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    • 1. 发明授权
    • High gain bipolar transistor
    • 高增益双极晶体管
    • US06867477B2
    • 2005-03-15
    • US10290975
    • 2002-11-07
    • Jie ZhengPeihua YeMarco Racanelli
    • Jie ZhengPeihua YeMarco Racanelli
    • H01L29/08H01L29/735H01L29/00H01L27/082H01L27/102H01L29/70H01L31/11
    • H01L29/0808H01L29/735
    • According to one exemplary embodiment, a bipolar transistor comprises a base having a top surface. The bipolar transistor might be a lateral PNP bipolar transistor and the base may comprise, for example, N type single crystal silicon. The bipolar transistor further comprises an emitter having a top surface, where the emitter is situated on the top surface of the base. The emitter may comprise P+ type single crystal silicon-germanium, for example. The bipolar transistor further comprises an electron barrier layer situated directly on the top surface of the emitter. The electron barrier layer will cause an increase in the gain, or beta, of the bipolar transistor. The electron barrier layer may be a dielectric such as, for example, silicon oxide. In another embodiment, a floating N+ region, instead of the electron barrier layer, is utilized to increase the gain of the bipolar transistor.
    • 根据一个示例性实施例,双极晶体管包括具有顶表面的基座。 双极晶体管可以是横向PNP双极晶体管,并且基极可以包括例如N型单晶硅。 双极晶体管还包括具有顶表面的发射器,其中发射器位于基极的顶表面上。 例如,发射极可以包括P +型单晶硅 - 锗。 双极晶体管还包括直接位于发射极的顶表面上的电子势垒层。 电子势垒层将引起双极晶体管的增益或β的增加。 电子势垒层可以是电介质,例如氧化硅。 在另一个实施例中,利用浮置N +区而不是电子势垒层来增加双极晶体管的增益。