摘要翻译：本发明提供一种包含氨基化合物，自由基形成氧化剂，能够抑制氨基化合物自由基诱导氧化的自由基捕获剂的化学机械抛光（CMP）组合物，以及含水载体。自由基捕获剂是羟基取代的多不饱和环状化合物，含氮化合物或其组合。任选地，组合物包含金属氧化物研磨剂（例如二氧化硅，氧化铝，二氧化钛，二氧化铈，氧化锆，或两种或更多种前述研磨剂的组合）。本发明还提供了用CMP组合物对基材进行化学机械抛光的方法，以及提高含有胺和自由基形成氧化剂的CMP组合物的保存期限的方法，其中自由基捕获剂是添加到CMP组合物中。

6. 发明授权

US07071105B2 Method of polishing a silicon-containing dielectric 失效
标题翻译：抛光含硅电介质的方法
公开(公告)号：US07071105B2
公开(公告)日：2006-07-04
申请号：US10356970
申请日：2003-02-03
申请人： Phillip W Carter , Timothy P Johns
发明人： Phillip W Carter , Timothy P Johns
IPC分类号： H01L21/461 , H01L21/302
CPC分类号： C09K3/1463 , C03C19/00 , C09G1/02 , H01L21/31053
摘要： The invention is directed to a method of polishing a silicon-containing dielectric layer involving the use of a chemical-mechanical polishing system comprising (a) an inorganic abrasive, (b) a polishing additive, and (c) a liquid carrier, wherein the polishing composition has a pH of about 4 to about 6. The polishing additive comprises a functional group having a pKa of about 4 to about 9 and is selected from the group consisting of arylamines, aminoalcohols, aliphatic amines, heterocyclic amines, hydroxamic acids, aminocarboxylic acids, cyclic monocarboxylic acids, unsaturated monocarboxylic acids, substituted phenols, sulfonamides, thiols, salts thereof, and combinations thereof. The invention is further directed to the chemical-mechanical polishing system, wherein the inorganic abrasive is ceria.
摘要翻译：本发明涉及一种抛光含硅介电层的方法，涉及使用化学机械抛光系统，该系统包括（a）无机磨料，（b）抛光添加剂和（c）液体载体，其中抛光组合物具有约4至约6的pH。抛光添加剂包括具有约4至约9的pK a a官能团，并且选自芳基胺，氨基醇，脂族胺杂环胺，异羟肟酸，氨基羧酸，环状单羧酸，不饱和一元羧酸，取代苯酚，磺酰胺，硫醇，其盐及其组合。本发明进一步涉及化学机械抛光系统，其中无机磨料是二氧化铈。

7. 发明授权

US06590051B1 High molecular weight zwitterionic polymers 有权
标题翻译：高分子量两性离子聚合物
公开(公告)号：US06590051B1
公开(公告)日：2003-07-08
申请号：US09767180
申请日：2001-01-22
申请人： Phillip W. Carter , Patrick G. Murray , Larry E. Brammer, Jr. , Andrew J. Dunham
发明人： Phillip W. Carter , Patrick G. Murray , Larry E. Brammer, Jr. , Andrew J. Dunham
IPC分类号： C08F2606
CPC分类号： D21H21/10 , C02F1/56 , C08F2/32 , C08F220/54 , C08F220/56 , D21H17/41 , C08F2220/606 , C08F230/02 , C08F2220/387 , C08F2220/603 , C08F2220/382
摘要： This invention is directed to high molecular weight water-soluble zwitterionic polymers derived from zwitterionic and nonionic monomer units, and to the use of the polymers in papermaking processes.
摘要翻译：本发明涉及衍生自两性离子和非离子单体单元的高分子量水溶性两性离子聚合物，以及在造纸方法中使用聚合物。

8. 发明授权

US06444091B1 Structurally rigid nonionic and anionic polymers as retention and drainage aids in papermaking 有权
标题翻译：结构刚性非离子和阴离子聚合物作为造纸中的保留和排水辅助
公开(公告)号：US06444091B1
公开(公告)日：2002-09-03
申请号：US09740548
申请日：2000-12-20
申请人： William J. Ward , Andrew J. Dunham , Phillip W. Carter , Andrei S. Zelenev
发明人： William J. Ward , Andrew J. Dunham , Phillip W. Carter , Andrei S. Zelenev
IPC分类号： D21H1746
CPC分类号： D21H21/10 , D21H17/55
摘要： This invention concerns a method of increasing retention and drainage in a papermaking furnish comprising adding to the furnish an effective amount of a structurally rigid nonionic or anionic polymer.
摘要翻译：本发明涉及一种在造纸配料中增加保留和排出的方法，包括加入有效量的结构刚性非离子或阴离子聚合物。

9. 发明授权

US06313246B1 High molecular weight zwitterionic polymers 有权
标题翻译：高分子量两性离子聚合物
公开(公告)号：US06313246B1
公开(公告)日：2001-11-06
申请号：US09349054
申请日：1999-07-07
申请人： Phillip W. Carter , Patrick G. Murray , Larry E. Brammer, Jr. , Andrew J. Dunham
发明人： Phillip W. Carter , Patrick G. Murray , Larry E. Brammer, Jr. , Andrew J. Dunham
IPC分类号： C08F2606
CPC分类号： D21H21/10 , C02F1/56 , C08F2/32 , C08F220/54 , C08F220/56 , D21H17/41 , C08F2220/606 , C08F230/02 , C08F2220/387 , C08F2220/603 , C08F2220/382
摘要： This invention is directed to high molecular weight water-soluble zwitterionic polymers derived from zwitterionic and nonionic monomer units, and to the use of the polymers in papermaking processes.
摘要翻译：本发明涉及衍生自两性离子和非离子单体单元的高分子量水溶性两性离子聚合物，以及在造纸方法中使用聚合物。

10. 发明授权

US08178120B2 Methods for processing substrates having an antimicrobial coating 有权
标题翻译：用于处理具有抗微生物涂层的基材的方法
公开(公告)号：US08178120B2
公开(公告)日：2012-05-15
申请号：US12143304
申请日：2008-06-20
申请人： Nathan A. Vandesteeg , John-Bruce D. Green , Vadim V. Krongauz , Phillip W. Carter , Dustin C. Cawthon
发明人： Nathan A. Vandesteeg , John-Bruce D. Green , Vadim V. Krongauz , Phillip W. Carter , Dustin C. Cawthon
IPC分类号： A01N25/34 , A61K33/24 , A61K33/38 , A61K33/14 , A01N59/16 , A01N59/12
CPC分类号： A61L29/106 , A01N25/08 , A01N25/34 , A01N59/16 , A01N59/20 , A61K33/18 , A61K33/24 , A61K33/30 , A61K33/34 , A61K33/38 , A61K45/06 , A61L29/16 , A61L2300/102 , A61L2300/104 , A61L2300/404 , A61L2300/624 , A61L2400/12 , A61K2300/00 , A01N25/04 , A01N59/02 , A01N59/08 , A01N59/12
摘要： Methods for processing substrate surfaces carrying coatings comprising a metal are disclosed. The methods involve providing a substrate surface having a coating comprising a metal, and exposing the substrate surface to a mixture including an oxidizing agent and an anion.
摘要翻译：公开了用于处理承载包含金属的涂层的基材表面的方法。所述方法包括提供具有包含金属的涂层的基底表面，并将基底表面暴露于包括氧化剂和阴离子的混合物。

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