专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明授权

US09170494B2 Antireflective compositions and methods of using same 有权
标题翻译：抗反射组合物及其使用方法
公开(公告)号：US09170494B2
公开(公告)日：2015-10-27
申请号：US13527156
申请日：2012-06-19
申请人： Huirong Yao , Guanyang Lin , JoonYeon Cho
发明人： Huirong Yao , Guanyang Lin , JoonYeon Cho
IPC分类号： G03F7/11 , G03F7/20 , G03F7/40 , G03F7/09 , G03F7/16
CPC分类号： G03F7/091 , G03F7/168 , G03F7/40
摘要： The present invention relates to a novel antireflective coating composition comprising a polymer obtained from a reaction product of at least one amino compound chosen from the group consisting of a polymer with repeat unit of structure (1), structure (2) and mixtures thereof reacted with a hydroxy compound chosen from the group consisting of structure (3), structure (4) and mixtures thereof, and, a thermal acid generator. The invention also relates to a process for using the novel composition in lithography.
摘要翻译：本发明涉及一种新型抗反射涂料组合物，其包含由至少一种氨基化合物的反应产物获得的聚合物，所述反应产物选自具有结构（1）的重复单元的聚合物，结构（2）及其与选自结构（3），结构（4）及其混合物的羟基化合物，以及热酸产生剂。本发明还涉及在光刻中使用该新型组合物的方法。

2. 发明授权

US08835581B2 Neutral layer polymer composition for directed self assembly and processes thereof 有权
标题翻译：用于定向自组装的中性层聚合物组合物及其工艺
公开(公告)号：US08835581B2
公开(公告)日：2014-09-16
申请号：US13492125
申请日：2012-06-08
申请人： Hengpeng Wu , Orest Polishchuk , Yi Cao , SungEun Hong , Jian Yin , Guanyang Lin , Margareta Paunescu , Mark Neisser
发明人： Hengpeng Wu , Orest Polishchuk , Yi Cao , SungEun Hong , Jian Yin , Guanyang Lin , Margareta Paunescu , Mark Neisser
IPC分类号： C08F4/04 , C07C245/04
CPC分类号： C08F4/04 , C07C245/04 , C08F8/12 , C08F212/08 , C08F2800/20 , C08F2810/40 , G03F7/0002 , C08F220/14
摘要： The present invention relates to a novel polymeric composition comprising a novel polymer having two or more repeat units and a terminus having the structure (1): wherein R1 represents a C1-C20 substituted or unsubstituted alkyl group, w is a number from 1-8, X is oxygen (O) or nitrogen (N), and Rd is a reactive group. The invention also relates to a process for forming a pattern using the novel polymeric composition. The invention further relates to a process of making the novel polymer.
摘要翻译：本发明涉及包含具有两个或多个重复单元的新型聚合物和具有结构（1）的末端的新型聚合物组合物：其中R1表示C1-C20取代或未取代的烷基，w为1-8 ，X是氧（O）或氮（N），Rd是反应性基团。本发明还涉及使用新型聚合物组合物形成图案的方法。本发明还涉及制备该新型聚合物的方法。

3. 发明申请

US20130337379A1 ANTIREFLECTIVE COMPOSITIONS AND METHODS OF USING SAME 有权
标题翻译：抗反应性组合物及其使用方法
公开(公告)号：US20130337379A1
公开(公告)日：2013-12-19
申请号：US13527156
申请日：2012-06-19
申请人： Huirong YAO , Guanyang LIN , JoonYeon CHO
发明人： Huirong YAO , Guanyang LIN , JoonYeon CHO
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/091 , G03F7/168 , G03F7/40
摘要： The present invention relates to a novel antireflective coating composition comprising a polymer obtained from a reaction product of at least one amino compound chosen from the group consisting of a polymer with repeat unit of structure (1), structure (2) and mixtures thereof reacted with a hydroxy compound chosen from the group consisting of structure (3), structure (4) and mixtures thereof, and, a thermal acid generator. The invention also relates to a process for using the novel composition in lithography.
摘要翻译：本发明涉及一种新型抗反射涂料组合物，其包含由至少一种氨基化合物的反应产物获得的聚合物，所述反应产物选自具有结构（1）的重复单元的聚合物，结构（2）及其与选自结构（3），结构（4）及其混合物的羟基化合物，以及热酸产生剂。本发明还涉及在光刻中使用该新型组合物的方法。

