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热词
    • 1. 发明公开
    • VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG BESCHICHTETER SUBSTRATE, BESCHICHTETE SUBSTRATE UND DEREN VERWENDUNG SOWIE ANLAGEN ZUR HERSTELLUNG BESCHICHTETER SUBSTRATE
    • VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG BESCHICHTETER基板
    • EP3117907A1
    • 2017-01-18
    • EP15176519.5
    • 2015-07-13
    • Koch, MatthiasHermann, DieterWilde, Markus
    • Koch, Matthias
    • B05D1/00C23C14/20C23C14/16C23C14/58C23C14/02C23C16/50C23C28/00B05D3/00B05D3/14
    • C23C14/20B05D1/62B05D7/02C09D183/04C09D183/08C23C14/022C23C14/16C23C14/5826C23C16/50C23C28/00C23C28/321C23C28/322C23C28/3225
    • Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines beschichteten nicht-metallischen Substrats, insbesondere Kunststoffsubstrats, umfassend das Aufbringen mindestens einer Metallschicht mit einer Applikationsanlage, das Behandeln der erhaltenen Metallschicht mit mindestens einer siliziumorganischen Verbindung, insbesondere mittels Plasmapolymerisation, unter Ausbildung einer Polysiloxanschicht, die Plasmabehandlung mit dem Plasmagenerator und/oder Corona-Behandlung der Polysiloxanschicht und das Auftragen einer, insbesondere transparenten, Deckschicht auf die behandelte Polysiloxanschicht.
      Ferner betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung eines beschichteten Metallsubstrats, umfassend das Aufbringen mindestens einer Metallschicht mit einer Applikationsanlage, das Behandeln der Metallschicht mit mindestens einer siliziumorganischen Verbindung, insbesondere mittels Plasmapolymerisation, unter Ausbildung einer Polysiloxanschicht, die Plasmabehandlung mit dem Plasmagenerator und/oder Corona-Behandlung der Polysiloxanschicht und das Auftragen einer, insbesondere transparenten, Deckschicht auf die behandelte Polysiloxanschicht.
      Außerdem betrifft die Erfindung ein nicht-metallisches Substrat, erhalten oder erhältlich nach dem erfindungsgemäßen Verfahren sowie ein Metallsubstrat, erhalten oder erhältlich nach dem erfindungsgemäßen Verfahren.
      Schließlich betrifft die Erfindung eine Applikationsanlage für die Aufbringung einer Metallschicht sowie die Verwendung der erfindungsgemäßen Substrate.
    • 本发明涉及一种制造涂覆的非金属基材,特别是塑料基材的方法; 所述方法包括使用施加系统施加至少一个金属层,特别是使用等离子体聚合来处理所获得的金属层,使用至少一种有机硅化合物,使得形成聚硅氧烷层,使用等离子体发生器和/或电晕的等离子体处理 处理聚硅氧烷层,并将外涂层,特别是透明的涂层涂覆到经处理的聚硅氧烷层上。 本发明还涉及一种用于制造涂覆金属基板的方法; 所述方法包括使用应用系统施加至少一个金属层,特别是使用等离子体聚合来处理具有至少一种有机硅化合物的金属层,使得形成聚硅氧烷层,使用等离子体发生器的等离子体处理和/或电晕处理 的聚硅氧烷层,并且将外涂层,特别是透明的涂层涂覆到经处理的聚硅氧烷层。 本发明还涉及根据所公开的方法获得或可以获得的非金属基底,以及根据所公开的方法获得或可以获得的金属基底。 本发明最终涉及用于施加金属层的应用系统以及所公开的基底的使用。
    • 2. 发明公开
    • BESCHICHTETE SUBSTRATE UND DEREN VERWENDUNG SOWIE ANLAGEN ZUR HERSTELLUNG DER BESCHICHTETEN SUBSTRATE
    • 涂覆的基底及其对涂覆基片生产设备使用和
    • EP3120939A1
    • 2017-01-25
    • EP16160981.3
    • 2015-07-13
    • Koch, MatthiasHermann, DieterWilde, Markus
    • Koch, Matthias
    • B05D1/00C23C14/20C23C14/16C23C14/58C23C14/02C23C16/50C23C28/00B05D3/00B05D3/14C09D1/00
    • C23C14/20B05D1/62B05D7/02C09D183/04C09D183/08C23C14/022C23C14/16C23C14/5826C23C16/50C23C28/00C23C28/321C23C28/322C23C28/3225
    • Die vorliegende Erfindung betrifft ein nicht-metallisches Substrat, erhalten oder erhältlich nach einem Verfahren umfassend das Aufbringen mindestens einer Metallschicht mit einer Applikationsanlage, das Behandeln der Metallschicht mit mindestens einer siliziumorganischen Verbindung, insbesondere mittels Plasmapolymerisation, unter Ausbildung einer Polysiloxanschicht, die Plasmabehandlung mit dem Plasmagenerator und/oder Corona-Behandlung der Polysiloxanschicht und das Auftragen einer, insbesondere transparenten, Deckschicht auf die behandelte Polysiloxanschicht. Ferner betrifft die Erfindung ein Metallsubstrat, erhalten oder erhältlich nach einem Verfahren, umfassend das Aufbringen mindestens einer Metallschicht mit einer Applikationsanlage, das Behandeln der erhaltenen Metallschicht mit mindestens einer siliziumorganischen Verbindung, insbesondere mittels Plasmapolymerisation, unter Ausbildung einer Polysiloxanschicht, die Plasmabehandlung mit dem Plasmagenerator und/oder Corona-Behandlung der Polysiloxanschicht und das Auftragen einer, insbesondere transparenten, Deckschicht auf die behandelte Polysiloxanschicht.
