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    • 10. 发明申请
    • VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM TEMPERIEREN EINES SUBSTRATS
    • DEVICE AND METHOD FOR回火衬底
    • WO2006103073A1
    • 2006-10-05
    • PCT/EP2006/002908
    • 2006-03-30
    • ATT SYSTEMS GMBHEIBL, Markus
    • EIBL, Markus
    • G01R1/04
    • G01R1/0458H01L2924/0002Y10T29/4935H01L2924/00
    • Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zum Temperieren eines Substrats (S) sowie ein Verfahren zur Herstellung einer solchen Vorrichtung, welche umfasst: ein erstes Teilelement (10), das eine Anlagefläche (20) zum Anliegen an das Substrat (S) sowie eine erste Verbindungsfläche (22) aufweist und ein zweites Teilelement (12), das eine zweite Verbindungsfläche (28) aufweist, über die es zumindest teilweise an der ersten Verbindungsfläche (22) des ersten Teilelements (10) anliegt, wobei zumindest eines der beiden Teilelemente (10, 12) Keramikmaterial umfasst, zumindest in einer der beiden Verbindungsflächen (22, 28) zumindest eine Ausnehmung (24, 30) vorgesehen ist, die zumindest einen Hohlraum (32) in der Vorrichtung definiert, und zumindest eine erste Anschlussöffnung vorgesehen ist, über die ein Temperierfluidzu- und/oder -abfluss zu und/oder von dem zumindest einen Hohlraum (32) ermöglicht wird.
    • 本发明涉及一种装置和用于控制衬底(S)的温度的方法和制造这种器件,包括的方法:具有用于抵靠所述基板(S)的接触表面(20)的第一子元件(10)和 具有第一连接面(22)和具有第二接合表面(28)的第二部分元件(12),通过所依靠的第一子元件(10)的第一连接表面(22)上至少部分地,其中,所述两个子元件的至少一个 (10,12)包括陶瓷材料,在两个连接面中的一个的至少(22,28)具有被设置,其限定至少一个腔体(32),在装置中,并且设置至少一个第一连接开口的至少一个凹口(24,30), 在其上Temperierfluidzu-和/或流出到和/或至少一个腔体(32)成为可能。