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1. 发明专利

JP2005202933A Method and apparatus for controlling sensor device 有权
标题翻译：用于控制传感器装置的方法和装置
公开(公告)号：JP2005202933A
公开(公告)日：2005-07-28
申请号：JP2004344135
申请日：2004-11-29
申请人： Onwafer Technologies Inc , オンウェハーテクノロジーズインコーポレーテッドOnwafer Technologies, Inc
发明人： FREED MASON L , SPANOS COSTAS J , MUNDT RANDALL S
IPC分类号： G08C19/00 , G08C17/00 , H01L21/673 , H01L21/68
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To solve the problem that a method is required for performing operation and maintenance not manually but automatically in a manufacture environment for a sensor device such as a semiconductor wafer. SOLUTION: An apparatus, a method, a system and a computer program for maintaining and/or processing the sensor device are provided. A maintenance unit includes a communication device for communicating with the sensor device, and a device for charging a power source of the sensor device. The sensor device comprises a secondary coil and a charger connected thereto, and receives power supply from the maintenance unit in unison with a primary coil on the maintenance unit side. The sensor device and the maintenance unit perform wireless communication with each other using a coil. The maintenance unit operates and maintains the sensor device, communicates with an external information source, and comprises a sensor device detector and a storage device for storing data, calibration coefficients and commands. COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI
摘要翻译：要解决的问题：为了解决在用于诸如半导体晶片的传感器装置的制造环境中不是手动地但是自动地执行操作和维护所需的方法的问题。提供了一种用于维护和/或处理传感器装置的装置，方法，系统和计算机程序。维护单元包括用于与传感器装置进行通信的通信装置和用于对传感器装置的电源进行充电的装置。传感器装置包括次级线圈和连接到其上的充电器，并且从维护单元接收与维护单元侧的初级线圈一致的电源。传感器装置和维护单元使用线圈进行彼此的无线通信。维护单元操作和维护传感器设备，与外部信息源通信，并且包括用于存储数据，校准系数和命令的传感器设备检测器和存储设备。版权所有（C）2005，JPO＆NCIPI

2. 发明专利

JP2004507889A Order to carry out the processing operation, in order to efficiently use, for monitoring, and in order to control, and how to acquire the data, the device 有权
公开(公告)号：JP2004507889A
公开(公告)日：2004-03-11
申请号：JP2002521658
申请日：2001-08-22
申请人：オンウエハーテクノロジーズインコーポレーテッドOnwafer Technologies, Inc.
发明人：スパノス　コスタス　ジェイ , フリード　メイソン　エル , ムント　ランダール　エス
IPC分类号： H01L21/3065 , G05B19/418 , G05B23/02
CPC分类号： G05B19/41865 , G05B2219/32019 , G05B2219/45031 , Y02P90/02 , Y02P90/20
摘要：【課題】製造中の製品の処理や処理に用いられる処理ツールの性能や生産性を向上させるために、対応モデルを発生させ、それを監視し、制御し、処理や処理ツールを効率的に利用するための、データを獲得する方法及び装置を提供することである。
【解決手段】センサー装置１００は、センサー１５０で処理の特性を計測し、計測されたデータを情報プロセッサー２００で処理することで、対応モデルを発生させ、発生した対応モデルを内部コミュニケイター３００で、外部コミュニケイター４００に送信する。
【選択図】図１

3. 发明专利

JP2008506267A Method and apparatus for reducing the distortion of the parameter measurement 有权
公开(公告)号：JP2008506267A
公开(公告)日：2008-02-28
申请号：JP2007520584
申请日：2005-07-08
申请人：オンウェハーテクノロジーズインコーポレーテッドOnwafer Technologies, Inc
发明人：マイケルウェルチ , コスタスジェイスパノス , ディーンハント , カーメッシュウォープーラ , メイソンエルフリード
IPC分类号： H01L21/66 , G01D21/00 , G01K1/14 , H01L21/027
CPC分类号： G01K1/18 , H05K1/147 , H05K1/148
摘要：【課題】加工品を加工するために用いる測定されたパラメーターデータの精度を向上させることができる方法および装置を提供することである。
【解決手段】センサ装置１１０であって、センサ１２０、ベース１１０、ならびに少なくとも一個の電子構成部品１３４および電子回路モジュール支持構造１３８を備える電子回路モジュール１３０を備え、前記少なくとも一個の電子構成部品１３４は前記電子回路モジュール支持構造１３８上に支持され、前記電子回路モジュール支持構造１３８は前記ベース１１０と物理的に接触し、前記電子回路モジュール支持構造１３８は前記センサ１２０との間の電気的結合を有する。
【選択図】図１

5. 发明专利

AU8665901A Methods and apparatus for obtaining data for process operation, optimization, monitoring, and control 未知
公开(公告)号：AU8665901A
公开(公告)日：2002-03-04
申请号：AU8665901
申请日：2001-08-22
申请人： ONWAFER TECHNOLOGIES INC
发明人： FREED MASON L , MUNDT RANDALL S , SPANOS COSTAS J
IPC分类号： H01L21/3065 , G05B19/418 , G05B23/02
摘要： Data are collected for deriving response models and information required for developing and maintaining processes and process tools. Methods and apparatus for collecting the data include a sensor apparatus capable of collecting data with less perturbation and fewer disruptions than is usually possible using standard methods. The sensor apparatus is capable of being loaded into a process tool. From within the process tool, the sensor apparatus is capable of measuring data, processing data, storing data, and transmitting data. The sensor apparatus has capabilities for near real time data collection and communication.

