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1. 发明授权

US08291351B2 Intelligent pattern signature based on lithography effects 有权
标题翻译：基于光刻效应的智能图案签名
公开(公告)号：US08291351B2
公开(公告)日：2012-10-16
申请号：US13151208
申请日：2011-06-01
申请人： Junjiang Lei , Kuang-Hao Lay , Srini Doddi , Weiping Fang
发明人： Junjiang Lei , Kuang-Hao Lay , Srini Doddi , Weiping Fang
IPC分类号： G06F17/50
CPC分类号： G06F17/5081 , G03F1/36
摘要： The present invention is directed to an improved method, system, and computer program product for accessing and analyzing patterns in the integrated circuit design. The method, system or computer program product includes generating an intelligent signature for a pattern. The derived pattern signature is an intelligent pattern identifier because it retains only essential information about a pattern that corresponds to lithography printable portions of the pattern. Accordingly, one pattern signature can represent a group of design patterns that are equivalents from a lithography perspective.
摘要翻译：本发明涉及用于访问和分析集成电路设计中的图案的改进的方法，系统和计算机程序产品。方法，系统或计算机程序产品包括为模式生成智能签名。导出的图案签名是智能图案标识符，因为它仅保留关于对应于图案的可光刻印刷部分的图案的必要信息。因此，一个图案签名可以表示与光刻方面相当的一组设计图案。

2. 发明申请

US20090169114A1 INTERPOLATION OF IRREGULAR DATA IN A FINITE-DIMENSIONAL METRIC SPACE IN LITHOGRAPHIC SIMULATION 有权
标题翻译：在一个有限维度空间中的非线性数据的插值模拟
公开(公告)号：US20090169114A1
公开(公告)日：2009-07-02
申请号：US11966920
申请日：2007-12-28
申请人： Srini Doddi , Junjiang Lei , Kuang-Hao Lay , Weiping Fang
发明人： Srini Doddi , Junjiang Lei , Kuang-Hao Lay , Weiping Fang
IPC分类号： G06K9/62
CPC分类号： G06F17/5081
摘要： A method, system, and computer program product for preprocessing a pattern in a library of patterns and querying a preprocessed library of patterns are disclosed. Embodiments for querying a preprocessed library of patterns are disclosed for determining a distance between the representation for the first pattern and the representation for the second pattern, determining whether the distance between the representation for the first pattern and the representation for the second pattern is within the range for the first pattern, and transforming the second pattern with the transformation matrix to provide information about the second pattern. Embodiments for preprocessing a pattern in a library of patterns are disclosed for determining a transformation matrix for the first pattern, determining a range for the first pattern, wherein a distance between a representation for a first pattern and a representation for a second pattern is within the range and the second pattern can be transformed with the transformation matrix to provide information about the second pattern, and associating the range and the transformation matrix with the first pattern.
摘要翻译：公开了一种用于对模式库中的模式进行预处理并查询预处理的模式库的方法，系统和计算机程序产品。公开了用于查询预处理的图案库的实施例，用于确定第一图案的表示与第二图案的表示之间的距离，确定第一图案的表示与第二图案的表示之间的距离是否在范围，并且用变换矩阵变换第二图案以提供关于第二图案的信息。公开了用于预处理图案库中的图案的实施例，用于确定第一图案的变换矩阵，确定第一图案的范围，其中第一图案的表示与第二图案的表示之间的距离在范围，并且第二图案可以用变换矩阵变换以提供关于第二图案的信息，并且将范围和变换矩阵与第一图案相关联。

3. 发明授权

US08358828B2 Interpolation of irregular data in a finite-dimensional metric space in lithographic simulation 有权
标题翻译：在光刻模拟中的有限维度量空间中插入不规则数据
公开(公告)号：US08358828B2
公开(公告)日：2013-01-22
申请号：US11966920
申请日：2007-12-28
申请人： Srini Doddi , Junjiang Lei , Kuang-Hao Lay , Weiping Fang
发明人： Srini Doddi , Junjiang Lei , Kuang-Hao Lay , Weiping Fang
IPC分类号： G06K9/00
CPC分类号： G06F17/5081
摘要： A method, system, and computer program product for preprocessing a pattern in a library of patterns and querying a preprocessed library of patterns are disclosed. Embodiments for querying a preprocessed library of patterns are disclosed for determining a distance between the representation for the first pattern and the representation for the second pattern, determining whether the distance between the representation for the first pattern and the representation for the second pattern is within the range for the first pattern, and transforming the second pattern with the transformation matrix to provide information about the second pattern. Embodiments for preprocessing a pattern in a library of patterns are disclosed for determining a transformation matrix for the first pattern, determining a range for the first pattern, wherein a distance between a representation for a first pattern and a representation for a second pattern is within the range and the second pattern can be transformed with the transformation matrix to provide information about the second pattern, and associating the range and the transformation matrix with the first pattern.
摘要翻译：公开了一种用于对模式库中的模式进行预处理并查询预处理的模式库的方法，系统和计算机程序产品。公开了用于查询预处理的图案库的实施例，用于确定第一图案的表示与第二图案的表示之间的距离，确定第一图案的表示与第二图案的表示之间的距离是否在范围，并且用变换矩阵变换第二图案以提供关于第二图案的信息。公开了用于预处理图案库中的图案的实施例，用于确定第一图案的变换矩阵，确定第一图案的范围，其中第一图案的表示与第二图案的表示之间的距离在范围，并且第二图案可以用变换矩阵变换以提供关于第二图案的信息，并且将范围和变换矩阵与第一图案相关联。

