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热词
    • 6. 发明授权
    • Method for generating a structure on a substrate
    • 在基板上产生结构的方法
    • US07262118B2
    • 2007-08-28
    • US11062883
    • 2005-02-22
    • Christian Herzum
    • Christian Herzum
    • H01L21/425
    • H01L21/2815
    • The invention relates to a method for generating very short gate structures. In a method for generating a structure on a substrate in accordance with one embodiment of the invention, first of all a layer sequence of a first oxide layer, a first nitride layer and a second oxide layer is disposed onto the substrate. Subsequently, a portion of the second oxide layer and a portion of the first nitride layer is removed in order to expose a portion of the first oxide layer. Then, a part of the first nitride layer above the first oxide layer and below the second oxide layer is removed in order to expose the area of the structure.
    • 本发明涉及一种用于产生非常短的门结构的方法。 在根据本发明的一个实施例的用于在衬底上产生结构的方法中,首先将第一氧化物层,第一氮化物层和第二氧化物层的层序列设置在衬底上。 随后,去除第二氧化物层的一部分和第一氮化物层的一部分,以暴露第一氧化物层的一部分。 然后,除去第一氧化物层之上和第二氧化物层之下的第一氮化物层的一部分以暴露结构的区域。
    • 9. 发明申请
    • Method for generating a structure on a substrate
    • 在基板上产生结构的方法
    • US20050196968A1
    • 2005-09-08
    • US11062883
    • 2005-02-22
    • Christian Herzum
    • Christian Herzum
    • H01L21/28H01L21/311H01L21/8242
    • H01L21/2815
    • The invention relates to a method for generating very short gate structures. In a method for generating a structure on a substrate in accordance with one embodiment of the invention, first of all a layer sequence of a first oxide layer, a first nitride layer and a second oxide layer is disposed onto the substrate. Subsequently, a portion of the second oxide layer and a portion of the first nitride layer is removed in order to expose a portion of the first oxide layer. Then, a part of the first nitride layer above the first oxide layer and below the second oxide layer is removed in order to expose the area of the structure.
    • 本发明涉及一种用于产生非常短的门结构的方法。 在根据本发明的一个实施例的用于在衬底上产生结构的方法中,首先将第一氧化物层,第一氮化物层和第二氧化物层的层序列设置在衬底上。 随后,去除第二氧化物层的一部分和第一氮化物层的一部分,以暴露第一氧化物层的一部分。 然后,除去第一氧化物层之上和第二氧化物层之下的第一氮化物层的一部分以暴露结构的区域。