4. 发明申请

US20110200938A1 Antireflective Compositions and Methods of Using Same 有权
标题翻译：抗反射组合物及其使用方法
公开(公告)号：US20110200938A1
公开(公告)日：2011-08-18
申请号：US12708205
申请日：2010-02-18
申请人： Huirong Yao , Guanyang Lin , Jianhui Shan , Joon Yeon Cho , Salem K. Mullen
发明人： Huirong Yao , Guanyang Lin , Jianhui Shan , Joon Yeon Cho , Salem K. Mullen
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/091
摘要： A novel antireflective coating composition is provided, said antireflective coating composition comprising a) a compound of formula 1, b) a thermal acid generator, (c) at least one polymer, wherein U1 and U2 are independently a C1-C10 alkylene group; V is selected from a C1-C10 alkylene, arylene and aromatic alkylene; W is selected from H, C1-C10 alkyl, aryl, alkylaryl and V—OH; Y is selected from H, W, and U3C(O)OW, wherein U3 is independently a C1-C10 alkylene group, and m is 1 to 10. Also provided are methods using said compositions as antireflective coatings for substrates in lithographic processes.
摘要翻译：提供了一种新型抗反射涂料组合物，所述抗反射涂料组合物包含a）式1化合物，b）热酸产生剂，（c）至少一种聚合物，其中U1和U2独立地为C1-C10亚烷基; V选自C 1 -C 10亚烷基，亚芳基和芳族亚烷基; W选自H，C 1 -C 10烷基，芳基，烷基芳基和V-OH; Y选自H，W和U3C（O）OW，其中U3独立地为C1-C10亚烷基，m为1至10.还提供了使用所述组合物作为光刻工艺中的底物的抗反射涂层的方法。

5. 发明申请

US20060024610A1 Photoresist compositions 有权
公开(公告)号：US20060024610A1
公开(公告)日：2006-02-02
申请号：US10909513
申请日：2004-08-02
申请人： Munirathna Padmanaban , Guanyang Lin , Takanori Kudo , Chi-Sun Hong , M. Dalil Rahman
发明人： Munirathna Padmanaban , Guanyang Lin , Takanori Kudo , Chi-Sun Hong , M. Dalil Rahman
IPC分类号： G03C1/76
CPC分类号： G03F7/0395 , Y10S430/111
摘要： The present invention provides for a photoresist composition comprising a mixture of two different copolymers.

6. 发明授权

US09093263B2 Underlayer composition for promoting self assembly and method of making and using 有权
标题翻译：促进自组装的底层成分及制作及使用方法
公开(公告)号：US09093263B2
公开(公告)日：2015-07-28
申请号：US14039809
申请日：2013-09-27
申请人： Hengpeng Wu , Jian Yin , Guanyang Lin , JiHoon Kim , Jianhui Shan
发明人： Hengpeng Wu , Jian Yin , Guanyang Lin , JiHoon Kim , Jianhui Shan
IPC分类号： H01L21/02 , C03C15/00
CPC分类号： H01L21/02118 , C08F220/14 , C08F220/40 , G03F7/00 , H01L21/02282 , C08F212/08
摘要： Disclosed herein is a formulation for depositing a cured underlayer for promoting the formation of self assembled structures. The underlayer comprises: (a) a polymer comprising at least one pendant vinyl ether monomer repeat unit having the structure, (I): wherein R is chosen from H, C1-C4 alkyl, or halogen, and W is a divalent group chosen from C1-C6 alkylene, C6-C20 arylene, benzylene, or C2-C20 alkyleneoxyalkylene; (ii) optional thermal acid generator; and (c) a solvent. The invention also relates to processes of forming a pattern using the underlayer.
摘要翻译：本文公开了一种用于沉积固化的底层以促进自组装结构的形成的制剂。底层包括：（a）包含至少一种具有以下结构的侧链乙烯基醚单体重复单元的聚合物：（I）：其中R选自H，C 1 -C 4烷基或卤素，W是选自 C1-C6亚烷基，C6-C20亚芳基，亚苄基或C2-C20亚烷基氧亚烷基; （ii）可选的热酸发生器; 和（c）溶剂。本发明还涉及使用底层形成图案的工艺。