4. 发明申请

US20110239168A1 INTELLIGENT PATTERN SIGNATURE BASED ON LITHOGRAPHY EFFECTS 有权
标题翻译：基于LITHOGRAPHY效应的智能图案签名
公开(公告)号：US20110239168A1
公开(公告)日：2011-09-29
申请号：US13151208
申请日：2011-06-01
申请人： Junjiang Lei , Kuang-Hao Lay , Srini Doddi , Weiping Fang
发明人： Junjiang Lei , Kuang-Hao Lay , Srini Doddi , Weiping Fang
IPC分类号： G06F17/50
CPC分类号： G06F17/5081 , G03F1/36
摘要： The present invention is directed to an improved method, system, and computer program product for accessing and analyzing patterns in the integrated circuit design. The method, system or computer program product includes generating an intelligent signature for a pattern. The derived pattern signature is an intelligent pattern identifier because it retains only essential information about a pattern that corresponds to lithography printable portions of the pattern. Accordingly, one pattern signature can represent a group of design patterns that are equivalents from a lithography perspective.
摘要翻译：本发明涉及用于访问和分析集成电路设计中的图案的改进的方法，系统和计算机程序产品。方法，系统或计算机程序产品包括为模式生成智能签名。导出的图案签名是智能图案标识符，因为它仅保留关于对应于图案的可光刻印刷部分的图案的必要信息。因此，一个图案签名可以表示与光刻方面相当的一组设计图案。

5. 发明授权

US07966586B2 Intelligent pattern signature based on lithography effects 有权
标题翻译：基于光刻效应的智能图案签名
公开(公告)号：US07966586B2
公开(公告)日：2011-06-21
申请号：US11952912
申请日：2007-12-07
申请人： Junjiang Lei , Kuang-Hao Lay , Srini Doddi , Weiping Fang
发明人： Junjiang Lei , Kuang-Hao Lay , Srini Doddi , Weiping Fang
IPC分类号： G06F17/50
CPC分类号： G06F17/5081 , G03F1/36
摘要： The present invention is directed to an improved method, system, and computer program product for accessing and analyzing patterns in the integrated circuit design. The method, system or computer program product includes generating an intelligent signature for a pattern. The derived pattern signature is an intelligent pattern identifier because it retains only essential information about a pattern that corresponds to lithography printable portions of the pattern. Accordingly, one pattern signature can represent a group of design patterns that are equivalents from a lithography perspective.
摘要翻译：本发明涉及用于访问和分析集成电路设计中的图案的改进的方法，系统和计算机程序产品。方法，系统或计算机程序产品包括为模式生成智能签名。导出的图案签名是智能图案标识符，因为它仅保留关于对应于图案的可光刻印刷部分的图案的必要信息。因此，一个图案签名可以表示与光刻方面相当的一组设计图案。

6. 发明申请

US20090150836A1 Intelligent Pattern Signature Based on Lithography Effects 有权
标题翻译：基于光刻效应的智能图案签名
公开(公告)号：US20090150836A1
公开(公告)日：2009-06-11
申请号：US11952912
申请日：2007-12-07
申请人： Junjiang Lei , Kuang-Hao Lay , Srini Doddi , Weiping Fang
发明人： Junjiang Lei , Kuang-Hao Lay , Srini Doddi , Weiping Fang
IPC分类号： G06F17/50
CPC分类号： G06F17/5081 , G03F1/36
摘要： The present invention is directed to an improved method, system, and computer program product for accessing and analyzing patterns in the integrated circuit design. The method, system or computer program product includes generating an intelligent signature for a pattern. The derived pattern signature is an intelligent pattern identifier because it retains only essential information about a pattern that corresponds to lithography printable portions of the pattern. Accordingly, one pattern signature can represent a group of design patterns that are equivalents from a lithography perspective.
摘要翻译：本发明涉及用于访问和分析集成电路设计中的图案的改进的方法，系统和计算机程序产品。方法，系统或计算机程序产品包括为模式生成智能签名。导出的图案签名是智能图案标识符，因为它仅保留关于对应于图案的可光刻印刷部分的图案的必要信息。因此，一个图案签名可以表示与光刻方面相当的一组设计图案。

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