6. 发明专利

TW200641372A 用於終點及使用壽命偵測之診斷電漿感應器 DIAGNOSTIC PLASMA SENSORS FOR ENDPOINT AND END-OF LIFE DETECTION 审中-公开
简体标题：用于终点及使用寿命侦测之诊断等离子感应器 DIAGNOSTIC PLASMA SENSORS FOR ENDPOINT AND END-OF LIFE DETECTION
公开(公告)号：TW200641372A
公开(公告)日：2006-12-01
申请号：TW095103611
申请日：2006-01-27
申请人：安威佛科技公司 ONWAFER TECHNOLOGIES INC.
发明人：丹尼爾C 卡特 CARTER, DANIEL C. , 大衛W 馬得森 MADSEN, DAVID W. , 李奧那多J 馬漢尼 MAHONEY, LEONARD J.
IPC分类号： G01R , H01J , H01L
CPC分类号： H01J37/32935 , G01R31/2642 , H01L22/34
摘要：本發明揭示一種電漿測量器件，其包含：資料感應器，其係用於測量電漿環境特性；以及診斷感應器，其係用於測量與該測量器件的功能完整性相關之特性。本發明之診斷感應器所報告的事件可解釋為該測量器件之故障，其作為警告而需要操作者引起注意或介入，或者可在一預測演算法中用作資料來估計該器件之剩餘可用壽命。藉由提供一種對指示在一電漿測量器件使用該器件期間中出現的錯誤或故障之事件進行偵測之能力，本發明使得該電漿測量器件所收集資料的完整性更加確定性而有把握。
简体摘要：本发明揭示一种等离子测量器件，其包含：数据感应器，其系用于测量等离子环境特性；以及诊断感应器，其系用于测量与该测量器件的功能完整性相关之特性。本发明之诊断感应器所报告的事件可解释为该测量器件之故障，其作为警告而需要操作者引起注意或介入，或者可在一预测算法中用作数据来估计该器件之剩余可用寿命。借由提供一种对指示在一等离子测量器件使用该器件期间中出现的错误或故障之事件进行侦测之能力，本发明使得该等离子测量器件所收集数据的完整性更加确定性而有把握。

7. 发明专利

TWI279530B 低失真參數量測之方法及裝置 METHODS AND APPARATUS FOR LOW DISTORTION PARAMETER MEASUREMENTS 失效
简体标题：低失真参数量测之方法及设备 METHODS AND APPARATUS FOR LOW DISTORTION PARAMETER MEASUREMENTS
公开(公告)号：TWI279530B
公开(公告)日：2007-04-21
申请号：TW094123178
申请日：2005-07-08
申请人：上晶圓科技公司 ONWAFER TECHNOLOGIES, INC.
发明人：杭特狄恩 HUNT, DEAN , 寶拉坎邁斯華 POOLLA, KAMESHWAR , 史派諾斯卡斯塔斯 SPANOS, COSTAS J. , 魏爾契麥可 WELCH, MICHAEL , 佛烈得麥森 FREED, MASON L.
IPC分类号： G01K
CPC分类号： G01K1/18 , H05K1/147 , H05K1/148
摘要：根據本發明之實施例包括用於處理工件所得的量測參數數據之方法及裝置。該等方法及裝置係使用一具有低失真的參數數據之感應裝置。
简体摘要：根据本发明之实施例包括用于处理工件所得的量测参数数据之方法及设备。该等方法及设备系使用一具有低失真的参数数据之感应设备。

8. 发明申请

WO2006010108A2 METHODS AND APPARATUS FOR LOW DISTORTION PARAMETER MEASUREMENTS 审中-公开
标题翻译：低失真参数测量的方法和装置
公开(公告)号：WO2006010108A2
公开(公告)日：2006-01-26
申请号：PCT/US2005/024505
申请日：2005-07-08
申请人： ONWAFER TECHNOLOGIES, INC.
发明人： HUNT, Dean , POOLLA, Kameshwar , SPANOS, Costas, J. , WELCH, Michael , FREED, Mason, L.
IPC分类号： G01K1/00
CPC分类号： G01K1/18 , H05K1/147 , H05K1/148
摘要： This invention seeks to provide methods and apparatus that can improve the accuracy of measured parameter data used for processing workpieces. One aspect of the present invention includes methods of measuring process conditions with low distortion of the measurements caused by the measuring apparatus. The measurements include data for applications such as data for monitoring, controlling, and optimizing processes and process tools. Another aspect of the present invention includes apparatus for measuring substantially correct data for applications such as generating data for monitoring, controlling, and optimizing processes and process tools.
摘要翻译：本发明寻求提供可以提高用于处理工件的测量参数数据的精度的方法和装置。本发明的一个方面包括测量由测量装置引起的测量的低变形的工艺条件的方法。这些测量包括应用程序的数据，例如用于监视，控制和优化流程和流程工具的数据。本发明的另一方面包括用于测量用于诸如生成用于监控，控制和优化过程和处理工具的数据的应用的基本上正确的数据的装置。

