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    • 3. 发明申请
    • ELEKTROLYSEZELLE MIT INNENRINNE
    • 里面GUTTER电解槽
    • WO2004040040A1
    • 2004-05-13
    • PCT/DE2003/003431
    • 2003-10-16
    • UHDE GMBHDULLE, Karl-HeinzWOLTERING, PeterFUNCK, FrankWOLLNY, MartinKIEFER, RandolfSTEINMETZ, ThomasJANOWITZ, KosmasBECKMANN, RolandDRESEL, TorstenHARTZ, Hans-Joachim
    • DULLE, Karl-HeinzWOLTERING, PeterFUNCK, FrankWOLLNY, MartinKIEFER, RandolfSTEINMETZ, ThomasJANOWITZ, KosmasBECKMANN, RolandDRESEL, TorstenHARTZ, Hans-Joachim
    • C25B15/08
    • C25B9/08C25B9/18C25B15/08
    • Die Erfindung betrifft einen Elektrolyseapparat zur Herstellung von Halogengasen aus wässriger Alkalihalogenidlösung mit mehreren nebeneinander in einem Stapel angeordneten und in elektrischem Kontakt stehenden plattenförmigen Elektrolysezellen, die jeweils ein Gehäuse aus zwei Halbschalen (1), (2) aus elektrisch leitendem Material aufweisen, wobei das Gehäuse Einrichtungen zum Zuführen des Elektrolysestromes und der Elektrolyseeingangsstoffe und Einrichtungen zum Abführen des Elektrolysestroms und der Elektrolyseprodukte sowie eine anodische Elektrode (4), eine kathodische Elektrode (5) und eine dazwischen angeordnete Elektrolysemembran aufweisen, wobei durch Einbauten (7), (12) in zumindest eine der beiden Halbschalen der Elektrolysezelle der Flüssigkeitsstand definiert angehoben und das Volumen des verbleibenden Gasbereiches minimiert wird. Hierbei bilden die Einbauten eine Rinne, die zum Einen parallel zur Elektrolysemembran und zum Anderen horizontal angeordnet verläuft, wobei zwischen Rinne und Elektrolysemembran ein Zwischenraum (9), (14) angeordnet ist, zwischen Rinne und Oberseite des Elektrolyseraums ein Zwischenraum (10), (15) angeordnet ist, der wenigstens teilweise oberhalb der Elektrolysemembran liegt, die Rinne zumindest eine Öffnung zum zwischen Rinne und Oberseite des Elektrolyseraums gelegenen Zwischenraum aufweist, und die Rinne über mindestens einen Ablauf verfügt.
    • 本发明涉及的电解装置用于从碱金属卤化物水溶液卤素气体与几个相邻布置成堆叠并且在电接触板形电解池,其各自具有两个半壳(1)的外壳;(2)由导电材料制成的,其中所述壳体 在具有设备用于供给电解电流和用于除去电解电流和电解产物以及阳极电极(4),一个阴电极(5)和插入的电解质膜电解输入物质和设备,通过折流板(7),(12)至少 液面的电解槽的两个半壳的一个凸起定义和气体的剩余部分的体积被最小化。 在此,折流板,形成以空间(9)平行于电解膜,而在另一水平一方面的通道,(14)被布置在所述通道和电解膜之间,所述通道和所述电解室的顶部,中间室(10)之间,( 15)被布置为至少部分地在电解质膜,其凹槽具有至少一个开口的通道和位于中间空间电解腔的顶部之间的上方,并且所述槽具有至少一个出口。
    • 4. 发明申请
    • EIN- ODER MEHRSEITIGE SUBSTRATBESCHICHTUNG
    • 一个或多个侧面基材涂层
    • WO2011154094A1
    • 2011-12-15
    • PCT/EP2011/002551
    • 2011-05-23
    • UHDE GMBHDULLE, Karl-HeinzFUNCK, FrankHOORMANN, DirkOELMANN, StefanWOLTERING, PeterSCHMITT, CarstenHOFMANN, PhilippBÄUMER, Ulf-Steffen
    • DULLE, Karl-HeinzFUNCK, FrankHOORMANN, DirkOELMANN, StefanWOLTERING, PeterSCHMITT, CarstenHOFMANN, PhilippBÄUMER, Ulf-Steffen
    • C23C14/00C23C14/02C23C14/08C23C14/16C23C14/32B01J37/02C25B11/04
    • C23C14/22B01J21/063B01J23/462B01J23/468B01J37/14B01J37/341B01J37/347C23C14/0021C23C14/024C23C14/08C23C14/083C23C14/16C23C14/325C25B11/0478
    • Ein- oder mehrseitige Substratbeschichtung mit katalytisch aktivem Material herstellbar durch ein Verfahren, umfassend eine Materialabscheidung unter Vakuum in einer Vakuumkammer, wobei die folgenden Schritte durchlaufen werden: (a) Beladung der Vakuumkammer mit mindestens einem Substrat, (b) Verschluss und Evakuierung der Vakuumkammer, (c) Substratreinigung durch Einleitung eines gasförmigen Reduktionsmittels in die Vakuumkammer, (d) Entfernen des gasförmigen Reduktionsmittels, (e) Aufbringen einer Zwischenschicht mittels Vakuumbogenverdampfen, wobei ein Substrat gleiches oder ähnliches Material in die Vakuumkammer geleitet wird, (f) Einstellen der Vakuumkammer auf eine Temperatur von 150°C bis 400°C, (g) Aufbringen einer Beschichtung mittels Vakuumbogenverdampfen, wobei mindestens ein Metall, genommen aus der Gruppe Ruthenium, Iridium, Titan und Mischungen davon in die Vakuumkammer geleitet werden, und über die gesamte Beschichtungszeit Sauerstoff zugeführt wird, (h) in einem letzten Schritt die Vakuumkammer wieder geflutet wird und das beschichtete Substrat der Kammer entnommen wird, wobei die vorgenannten Schritte und Übergänge von einem Schritt zu dem jeweiligen nächsten im Vakuum bei gegebenenfalls unterschiedlichen Drücken, die über ein Schutzgas eingestellt werden, durchgeführt werden, dadurch gekennzeichnet, dass die ein- oder mehrseitige Substratbeschichtung zu mindestens 99 % von ursprünglich im Substrat selbst enthaltenen Bestandteilen freigehalten wird, wobei die auf der Zwischenschicht aufgetragene Beschichtung zu mindestens 99 % von nicht-oxidierten Metallen freigehalten wird.
    • 单个或多个基底涂层与由包含在真空室中的真空下的材料沉积的方法制备的催化活性材料,其中以下步骤被执行:(1)装载具有至少一个基板的真空腔室,(b)中在真空室的闭合和疏散, (c)中通过引入气态还原剂到真空室中通过其中相似的基底或类似的材料被供给到真空腔室Vakuumbogenverdampfen,来施加中间层的基板清洗,(d)除去所述气态还原剂,(E),(F)在真空室设置为 的150℃的温度至400℃,(G),借助于施加涂层Vakuumbogenverdampfen,其中它们引入到真空室中,并且氧气被在整个涂层时提供选自钌,铱,钛及其混合物的采取的至少一个金属 是(h)在一个 最后的步骤中,真空室被再次淹没和腔室的经涂覆的衬底被去除,由此,从一个步骤到在真空中各自的下一个在可能不同的压力下的上述步骤和转换,经由惰性气体设定被执行,其特征在于 与施加到所述中间层用涂组合物中的单个或多个基底涂层保持非氧化金属的自由至少99%被从包含的自我在衬底成分原来保持无至少99%。