      Außerdem betrifft die Erfindung eine Applikationsanlage für die Aufbringung einer Metallschicht auf ein Substrat sowie die Verwendung der erfindungsgemäßen Substrate.
    • 本发明涉及一种用于制造涂覆非金属基材,特别是塑料基板; 所述方法涉及使用等离子体发生器和/或电晕使用到应用系统施加至少一个金属层,利用等离子体聚合与至少一种有机硅化合物处理所得到的金属层,特别是,寻求没有聚硅氧烷层上形成,等离子体处理 处理的聚硅氧烷层,并在施加外涂层,特别是透明的,对治疗的聚硅氧烷层。 本发明还涉及一种用于制造经涂覆的金属基材的方法; 所述方法涉及使用等离子体发生器和/或电晕处理使用到应用系统施加至少一个金属层,利用等离子体聚合与至少一种有机硅化合物处理金属层,特别是,寻求没有聚硅氧烷层上形成,等离子体处理 聚硅氧烷层,并在施加外涂层,特别是透明的,对治疗的聚硅氧烷层。 本发明还涉及到一个非金属基材确实是或可以得到gemäß到盘方法游离缺失,以及一个金属基体做是或可以得到gemäß到盘方法游离缺失。 本发明涉及最后到应用系统用于施加金属层,以及对使用游离缺失盘基板。
    • 5. 发明申请
    • VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG BESCHICHTETER SUBSTRATE, BESCHICHTETE SUBSTRATE UND DEREN VERWENDUNG SOWIE ANLAGEN ZUR HERSTELLUNG BESCHICHTETER SUBSTRATE
    • 用于生产涂布基材,涂层基板,其使用和设备涂覆基片生产
    • WO2017009362A2
    • 2017-01-19
    • PCT/EP2016/066592
    • 2016-07-13
    • WILDE, MarkusHERMANN, DieterKOCH, Matthias
    • KOCH, Matthias
    • B05D1/00C23C14/20C23C14/16C23C14/58C23C14/02C23C16/50C23C28/00B05D3/00B05D3/14
    • C23C14/20B05D1/62B05D7/02C09D183/04C09D183/08C23C14/022C23C14/16C23C14/5826C23C16/50C23C28/00C23C28/321C23C28/322C23C28/3225
    • Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines beschichteten nicht-metallischen Substrats, insbesondere Kunststoff Substrats, umfassend das Aufbringen mindestens einer Metallschicht mit einer Applikationsanlage, das Behandeln der erhaltenen Metall schiebt mit mindestens einer siliziumorganischen Verbindung, insbesondere mittels Plasmapolymerisation, unter Ausbildung einer Polysiloxanschicht, die Plasmabehandlung mit dem Plasmagenerator und/oder Corona- Behandlung der Polysiloxanschicht und das Auftragen einer, insbesondere transparenten, Deckschicht auf die behandelte Polysiloxanschicht. Ferner betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung eines beschichteten Metallsubstrats, umfassend das Aufbringen mindestens einer Metallschicht mit einer Applikationsanlage, das Behandeln der Metallschicht mit mindestens einer siliziumorganischen Verbindung, insbesondere mittels Plasmapolymerisation, unter Ausbildung einer Polysiloxanschicht, die Plasmabehandlung mit dem Plasmagenerator und/oder Corona-Behandlung der Polysiloxanschicht und das Auftragen einer, insbesondere transparenten, Deckschicht auf die behandelte Polysiloxanschicht. Außerdem betrifft die Erfindung ein nicht-metallisches Substrat, erhalten oder erhältlich nach dem erfindungsgemäßen Verfahren sowie ein Metallsubstrat, erhalten oder erhältlich nach dem erfindungsgemäßen Verfahren. Schließlich betrifft die Erfindung eine Applikationsanlage für die Aufbringung einer Metallschicht sowie die Verwendung der erfindungsgemäßen Substrate.
    • 本发明涉及一种用于制造涂覆非金属基底的方法,尤其是塑料基板,包括与应用系统施加至少一个金属层,通过等离子体聚合的装置与至少一种有机硅化合物处理得到的金属滑动,特别地,以形成聚硅氧烷, 与等离子体发生器和/或聚硅氧烷层的电晕处理和特定的透明涂层的聚硅氧烷处理过的层的应用等离子体处理。 此外,本发明涉及一种用于通过等离子体聚合的装置制造涂布的金属基材,包括与应用程序的系统,该方法包括用至少一种有机硅化合物处理该金属层上施加至少一个金属层,特别地,以形成聚硅氧烷层,其中等离子体发生器和/或电晕等离子体处理 处理的聚硅氧烷层的和特定的透明涂层的聚硅氧烷处理过的层的应用。 此外,本发明涉及根据本发明以及通过本发明方法获得或可获得的金属基板的方法获得或可获得的非金属基材。 最后,本发明涉及一种用于金属层的应用以及使用本发明的基板的一个应用系统。