9. 发明申请

WO2007041280A3 METHODS OF AND APPARATUSES FOR MEASURING ELECTRICAL PARAMETERS OF A PLASMA PROCESS 审中-公开
标题翻译：用于测量等离子体工艺电气参数的方法和装置
公开(公告)号：WO2007041280A3
公开(公告)日：2007-09-20
申请号：PCT/US2006038029
申请日：2006-09-29
申请人： ONWAFER TECHNOLOGIES INC
发明人： MUNDT RANDY , MACDONALD PAUL D , BEERS ANDREW , FREED MASON L , SPANOS COSTAS J
IPC分类号： B23K9/10
CPC分类号： G01N27/60 , G01K7/25 , G01N33/0004 , G01R15/24 , G01R29/12 , H01L21/67248 , H01L21/67253 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要： A sensor apparatus (100) for measuring a plasma process parameter for processing a workpiece. The sensor apparatus (100) includes base (115), an information processor (130) supported on or in the base (115), and at least one sensor (120) supported on or in the bas (115). The at least one sensor (120) includes at least one sensing element (120A) configured for measuring an electrical property of a plasma and at least one transducer (120B) coupled to the at least one sensing element (120A). The transducer (120B) is configured s as to receive a signal from the sensing element (120A) and converting the signal into a second signal for input to the information processor (130).
摘要翻译：一种用于测量用于处理工件的等离子体工艺参数的传感器装置（100）。传感器装置（100）包括基座（115），支撑在基座（115）上或基座（115）中的信息处理器（130）以及支撑在基座（115）上或基座（115）中的至少一个传感器（120）。所述至少一个传感器（120）包括被配置用于测量等离子体的电特性的至少一个感测元件（120A）和耦合到所述至少一个感测元件（120A）的至少一个换能器（120B）。换能器（120B）被配置为接收来自感测元件（120A）的信号，并将该信号转换成第二信号以输入信息处理器（130）。

10. 发明专利

TWI268429B 具有對感應裝置執行無線充電及通訊之系統、維護單元與基板處理系統以及對感應裝置執行無線充電及通訊之方法 SYSTEMS, MAINTENANCE UNITS AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEMS FOR WIRELESSLY CHARGING AND WIRELESSLY COMMUNICATING WITH SENSOR APPARATUS AS WELL AS METHODS FOR WIRELESSLY CHARGING AND COMMUNICATING WITH SENSOR APPARATUS 有权
简体标题：具有对感应设备运行无线充电及通信之系统、维护单元与基板处理系统以及对感应设备运行无线充电及通信之方法 SYSTEMS, MAINTENANCE UNITS AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEMS FOR WIRELESSLY CHARGING AND WIRELESSLY COMMUNICATING WITH SENSOR APPARATUS AS WELL AS METHODS FOR WIRELESSLY CHARGING AND COMMUNICATING WITH SENSOR APPARATUS
公开(公告)号：TWI268429B
公开(公告)日：2006-12-11
申请号：TW093136293
申请日：2004-11-25
申请人：上晶圓科技公司 ONWAFER TECHNOLOGIES, INC.
发明人：佛烈得‧麥森 FREED, MASON L. , 史派諾斯‧卡斯塔斯 SPANOS, COSTAS J. , 蒙德特‧朗達 MUNDT, RANDALL S.
IPC分类号： G06F
摘要：一種用以維護及儲存感應裝置之維護單元。感應裝置包含一感應裝置電源。於一實施例中，維護單元包含：一殼體，配置成用以容納及儲存感應裝置；一維護單元電源供應器，安裝於殼體上；以及一充電器，與維護單元電源供應器相連接，用以從維護單元電源供應器耦合功率，以對感應裝置電源進行充電。本發明的另一個態樣包括運作感應裝置以及運作維護單元之方法。本發明的再一個態樣包括具有維護單元之系統，或者包括對應維護單元功能之功能。
简体摘要：一种用以维护及存储感应设备之维护单元。感应设备包含一感应设备电源。于一实施例中，维护单元包含：一壳体，配置成用以容纳及存储感应设备；一维护单元电源供应器，安装于壳体上；以及一充电器，与维护单元电源供应器相连接，用以从维护单元电源供应器耦合功率，以对感应设备电源进行充电。本发明的另一个态样包括运作感应设备以及运作维护单元之方法。本发明的再一个态样包括具有维护单元之系统，或者包括对应维护单元功能之功能。

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