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    • 6. 发明专利
    • Enhanced photostability of suncare composition containing avobenzone
    • 增强含有AVOBENZONE的组合物的光化学性能
    • JP2013173798A
    • 2013-09-05
    • JP2013120815
    • 2013-06-07
    • Msd Consumer Care Incエムエスディー コンシューマー ケア, インコーポレイテッド
    • MEYER THOMAS ABEASLEY DONATHAN G
    • A61K8/35A61K8/44A61Q17/04
    • A61Q17/04A61K8/35A61K8/411A61K2800/52
    • PROBLEM TO BE SOLVED: To provide compositions for skin application to protect against harmful effects of ultraviolet radiation, particularly the effects of solar radiation.SOLUTION: The photostability of avobenzone in sunscreen compositions is stabilized against photodegradation through the use of menthyl anthranilate. One example embodiment of the invention encompasses a composition including avobenzone and menthyl anthranilate, wherein the menthyl anthranilate is present in a sufficient amount to stabilize the avobenzone against photodegradation. Another example embodiment of the invention encompasses a method for protecting a skin against ultraviolet radiation, including a step of applying to the skin an effective amount of the composition comprising avobenzone and menthyl anthranilate, wherein the menthyl anthranilate is present in a sufficient amount to stabilize the avobenzone against photodegradation.
    • 要解决的问题:提供用于皮肤应用的组合物,以防止紫外线辐射的有害影响,特别是太阳辐射的影响。解决方案:防晒组合物中阿伏苯宗的光稳定性通过使用邻氨基苯甲酸酯来降解光降解。 本发明的一个示例性实施方案包括组合物,其包含阿伏苯宗和邻氨基苯甲酸薄荷酯,其中以足够的量存在苯甲酸薄荷酯以稳定阿伏苯宗以防光降解。 本发明的另一个示例性实施方案包括用于保护皮肤免受紫外线辐射的方法,包括向皮肤施用有效量的组合物的步骤,所述组合物包含阿伏苯宗和邻氨基苯甲酸薄荷酯,其中以相当的量存在足够的量的稳定 阿伏苯宗抗光降解。