7. 发明授权

US08551686B2 Antireflective composition for photoresists 有权
标题翻译：用于光致抗蚀剂的抗反射组合物
公开(公告)号：US08551686B2
公开(公告)日：2013-10-08
申请号：US12609222
申请日：2009-10-30
申请人： Huirong Yao , Guanyang Lin , Mark O. Neisser
发明人： Huirong Yao , Guanyang Lin , Mark O. Neisser
IPC分类号： G03F7/11 , G03F7/38 , G03F7/40 , C09D167/00 , H01L21/027
CPC分类号： C09D167/02 , C08G63/16 , G03F7/091
摘要： The invention relates to an antireflective coating composition for a photoresist layer comprising a polymer, a crosslinking agent and an acid generator, where the polymer comprises at least one unit of structure 1, where, X is a linking moiety selected from a nonaromatic (A) moiety, aromatic (P) moiety and mixture thereof, R′ is a group of structure (2), R″ is independently selected from hydrogen, a moiety of structure (2), Z and W—OH, where Z is a (C1-C20) hydrocarbyl moiety and W is a (C1-C20) hydrocarbylene linking moiety, and, Y′ is independently a (C1-C20) hydrocarbylene linking moiety, where structure (2) is where R1 and R2 are independently selected from H and C1-C4alkyl and L is an organic hydrocarbyl group. The invention further relates to a process for imaging the antireflective coating composition.
摘要翻译：本发明涉及一种用于光致抗蚀剂层的抗反射涂料组合物，其包含聚合物，交联剂和酸产生剂，其中聚合物包含至少一个结构单元1，其中X是选自非芳族（A）部分，芳族（P）部分及其混合物，R'是结构（2）的基团，R“独立地选自氢，结构（2）的部分，Z和W-OH，其中Z是（ C1-C20）烃基部分，W是（C1-C20）亚烃基连接部分，Y'独立地是（C1-C20）亚烃基连接部分，其中结构（2）是其中R 1和R 2独立地选自H 和C 1 -C 4烷基，L是有机烃基。本发明还涉及一种用于对抗反射涂料组合物进行成像的方法。

8. 发明授权

US08486609B2 Antireflective coating composition and process thereof 有权
标题翻译：防反射涂料组合物及其工艺
公开(公告)号：US08486609B2
公开(公告)日：2013-07-16
申请号：US12646191
申请日：2009-12-23
申请人： M. Dalil Rahman , Douglas McKenzie , Huirong Yao , JoonYeon Cho , Yi Yl , Guanyang Lin
发明人： M. Dalil Rahman , Douglas McKenzie , Huirong Yao , JoonYeon Cho , Yi Yl , Guanyang Lin
IPC分类号： G03F7/32 , G03F7/11 , C08G65/48 , C09D165/00
CPC分类号： C09D165/00 , C08G2261/141 , C08G2261/1422 , C08G2261/3424 , C08G2261/42 , C08G2261/50 , C08G2261/76 , C08L65/00 , G03F7/091 , H01L21/0276 , H01L21/3081
摘要： The invention relates to an antireflective coating composition comprising a crosslinker and a crosslinkable polymer capable of being crosslinked by the crosslinker, where the crosslinkable polymer comprises a unit represented by structure (1): A-Bn (1) where A is a fused aromatic ring and B has a structure (2), where R1 is C1-C4alkyl and R2 is C1-C4alkyl. The invention further relates to a process for forming an image using the composition.
摘要翻译：本发明涉及一种抗反射涂料组合物，其包含能够由交联剂交联的交联剂和交联性聚合物，其中可交联聚合物包含由结构（1）表示的单元：A-Bn（1）其中A是稠合芳环和B具有结构式（2），其中R 1是C 1 -C 4烷基，R 2是C 1 -C 4烷基。本发明还涉及使用该组合物形成图像的方法。

9. 发明申请

US20120328990A1 UNDERLAYER COMPOSITION AND PROCESS THEREOF 有权
标题翻译：底层组合物及其工艺
公开(公告)号：US20120328990A1
公开(公告)日：2012-12-27
申请号：US13164869
申请日：2011-06-21
申请人： Huirong YAO , Guanyang LIN , Zachary BOGUSZ , PingHung LU , WooKyu KIM , Mark NEISSER
发明人： Huirong YAO , Guanyang LIN , Zachary BOGUSZ , PingHung LU , WooKyu KIM , Mark NEISSER
IPC分类号： G03F7/20 , C08K5/04
CPC分类号： C08K5/0091 , G03F7/091 , G03F7/094 , C08L33/16 , C08L101/06
摘要： The present invention relates to an underlayer composition comprising a polymer, an organic titanate compound and optionally a thermal acid generator, where the polymer comprises at least one fluoroalcohol group and at least one epoxy group. The invention also relates to a process for using this underlayer material as an antireflective coating composition and/or a hard mask for pattern transfer.
摘要翻译：本发明涉及包含聚合物，有机钛酸盐化合物和任选的热酸发生剂的底层组合物，其中聚合物包含至少一个氟代醇基团和至少一个环氧基团。本发明还涉及使用该底层材料作为抗反射涂料组合物和/或用于图案转印的硬掩模的方法。

10. 发明申请

US20110300488A1 Antireflective Coating Composition and Process Thereof 有权
标题翻译：防反射涂料组合物及其工艺
公开(公告)号：US20110300488A1
公开(公告)日：2011-12-08
申请号：US12792994
申请日：2010-06-03
申请人： Huirong Yao , Jain Yin , Guanyang Lin , Mark Neisser , David Abdallah
发明人： Huirong Yao , Jain Yin , Guanyang Lin , Mark Neisser , David Abdallah
IPC分类号： G03F7/20 , F21V9/06
CPC分类号： G03F7/091 , G02B1/04 , G02B1/111 , G03F7/0046 , C08L33/16 , C08L33/24 , C08L33/066 , C08L61/20 , C08L79/08
摘要： The invention related to an antireflective coating comprising a mixture of a first polymer and a second polymer, and a thermal acid generator, where the first polymer comprises at least one fluoroalcohol moiety, at least one aliphatic hydroxyl moiety, and at least one acid moiety other than fluoroalcohol with a pKa in the range of about 8 to about 11; where the second polymer is a reaction product of an aminoplast compound with a compound comprising at least one hydroxyl and/or at least one acid group. The invention further relates to a process for using the novel composition to form an image.
摘要翻译：本发明涉及包含第一聚合物和第二聚合物和热酸产生剂的混合物的抗反射涂层，其中第一聚合物包含至少一个氟代醇部分，至少一个脂族羟基部分和至少一个酸部分其它而pKa在约8至约11的范围内的氟代醇; 其中第二聚合物是氨基塑料化合物与包含至少一个羟基和/或至少一个酸基团的化合物的反应产物。本发明还涉及使用该组合物形成图像的方法。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式